DE102014101265A1 - Verfahren zum Kalibrieren von Zielwerten und Verarbeitungssysteme, die zum Kalibrieren der Zielwerte konfiguriert sind - Google Patents

Verfahren zum Kalibrieren von Zielwerten und Verarbeitungssysteme, die zum Kalibrieren der Zielwerte konfiguriert sind Download PDF

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Byoung-Hoon Kim
Sung-Won Choi
Jin-Young Lee
Dae-Wook Kim
Chang-Ho Han
Ja-hum Ku
Sang-jin Choi
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Samsung Electronics Co Ltd
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Abstract

Ein Be- bzw. Verarbeitungsverfahren weist ein Bearbeiten eines Wafers basiert auf anfänglichen Daten, ein Messen von Fehlern für jede einer Mehrzahl von Flächen, ein Berechnen einer Fehlerähnlichkeit wenigstens einiger der Mehrzahl von Flächen als eine Funktion eines Trennungsabstands zwischen jedem Paar von einigen der Flächen, ein Auswählen einer ersten Fläche und einer Mehrzahl von zweiten Flächen benachbart zu der ersten Fläche, ein Berechnen von Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen basierend auf den Fehlerähnlichkeiten zwischen jedem Paar von zweiten Flächen und den Fehlerähnlichkeiten zwischen der ersten Fläche und jeder zweiten Fläche, ein Berechnen eines abgeschätzten Fehlers der ersten Fläche basierend auf den gemessenen Fehlern der zweiten Flächen und den Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen und ein Erzeugen abgeschätzter Daten basierend auf den abgeschätzten Fehlern für jede der Mehrzahl von Flächen auf.

Description

  • HINTERGRUND
  • 1. Technisches Gebiet
  • Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sind auf ein Verfahren und ein System zum Bearbeiten bzw. Verarbeiten eines Werkstücks wie beispielsweise eines Wafers oder eines Anzeigefeldes durch ein Kalibrieren oder ein Verschieben einer Überlagerung, eines Fehlers, eines Prozessparameters oder eines Zielwerts gerichtet.
  • 2. Diskussion des Standes der Technik
  • Ein Prozess zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung und eines Paneels bzw. Feldes können ein Verarbeiten bzw. Bearbeiten verschiedener Wafer oder Anzeigefeldeer aufweisen. Die Verarbeitungs- bzw. Bearbeitungsprozesse erhalten nicht immer einheitliche Ergebnisse, sondern sie erhalten vielmehr uneinheitliche Ergebnisse, welche ungleichmäßige Fehler haben. Demzufolge kann ein Prozess zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung kontinuierlich Kalibrierprozessbedingungen aufweisen, welche Resultate des Bearbeitens eines Werkstücks reflektieren. Ein Prozess zum Herstellen eines Halbleiters sollte ein präzises Analysieren des Prozessergebnisses und eine Korrektur des Prozessergebnisses in dem nächsten Prozess aufweisen.
  • KURZFASSUNG
  • Ausführungsformen der erfinderischen Konzepte sehen Verfahren und Systeme vor, welche praktisch das Kriging-Verfahren aus der Geostatistik anwenden.
  • Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sehen ein Verfahren und System zum Kalibrieren einer Überlagerung, eines Fehlers, eines Prozessparameters oder eines Zielwertes in einem Halbleiterherstellungsprozess vor.
  • Andere Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sehen ein Verfahren und ein Verarbeitungssystem bzw. Bearbeitungssystem zum Herstellen eines Halbleiters durch ein Kalibrieren einer Überlagerung, eines Fehlers, eines Vorgangsparameters oder eines Zielwerts vor.
  • Andere Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sehen ein Verfahren und ein System zum Herstellen eines Halbleiters durch ein Abtasten einer Überlagerung, eines Fehlers, eines Prozessparameters oder eines Zielwertes vor.
  • Andere Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sehen ein Verfahren und System zum Herstellen eines Halbleiters durch ein Abschätzen einer Überlagerung, eines Fehlers, eines Prozessparameters oder eines Zielwerts vor.
  • Andere Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sehen ein Verfahren und ein System zum verschiedentlichen Behandeln, Verarbeiten oder Umwandeln von Daten einschließlich einer Überlagerung, eines Fehlers, eines Prozessparameters oder eines Zielwerts in einem Halbleiterherstellungsprozess vor.
  • Aspekte des erfinderischen Konzepts sind nicht durch die obige Beschreibung beschränkt und andere unerwähnte Aspekte werden deutlich durch einen Fachmann aus Ausführungsformen, die hierin beschrieben sind, verstanden werden.
  • In Übereinstimmung mit einem Aspekt des erfinderischen Konzepts weist ein Bearbeitungsverfahren bzw. Verarbeitungsverfahren ein Ver- bzw. Bearbeiten eines Werkstücks, welches eine Mehrzahl von Flächen hat, unter Verwendung anfänglicher Daten, ein Messen von Fehlern für jede der Mehrzahl von Flächen, ein Berechnen einer Fehlerähnlichkeit wenigstens einer der Mehrzahl von Flächen als eine Funktion eines Trennungsabstands zwischen jedem Paar von einigen der Flächen, ein Auswählen einer ersten Fläche und einer Mehrzahl von zweiten Flächen benachbart zu der ersten Fläche, ein Berechnen von Gewichtungsfaktoren fair die zweiten Flächen basierend auf den Fehlerähnlichkeiten zwischen jedem Paar von zweiten Flächen und den Fehlerähnlichkeiten zwischen der ersten Fläche und jeder zweiten Fläche, ein Berechnen eines abgeschätzten Fehlers der ersten Fläche basierend auf den gemessenen Fehlern der zweiten Flächen und den Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen und ein Erzeugen von abgeschätzten Daten basierend auf den abgeschätzten Fehlern fair jede der Mehrzahl von Flächen auf.
  • In Übereinstimmung mit einem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts weist ein Ver- bzw. Bearbeitungsverfahren ein Ver- bzw. Bearbeiten eines ersten Werkstücks, welches eine Mehrzahl von Flächen hat, basierend auf anfänglichen Daten, ein Erzeugen von gemessenen Daten einschließlich Messfehlern der Mehrzahl von Flächen, ein Bestimmen dieser Flächen als Ausreißer bzw. Sonderfall, fair welche ein Absolutwert eines Ausreißer-Faktors größer ist als ein kritischer Ausreißer-Faktor, ein Entfernen der gemessenen Fehler dieser Flächen, welche als Ausreißer bestimmt sind, von den gemessenen Daten, um abgetastete Werte zu erzeugen, ein Berechnen von abgeschätzten Fehlern der Mehrzahl von Flächen basierend auf den gemessenen Fehlern der Mehrzahl von Flächen, ein Addieren der abgeschätzten Fehler zu den abgetasteten Daten, um abgeschätzte Daten zu erzeugen, ein Vergleichen der abgeschätzten Daten mit den anfänglichen Daten, um kalibrierte Daten zu erzeugen, und ein Bearbeiten eines zweiten Werkstücks basierend auf den kalibrierten Daten auf.
  • In Übereinstimmung mit einem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts weist ein Ver- bzw. Bearbeitungsverfahren ein Ver- bzw. Bearbeiten eines Werkstücks auf, welches erste Flächen und zweite Flächen hat, ein Messen erster Fehler der ersten Flächen, ein Abschätzen von zweiten Fehlern der zweiten Flächen, ein Erzeugen von abgeschätzten Daten einschließlich der ersten Fehler und der zweiten Fehler, ein Bestimmen, ob die ersten Flächen Ausreißer sind oder nicht, und ein Streichen bzw. Löschen der ersten Fehler der ersten Flächen, welche als die Ausreißer bestimmt sind, von den gemessenen Daten. In Übereinstimmung mit dem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts weist das Abschätzen der zweiten Fehler ein Berechnen erster Ähnlichkeiten relativ zu einem Abstand zwischen den ersten Fehlern der ersten Flächen, ein Abschätzen zweiter Ähnlichkeiten zwischen Fehlern der ersten Flächen und der zweiten Flächen basierend auf den ersten Ähnlichkeiten, ein Berechnen von Gewichtungsfaktoren für die ersten Fehler der ersten Flächen basierend auf den ersten Ähnlichkeiten und den zweiten Ähnlichkeiten und ein Abschätzen der zweiten Fehler der zweiten Flächen basierend auf den ersten Fehlern, den ersten Ähnlichkeiten, den zweiten Ähnlichkeiten und den Gewichtungsfaktoren auf.
  • In Übereinstimmung mit einem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts weist ein Ver- bzw. Bearbeitungssystem einen Ver- bzw. Bearbeitungsteil, welcher konfiguriert ist, um ein Werkstück, welches eine Mehrzahl von Flächen hat, basierend auf anfänglichen Daten zu bearbeiten, einen Messteil, welcher konfiguriert ist, um Fehler der Mehrzahl von Flächen zu messen und um gemessene Daten zu erzeugen, einen Abtastteil, welcher konfiguriert ist, um einige der gemessenen Fehler aus den gemessenen Daten zu entfernen und um abgetastete Daten zu erzeugen, einen Abschätzungsteil, welcher konfiguriert ist, um abgeschätzte Fehler der Mehrzahl von Flächen zu berechnen, um die abgeschätzten Fehler zu den abgetasteten Daten zu addieren und um abgeschätzte Daten zu erzeugen, und einen Berechnungsteil, welcher konfiguriert ist, um die abgeschätzten Daten mit den anfänglichen Daten zu vergleichen und um kalibrierte Daten zu erzeugen, auf. Der Abschätzungsteil berechnet eine Fehlerähnlichkeit wenigstens einer der Mehrzahl von Flächen als eine Funktion eines Trennungsabstandes zwischen Paaren von Flächen in der Mehrzahl von Flächen, wählt eine erste Fläche und eine Mehrzahl von zweiten Flächen benachbart zu der ersten Fläche aus, berechnet Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen basierend auf den Fehlerähnlichkeiten zwischen jedem Paar von zweiten Flächen und den Fehlerähnlichkeiten zwischen der ersten Fläche und jeder zweiten Fläche und berechnet einen abgeschätzten Fehler der ersten Fläche basierend auf den gemessenen Fehlern der zweiten Flächen und den Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen.
  • In Übereinstimmung mit einem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts weist ein Ver- bzw. Bearbeitungssystem einen Ver- bzw. Bearbeitungsteil, welcher konfiguriert ist, um ein Werkstück, welches eine Mehrzahl von Flächen hat, basierend auf anfänglichen Daten, zu bearbeiten, einen Messteil, welcher konfiguriert ist, um Fehler der Mehrzahl von Flächen zu messen und um gemessene Daten zu erzeugen, einen Abtastteil, welcher konfiguriert ist, um zu bestimmen, ob die gemessenen Fehler Ausreißer sind oder nicht, um gemessene Fehler der Flächen, welche als Ausreißer bestimmt sind, aus den gemessenen Daten zu entfernen, und um abgetastete Daten zu erzeugen, einen Abschätzungsteil, welcher konfiguriert ist, um abgeschätzte Fehler der Mehrzahl von Flächen zu berechnen, um die abgeschätzten Fehler zu den abgetasteten Daten zu addieren und um abgeschätzte Daten zu erzeugen, und einen Berechnungsteil auf, welcher konfiguriert ist, um die abgeschätzten Daten mit den anfänglichen Daten zu vergleichen und um kalibrierte Daten zu erzeugen. Das Bestimmen, ob die gemessenen Fehler Ausreißer sind oder nicht, weist ein Auswählen einer der Mehrzahl von Flächen und ein Auswählen wenigstens zwei zweiter Flächen, welche benachbart zu der ausgewählten Fläche angeordnet sind, ein Berechnen eines gewichteten Mittels der ausgewählten Fläche basierend auf den gemessenen Fehlern der wenigstens zwei benachbarten zweiten Flächen, ein Berechnen eines Ausreißer-Faktors der ausgewählten Fläche basierend auf dem gewichteten Mittel, ein Setzen eines Kriteriums-Ausreißer-Faktors und ein Bestimmen der Bereiche als Ausreißer, für welche ein Absolutwert seines Ausreißer-Faktors größer ist als der Kriteriums-Ausreißer-Faktor ist, auf.
  • In Übereinstimmung mit einem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts, weist ein Ver- bzw. Bearbeitungssystem einen Ver- bzw. Bearbeitungsteil, welcher konfiguriert ist, um ein Werkstück, welches eine Mehrzahl von ersten Flächen und eine Mehrzahl von zweiten Flächen hat, basierend auf anfänglichen Daten zu bearbeiten, einen Messteil, welcher konfiguriert ist, um erste Fehler der Mehrzahl von ersten Flächen zu messen und um gemessene Daten zu erzeugen, einen Abtastteil, welcher konfiguriert ist, um einige der ersten Fehler aus den gemessenen Daten zu entfernen, und um abgetastete Daten zu erzeugen, einen Abschätzungsteil, welcher konfiguriert ist, um zweite Fehler der zweiten Flächen abzuschätzen, um die zweite Fehler zu den abgetasteten Daten zu addieren und um abgeschätzte Daten zu erzeugen, und einen Berechnungsteil auf, welcher konfiguriert ist, um die abgeschätzten Daten mit den anfänglichen Daten zu vergleichen und um kalibrierte Daten zu erzeugen. In Übereinstimmung mit dem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts berechnet der Abschätzungsteil erste Ähnlichkeiten relativ zu einem Abstand zwischen den ersten Fehlern der ersten Flächen, schätzt zweite Ähnlichkeiten zwischen Fehlern der ersten Flächen und den zweiten Flächen basierend auf den ersten Ähnlichkeiten ab, berechnet die Gewichtungsfaktoren für die ersten Fehler der ersten Flächen basierend auf den ersten Ähnlichkeiten und den zweiten Ähnlichkeiten und schätzt die zweiten Fehler der zweiten Flächen basierend auf den ersten Flächen, den ersten Ähnlichkeiten, den zweiten Ähnlichkeiten und den Gewichtungsfaktoren ab.
  • Bestimmte Einzelheiten anderer Ausführungsformen sind in detaillierten Beschreibungen und Zeichnungen enthalten.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist ein Blockschaltbild eines Ver- bzw. Bearbeitungssystems gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts.
  • Die 2A bis 2C sind Flussdiagramme von Ver- bzw. Bearbeitungsverfahren gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts.
  • 3 bis 10C sind Diagramme, welche Ver- bzw. Bearbeitungsverfahren gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts veranschaulichen.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG VON BEISPIELHAFTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Verschiedene Ausführungsformen werden nun vollständiger unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben werden, in welchen beispielhafte Ausführungsformen gezeigt sind. Das erfinderische Konzept kann jedoch in verschiedenen Formen ausgeführt werden und sollte nicht als beschränkt auf die Ausfführungsformen, welche hierin erläutert sind, betrachtet werden.
  • Gleiche Zahlen beziehen sich durchgehend auf gleiche Elemente. Die Zeichnungen sind nicht notwendigerweise maßstabsgetreu, wobei anstelle dessen eine Betonung auf einer Veranschaulichung der Prinzipien der erfinderischen Konzepte platziert ist.
  • 1 ist ein Blockschaltbild eines Bearbeitungssystems bzw. Verarbeitungssystems 10 gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts. Das Bearbeitungssystem 10 kann einen Wafer W bearbeiten und eine kalibrierte oder verschobene bzw. kompensierte Überlagerung, einen Fehler und verschiedene Zielwerte basierend auf Vorverarbeitungs-Überlagerungen, Fehlern und Zielwerten und Nachverarbeitungs-Überlagerungen, Fehlern und verschiedenen anderen Zielwerten erzeugen. Beispielsweise kann das Bearbeitungssystem 10 den Wafer W bearbeiten, eine Überlagerung, einen Fehler oder verschiedene andere Zielwerte des bearbeiteten Wafers W messen, eine Überlagerung, einen Fehler, Zielwerte, Prozessparameter und verschiedene andere Bedingungen kalibrieren oder kompensieren bzw. verschieben derart, dass die Überlagerung, der Fehler oder verschiedene andere Zielwerte des bearbeiteten Wafers W sich näher an die Zielwerte annähern, und wiederholt den Wafer W basierend auf den kalibrierten oder kompensierten Überlagerungen, Fehlern, Zielwerten, Prozessparametern und unter verschiedenen anderen Bedingungen bearbeiten. Zusätzlich kann das Bearbeitungssystem 10 verschiedene Vorgänge bzw. Prozesse durchführen wie beispielsweise einen Ablagerungsprozess, einen Ätzprozess, einen Planarisierungsprozess wie beispielsweise einen chemisch-mechanischen Polier(CMP = Chemical Mechanical Polishing)-Prozess oder einen Rückätz-Prozess, einen Ionen-Injektionsprozess und einen Metallisierungsprozess gemäß anfänglichen Zielen durchführen, Prozessergebnisse messen, um die anfänglichen Ziele zu kalibrieren oder zu kompensieren und wiederholt die Prozesse gemäß den kalibrierten oder kompensierten Zielen durchführen.
  • Bezug nehmend auf 1 kann das Bearbeitungssystem 10 einen Bearbeitungsteil 100, einen Messteil 200 und einen Datenverarbeitungsteil 300 aufweisen. Der Datenverarbeitungsteil 300 kann einen Abtastteil 310, einen Abschätzungsteil 320, einen Berechnungsteil 330 und eine Datenbank 340 aufweisen.
  • Der Bearbeitungsteil 100 kann den Wafer W in einem Halbleiterherstellungsvorgang bearbeiten. Beispielsweise kann der Bearbeitungsteil 100 einen Fotolithographie-Vorgang, einen Abscheidungsvorgang, einen Ätzvorgang, einen Planarisierungsvorgang wie beispielsweise einen CMP-Vorgang, einen Ionen-Injektionsvorgang oder einen Metallisierungsvorgang durchführen. In einer beispielhaften Ausführungsform wird ein Fotolithographie-Vorgang durchgeführt, Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sind jedoch nicht darauf beschränkt. Der Bearbeitungsteil 100 kann einen Vor-Prozess unter Verwendung eines anfänglichen Überlagerungswerts, eines anfänglichen Fehlers oder verschiedener anderer anfänglicher Zielwerte durchführen, welche eingestellt, bestimmt und/oder verteilt sind basierend auf anfänglichen Daten Di, und einen Nach-Prozess durchführen unter Verwendung eines kalibrierten Überlagerungswerts, eines kalibrierten Fehlers oder verschiedener anderer kalibrierter Zielwerte, welche basierend auf kalibrierten Daten Dc zurückgesetzt, bestimmt und/oder verteilt werden. Beispielsweise können der anfängliche Überlagerungswert, Fehler und verschiedene andere Ziele eine ideale Position oder Koordinaten von Aufnahmeflächen SA in einer X-Richtung und/oder Y-Richtung spezifizieren und der Vor-Vorgang kann die Aufnahmeflächen SA wie spezifiziert verschieben bzw. bewegen.
  • Positionen oder Koordinaten der Aufnahmeflächen SA können sich auf anfängliche Startpunkte der jeweiligen Aufnahmeflächen SA beziehen. Das heißt, in jeder der Aufnahmeflächen SA kann ein Fotolithographie-Prozess in einer Position initiiert werden, welche von einer idealen Position aufgrund der kalibrierten Überlagerung des Fehlers oder Zielwerten der kalibrierten Daten Dc verschoben wurde. Der Fotolithographie-Vorgang kann wiederholt werden. Alternativ kann ein erster kalibrierter oder kompensierter Fotolithographie-Prozess durchgeführt werden basierend auf der ersten kalibrierten oder kompensierten Überlagerung, dem Fehler oder verschiedenen anderen Zielwerten, und ein zweiter kalibrierter oder kompensierter Fotolithographie-Prozess kann durchgeführt werden basierend auf zweiten kalibrierten oder kompensierten Überlagerungen, Fehlern oder verschiedenen anderen Zielwerten. Zusätzlich kann in anderen Ausführungsformen der Fotolithographie-Prozess für jede der Aufnahmeflächen SA des Wafers W wiederholt werden. Wenn die anfänglichen Daten Di einen Überlagerungs-Zielwert aufweisen, können die anfänglichen Daten Di Werte aufweisen, welche aus den idealen Überlagerungs-Zielkoordinaten resultieren, welche in einer X- oder einer Y-Richtung verschoben sind. Das heißt, der Fotolithographie-Prozess mag nicht in den idealen Koordinaten für jede der Aufnahmeflächen SA initalisiert und durchgeführt werden sondern er kann vielmehr in den verschobenen Koordinaten jeder der Aufnahmeflächen SA initialisiert und durchgeführt werden. Die idealen Koordinaten können sich auf Koordinaten beziehen, in welche ein Überlagerungsfehler oder ein Ausrichtungsfehler Null (0) ist. Die anfänglichen Daten Di können eine Wafer-Karte bzw. ein Wafer-Abbild oder eine Tabelle sein, in welchen Zielwerte angezeigt sind. Alternativ können die anfänglichen Daten Di einen Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten zum Berechnen von Zielwerten haben.
  • Wenn der Bearbeitungsteil 100 andere Prozesse durchführt, wie beispielsweise einen Ablagerungsprozess, eine Ätzprozess, einen Planarisierungsprozess wie beispielsweise einen CMP-Prozess, einen Ionen-Injektionsprozess oder einen Metallisierungsprozess, können die anfänglichen Prozesse gemäß einer Temperatur, einer Zeit, einem Druck oder verschiedenen anderen anfänglichen Zielprozesswerten durchgeführt werden, und kalibrterte Prozesse können gemäß kalibrierten Zielwerten durchgeführt werden. Der Wafer W, welcher durch den Bearbeitungsteil 100 bearbeitet wird, kann transferiert werden und für den Messteil 200 vorgesehen werden.
  • Der Messteil 200 kann Bearbeitungsergebnisse des Wafers W, welcher durch den Bearbeitungsteil 100 bearbeitet ist, messen, und gemessene Daten Dm erzeugen. Beispielsweise kann der Messteil 200 eine optische Messausstattung, ein Rasterelektronenmikroskop (SEM = Scanning Electron Microsope) oder eine hoch auflösende Messausstattung wie beispielsweise ein Rönten-Photoelektronen-Spektroskopie(XBS = X-Ray Photo Electron Spectroscopy)-System aufweisen.
  • Obwohl der Messteil 200 all die Aufnahmeflächen SA (der 3) messen kann, kann der Messteil 200 Aufnahmeflächen SA abtasten, gemessene Aufnahmeflächen SAm (der 5A bis 5C) auswählen und ausgewählte gemessene Aufnahmeflächen SAm messen, um den Durchsatz und die Produktivität zu verbessern. Beispielsweise können die gemessenen Aufnahmeflächen SAm von allen Aufnahmeflächen SA in verschiedenen Anordnungen abgetastet werden wie beispielsweise konzentrische Kreise, Polygone, sich kreuzende Linien, Gitter oder verschiedene zusammenkommende Flächen, oder sie können willkürlich bzw. zufallsweise aus allen Aufnahmeflächen SA ohne bestimmte Regeln abgetastet werden.
  • Die gemessenen Daten Dm können ein Wafer-Abbild oder eine Tabelle sein, welche gemessene Überlagerungen, Fehler oder Ergebnisse von gemessenen Aufnahmeflächen SAm aufweist. Beispielsweise können die gemessenen Daten Dm Überlagerungsfehler der gemessenen Aufnahmeflächen SAm, Ausrichtungsfehler der gemessenen Aufnahmeflächen SAm, oder Muster, oder Größenfehler, Dickenfehler, Breitenfehler, Längenfehler, Tiefenfehler oder verschiedene andere Fehler der Muster, welche den Ergebnissen der durchgeführten Prozesse entsprechen können, aufweisen. Die gemessenen Daten Dm können für den Datenverarbeitungsteil 300 über ein Netzwerk wie beispielsweise einen lokalen Bus oder ein verdrahtetes/drahtloses Nahbereichsnetzwerk (LAN = Local Area Network) vorgesehen sein. Die gemessenen Daten Dm, welche für den Datenverarbeitungsteil 300 vorgesehen sind, können für den Abtastteil 310 vorgesehen sein und zusätzlich vorgesehen sein für und gespeichert in der Datenbank 340.
  • Der Datenverarbeitungsteil 300 kann die gemessenen Daten Dm von dem Messteil 200 empfangen und verschiedene Prozesse durchführen.
  • Der Abtastteil 310 kann Ausreißer mit unnormalen Werten aus den gemessenen Daten Dm entfernen und abgetastete Daten Ds, welche nur Einlieger bzw. gute Werte aufweisen, erzeugen. Beispielsweise kann der Abtastteil 310 gemessene Ergebnisse der gemessenen Aufnahmeflächen SAm, welche eine unnormale Überlagerung, einen unnormalen Fehler oder verschiedene andere unnormale Zielwerte haben, entfernen. Das heißt, dass eine gemessene Aufnahmefläche SAm, welche als ein Ausreißer bestimmt ist, als eine ungemessene Aufnahmefläche SAn (der 5A bis 5C) betrachtet werden kann. Ein Verfahren zum Bestimmen und Entfernen von Ausreißern wird untenstehend beschrieben werden. Die abgetasteten Daten Ds können ein Wafer-Abbild, eine Tabelle oder einen Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten aufweisen. Die abgetasteten Daten Ds können für den Abschätzungsteil 320 durch einen internen Bus oder ein verdrahtetes/drahtloses Netzwerk vorgesehen sein.
  • Der Abschätzungsteil 320 kann die abgetasteten Ds analysieren, gemessene Werte von ungemessenen Aufnahmeflächen SAn abschätzen und gemessene Ergebnisse und abgeschätzte Daten De, welche abgeschätzte Ergebnisse aufweisen, erzeugen. Das heißt, dass die abgeschätzten De gemessene Werte, gemessene Fehler, abgeschätzte Werte oder abgeschätzte Fehler aller der Aufnahmeflächen SA des Wafers W aufweisen können. Die abgeschätzten Daten De können ein Wafer-Abbild, eine Tabelle oder einen Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten aufweisen. Die abgeschätzten Daten De können für den Berechnungsteil 330 über den internen Bus oder das verdrahtete/drahtlose Netzwerk vorgesehen sein. Ein Verfahren zum Erzeugen der abgeschätzten Daten De wird untenstehend beschrieben werden. Der Abtastteil 310 und der Abschätzungsteil 320 können kontinuierlich Vorgänge in einem einzelnen Verarbeitungsteil durchführen.
  • Der Berechnungsteil 330 kann die abgeschätzten Daten De mit den anfänglichen Daten Di vergleichen und kalibrierte Daten Dc erzeugen. Die kalibrierten Daten Dc können Kompensationsdifferenzen zwischen abgeschätzten Daten De und den anfänglichen Daten Di aufweisen. Beispielsweise können die kalibrierten Daten Dc eine kalibrierte Überlagerung, einen kalibrierten Fehler oder verschiedene andere Zielwerte aufweisen. Die kalibrierten Daten Dc können ein Wafer-Abbild, eine Tabelle oder einen Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten aufweisen. Die kalibrierten Daten Dc können für den Verarbeitungsteil bzw. Bearbeitungsteil 100 und/oder die Datenbank 340 über den internen Bus oder das verdrahtete/drahtlose Netzwerk vorgesehen sein.
  • Die Datenbank 340 kann verschiedene Daten speichern und die verschiedenen Daten für die anderen funktionalen Teile und/oder Ausstattung vorsehen. Beispielsweise kann die Datenbank 340 gesamt oder selektiv die anfänglichen Daten Di, die gemessenen Daten Dm, die abgetasteten Daten Ds, die abgeschätzten Daten De oder die kalibrierten Daten Dc speichern und die anfänglichen Daten Di, die gemessenen Daten Dm, die abgetasteten Daten Ds, die abgeschätzten Daten De oder die kalibrierten Daten Dc für interne Komponenten oder andere Prozessausstattungen und Steuersysteme vorsehen.
  • Danach kann der Bearbeitungsteil 100 die kalibrierten Daten Dc von dem Berechnungsteil 330 oder der Datenbank 340 empfangen und den nächsten Wafer W basierend auf den kalibrierten Zieldaten bearbeiten. Die oben beschriebenen Prozesse können wiederholt werden.
  • Die 2A bis 2C sind Flussdiagramme von Bearbeitungsverfahren und die 3 bis 10C sind Diagramme, welche Bearbeitungsverfahren gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts veranschaulichen. Hierin nachstehend wird ein Verfahren zum Durchführen von Vorgängen bzw. Prozessen unter Verwendung des Verarbeitungs- bzw. Bearbeitungssystems 10, welches in 1 gezeigt ist, beschrieben werden. Zusätzlich können nichtbeschränkende Ausführungsformen annehmen, dass das Bearbeitungsteil 100 Fotolithographie-Ausstattung aufweist, und ein Fotolithographie-Prozess innerhalb des Bearbeitungsteils 100 durchgeführt wird. Demzufolge können Ausführungsformen der Offenbarung annehmen, dass der Fotolithographie-Prozess ein Messen eines Überlagerungsfehlers und ein Kalibrieren oder Kompensieren des Überlagerungsfehlers aufweist. Eine Überlagerung kann sich auf eine Verschiebung eines Orts eines Musters in präzisen Koordinaten oder einen Überlagerungsgrad zwischen einem unteren Muster einem oberen Muster beziehen und ein Überlagerungsfehler kann sich auf einen Überlagerungsversatz, welcher hinsichtlich Null (0) beziehen, was ein idealer Überlagerungswert ist. Idealerweise kann der Überlagerungsfehler so nahe zu Null (0) wie möglich sein.
  • Bezug nehmend auf die 2A und 3 und Tabelle 1 kann ein Bearbeitungsverfahren bzw. Verarbeitungsverfahren ein Vorsehen von anfänglichen Daten Di für den Bearbeitungsteil bzw. Verarbeitungsteil 100 vorsehen (S10). Die anfänglichen Daten Di können anfängliche Prozess-Zielwerte, anfängliche Überlagerungs-Zielwerte oder anfängliche kalibrierte Überlagerungs-Zielwerte aller Aufnahmeflächen SA aufweisen. Ein anfänglicher Zielwert kann ein Vektor für eine Wafer-Abbildung bzw. Wafer-Karte oder eine Tabelle mit numerischen Werten für jeweilige Aufnahmeflächen SA sein. Alternativ kann der anfängliche Zielwert Koordinaten von jeder von Aufnahmeflächen SA aufweisen, welche unter Verwendung eines Satzes von Polynom-Regressionskoeffizienten berechnet werden können.
  • Bezug nehmend auf 3 können anfängliche Zielwerte, anfängliche Überlagerungen oder anfänglich kalibrierte Überlagerungen eines Prozesses zum Bearbeiten des Wafers W, welcher basierend auf den anfänglichen Daten Di durchgeführt werden wird, konzeptuell als eine Wafer-Karte bzw. ein Wafer-Abbild vorgesehen werden. Hierin nachstehend werden Zielwerte oder Fehlerwerte zur Verkürzung benutzt. Die Zielwerte können sich auf verschiedene numerische Werte beziehen, bevor Prozesse durchgeführt werden, während die Fehlerwerte sich auf verschiedene numerische Werte beziehen können, welche durch ein Messen von Prozessergebnissen erhalten werden, nachdem die Prozesse durchgeführt sind. Zusätzlich weisen Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts Prozesse des Kalibrierens oder Kompensieren von Überlagerungsfehlern auf. Demzufolge können numerische Werte von X-Komponenten und Y-Komponenten von Daten, welche untenstehend beschrieben sind, separat bzw. getrennt oder zusammen beschrieben werden.
  • Bezug nehmend auf Tabelle 1 können die anfänglichen Daten Di als eine Tabelle vorgesehen sein. Besonders können die anfänglichen Daten Di einen X-Komponenten-Zielwert Xtarget und einen Y-Komponenten-Zielwert Ytarget für jede der Aufnahmeflächen SA aufweisen. Zur Kürze werden der X-Komponenten-Zielwert Xtarget und der Y-Komponenten-Zielwert Ytarget jeder der Aufnahmeflächen SA durch ganze Zahlen ohne Einheiten repräsentiert. Eine beliebige geeignete Einheit kann für jedes Ausstattungsstück verwendet werden. Beispielsweise können mil, fm, pm, nm, μm oder andere Einheiten verwendet werden. [Tabelle 1]
    Aufnahmefläche Zielwert
    X-Position Y-Position Xtarget Ytarget
    ... ... ... ...
    –5 –4 8 7
    –5 –3 8 9
    ... ... ... ...
    –2 1 10 8
    ... ... ... ...
    1 –2 –9 -7
    ... ... ... ...
    5 4 –8 –9
    5 5 –8 –7
    ... ... ... ...
  • Alternativ können die anfänglichen Daten Di einen Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten aufweisen. Der Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten kann einen Satz von Koeffizienten aufweisen, mit welchem Zielwerte oder Fehler der Aufnahmeflächen SA des Wafer W unter Verwendung eines Verfahrens kleinster Quadrate (least squares method) abgeschätzt werden kann. Beispielsweise kann ein kubisches Verfahren der kleinsten Quadrate verwendet werden, um k1 bis k20 zu erhalten, welche die Gleichungen (1) und (2) erfüllen: Xtarget = k1 + k3X + k5Y + k7X2 + k9XY + k11Y2 + k13X3 + k15X2Y + k17XY2 + k19Y3 (1) und Ytarget = k2 + k4Y + k6X +k8Y2 + k10XY + k12X2 + k14Y3 + k16XY2 + k18X2Y + k20X3 (2), wobei Xtarget einen X-Komponenten-Zielwert jeder Aufnahmefläche bezeichnet, Ytarget einen Y-Komponenten-Zielwert jeder Aufnahmefläche bezeichnet, X und Y Koordinaten für jede Aufnahmefläche bezeichnen, und k1 bis k20 Koeffizienten sind. In anderen Ausführungsformen können die anfänglichen Daten Di 12 Koeffizienten aufweisen, welche unter Verwendung eines quadratischen Verfahrens der kleinsten Quadrate berechnet werden, oder die anfänglichen Daten Di können 30 Koeffizienten aufweisen, welche unter Verwendung eines biquadratischen Verfahrens kleinster Quadrate berechnet werden.
  • X und Y können sich auf Positionskoordinaten eines bestimmten Anordnungsschlüssels bzw. Ausrichtungsschlüssels jeder der Aufnahmeflächen SA oder Koordinaten eines Startpunkts beziehen. X und Y können unter weitere Bezugnahme auf die 8A bis 8C verstanden werden.
  • Zusätzlich können, obwohl in den Gleichungen (1) und (2) ausgelassen, Fehlerkonstanten εx und εy, welche Ausstattungscharakteristiken repräsentieren weiterhin in den Gleichungen (1) und (2) enthalten sein. Das heißt, die Gleichungen (1) und (2) können erweitert werden, um die Gleichungen (3) und (4) zu erhalten: Xtarget = k1 + k3X + k5Y + k7X2 + k9XY + k11Y2 + k13X3 + k15X2Y + k17XY2 + k19Y3 + εx (3) und Ytarget = k2 + k4Y + k6X + k8Y2 + k10XY + k12X2 + k14Y3 + k16XY2 + k18X2Y + k20X3 + εy (4), wobei εx und εy Fehlerkonstanten jedes Ausstattungsteils bezeichnen.
  • Die Fehlerkonstanten εx und εy können erhalten werden basierend auf Charakteristiken jedes Stücks von Prozessausstattung und können Datenfehler verringern und optimale Prozesse durchführen.
  • Bezug nehmend auf die 2A, 4A und 4B kann ein Verfahren zum Kalibrieren von Fehlern ein Vorbearbeiten eines Wafers W in dem Bearbeitungsteil bzw. Verarbeitungsteil 100 aufweisen (S20). Besonders kann das Verfahren ein Vorbearbeiten des Wafers W basierend auf einem anfänglichen Zielwert von anfänglichen Daten Di aufweisen. Beispielsweise kann, wenn der Bearbeitungsteil 100 Fotolithographie-Ausstattung aufweist, der Verarbeitungsteil 100 einen Fotolithographie-Vorprozess durchführen, basierend auf dem zugeführten anfänglichen Zielwert der anfänglichen Daten Di und kann den Wafer W bearbeiten.
  • Bezug nehmend nunmehr auf 4A kann das Bearbeiten des Wafers W ein Beladen eines Wafers W mit einer Fotolackschicht auf einer Plattform 110, ein Einstrahlen von Licht Li von einer Lichtquelle 120 über Spiegel 131 und 132 und einen Scan-Schlitz 140 auf eine Fotomaske 150 und ein Reflektieren von Licht Lr von der Fotomaske 150 auf den Wafer W aufweisen. Die Plattform 110 kann sich in einer X-Richtung und einer Y-Richtung bewegen, und der Scan-Schlitz 140 kann sich in der Y-Richtung bewegen. Zusätzlich kann das Bearbeiten des Wafers W ein Bilden der Fotolackschicht auf dem Wafer W, ein Freilegen der Fotolackschicht unter Verwendung eines Fotolithographie-Prozesses und ein Entwickeln des freiliegenden bzw. belichteten Fotolackschicht, um ein Fotolackmuster zu bilden, aufweisen.
  • Der Wafer W, auf welchem der Fotolithographie-Prozess durchgeführt wird, kann eine Mehrzahl von Aufnahmeflächen SA aufweisen. Die Aufnahmeflächen SA können Flächen sein, welche während eines einzelnen Fotolithographie-Vorgangs freigelegt bzw. belichtet werden. Gepunktete Linien können sich auf imaginäre Grenzen zwischen den Aufnahmeflächen SA beziehen. In anderen Ausführungsformen kann der Wafer W, auf welchem der Fotolithographie-Prozess durchgeführt wird, ein anorganisches Materialmuster oder ein Metallmuster aufweisen, und der Fotolithographie-Prozess kann durch einen Ätzprozess unter Verwendung des Fotolackmusters einer Ätzmaske und dann ein Entfernen des Fotolackmusters durchgeführt werden. Zurückweisend auf 1 kann der Wafer W, auf welchem der Fotolithographie-Prozess durchgeführt wird, übertragen bzw. transferiert und für den Messteil 200 vorgesehen werden.
  • Bezug nehmend auf die 2A und 5A bis 5C kann ein Bearbeitungsverfahren bzw. Verarbeitungsverfahren ein Erzeugen von gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx, Dmy) in dem Messteil 200 aufweisen (S30). Beispielsweise kann die Erzeugung der gemessenen Daten Dm ein Auswählen von Aufnahmeflächen Sam, welche zu messen sind, aus den Aufnahmeflächen SA des bearbeiteten Wafers W, ein Messen von Ergebnissen des Prozesses, welcher auf den Aufnahmeflächen SAm, welche zu messen sind, durchgeführt wird, und ein Anzeigen der gemessenen Ergebnisse R (Rt, Rx, Ry) als ein Wafer-Abbild oder einer Tabelle aufweisen. Die gemessenen Ergebnisse R (Rt, Rx, Ry) können Zielfehler oder Überlagerungsfehler aufweisen. Die Zielfehler können Unterschiede zwischen idealen Zielwerten und gemessenen Werten aufweisen. Die Überlagerungsfehler können Unterschiede zwischen idealen Überlagerungs-Zielkoordinaten und gemessenen Überlagerungs-Zielkoordinaten aufweisen. Beispielsweise können sich die Überlagerungsfehler auf einen Überlagerungsgrad, einen Grad der vertikalen Ausrichtung oder einen Abweichungsgrad zwischen einem anorganischen Muster oder einem metallischen Muster, welches in dem Wafer W enthalten ist, und einem organischen Muster, wie beispielsweise einem Fotolackmuster, welches auf dem Wafer W gebildet ist, beziehen.
  • Wie obenstehend beschrieben ist, können die ausgewählten gemessenen Aufnahmeflächen SAm in verschiedenen Muster wie beispielsweise einem konzentrischen Kreis, einem Polygon, sich kreuzenden Linien, Gittern, verschiedenen versammelten Flächen etc. angeordnet sein. In einer gegenwärtigen nichtbeschränkten Ausführungsform können die ausgewählten gemessenen Aufnahmeflächen SAm als konzentrische Kreise oder konzentrische Polygone angeordnet sein. Die gemessenen Ergebnisse R (Rt, Rx, Ry) können verschiedene Trends haben. Die Aufnahmeflächen SA können gemessene Aufnahmeflächen SAm und ungemessene Aufnahmeflächen SAn aufweisen.
  • Hierin nachstehend wird auf die gemessenen Ergebnisse R (Rt, Rx, Ry) als Fehler R (Rt, Rx, Ry) Bezug genommen werden und beschrieben werden. Das heißt, die gemessenen Ergebnisse R (Rt, Rx, Ry) können verschiedene numerische Werte aufweisen und verschiedene Bedeutungen haben, und sie werden durch den Begriff „Fehler” zur Verkürzung ausgedrückt werden. Demzufolge kann das Wort „Fehler”, wie es in der vorliegenden Offenbarung verwendet wird, als verschiedene Bedeutungen habend verstanden werden, beispielsweise Differenzen bzw. Unterschiede oder Ergebnisse, wie beispielsweise Größen, Dicken, Längen, Breiten, Tiefen, Positionen, Koordinaten oder Formen. Beispielsweise kann in der vorliegenden Offenbarung „Fehler” als „Überlagerungswerte” oder „Überlagerungsfehler” verstanden werden.
  • Bezug nehmend auf 5A bezieht sich Dmt auf vereinheitlichte bzw. vereinigte (unified) gemessene Daten, welche vereinheitlichte Fehler Rt aufweisen können, welche in die Breite gerichtete Fehler wie beispielsweise X-Komponentenfehler Rx und längsgerichtete Fehler wie beispielsweise Y-Komponentenfehler Ry aufweisen können. Bezug nehmend auf 5B können die gemessenen X-Komponentendaten Dmx selektiv die X-Komponentenfehler Rx aufweisen. Bezug nehmend auf 5C können die gemessenen Y-Komponentendaten Dmy selektiv Y-Komponentenfehler Ry aufweisen. Die Fehler R (Rt, Rx, Ry) können verschiedene Richtungen (Fehlerrichtungen) und Längen (Fehlergrößen) wie durch Pfeile angezeigt, repräsentieren. Hierin nachstehend wird auf eine in die Breite gerichtete Komponente Bezug genommen werden als eine X-Komponente und auf eine in die längsgerichtete Komponente wird Bezug genommen werden als eine Y-Komponente.
  • Der Messteil 200 kann vereinheitlichte gemessene Daten Dmt erzeugen, aus den vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt individuell X-Komponentenfehler Rx und Y-Komponentenfehler Ry separieren oder extrahieren und gemessene X-Komponentendaten Dmx und gemessene Y-Komponentendaten Dmy erzeugen. Alternativ können die gemessenen X-Komponentendaten Dmx durch die X-Komponentenfehler Rx erzeugt werden, während die gemessenen Y-Komponentendaten Dmy durch ein Messen der Y-Komponentenfehler Ry erzeugt werden können. In anderen Ausführungsformen kann die Trennung bzw. Separation der gemessenen X-Komponentendaten Dmx und der gemessenen Y-Komponentendaten Dmy durch den Datenverarbeitungsteil 300 durchgeführt werden.
  • Zurückverweisend auf 4A kann, wie obenstehend beschrieben ist, die X-Komponente einer Schrittrichtung entsprechen, in welcher sich die Plattform 110 der Fotolithographie-Ausstattung zum Ziel jeder der Aufnahmeflächen SA bewegt, während die Y-Komponente einer Scan-Richtung entsprechen kann, in welcher der Scan-Schlitz 140 oder die Plattform 110 der Fotolithographie-Ausstattung sich bewegen, um jede der Aufnahmeflächen SA zu belichten bzw. freizulegen. Im Gegensatz dazu kann die Y-Komponente die Schrittrichtung sein, während die Y-Komponente die Scan-Richtung sein kann.
  • Die gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx und Dmy) können für den Datenverarbeitungsteil 300 über den internen Bus oder das verdrahtete/drahtlose Netzwerk vorgesehen werden.
  • Die gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx und Dmy), welche für den Datenverarbeitungsteil 300 vorgesehen sind, können anfänglich für den Abtastteil 310 vorgesehen sein.
  • Wenn die gemessenen Daten Dm, welche für den Datenverarbeitungsteil 300 oder den Abtastungsteil 310 vorgesehen sind, nur die vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt aufweisen, kann der Abtastteil 310 getrennt gemessene X-Komponentendaten Dmx und gemessene Y-Komponentendaten Dmy aus den vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt erzeugen. Beispielsweise können die gemessenen X-Komponentendaten Dmx durch ein teilweises bzw. partielles Differenzieren der vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt hinsichtlich X oder durch ein Entfernen der Y-Komponentenfehler Ry aus den vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt erhalten werden. Die gemessenen Y-Komponentendaten Dmy können durch ein teilweises bzw. partielles Differenzieren der vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt hinsichtlich Y oder durch ein Entfernen der X-Komponentenfehler Rx aus den vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt erhalten werden. Wie obenstehend beschrieben ist, kann, wenn sowohl die gemessenen X-Komponentendaten Dmx als auch die gemessenen Y-Komponentendaten Dmy durch den Messteil 200 vorgesehen werden, der Messteil die gemessenen X-Komponentendaten Dmx und die gemessenen Y-Komponentendaten Dmy getrennt bzw. separat aus den vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt erzeugen.
  • Die Prozesse, welche untenstehend beschrieben sind, können unter Verwendung der vereinheitlichten gemessenen Daten Dmt, der gemessenen X-Komponentendaten Dmy und der gemessenen Y-Komponentendaten Dmy wie benötigt unabhängig wiederholt werden. Zur Verkürzung sei angenommen, dass Ausführungsformen eine Serie von Prozessen durchführen, unabhängig von einer X-Komponente oder einer Y-Komponente, ohne ein Separieren bzw. Trennen einer Serie von Prozessen, welche auf der X-Komponente durchgeführt werden, von einer Serie von Prozessen, welche auf der Y-Komponente durchgeführt werden. Demzufolge können, auch wenn nur einmal in einer vorliegenden Ausführungsform beschrieben, Prozesse, welche beschrieben werden, unter Verwendung jeder gemessenen X-Komponentendaten Dmx oder der gemessenen Y-Komponentendaten Dmy unabhängig oder wiederholt durchgeführt werden, um unabhängig verschiedene vereinheitlichte Daten, X-Komponentendaten und Y-Komponentendaten zu erzeugen. Wie obenstehend beschrieben ist, können die gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx, Dmy) gemessene Fehler R (Rt, Rx, Ry) aufweisen, und ein Prozess des Verarbeiten von Fehlern R (Rt, Rx, Ry), um verschiedene Daten zu erzeugen, wird untenstehend beschrieben werden.
  • Bezug nehmend auf die 2A, 6 und 7A bis 7C kann ein Bearbeitungsverfahren bzw. Verarbeitungsverfahren ein Entfernen von Ausreißern aus den gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx, Dmy) aufweisen, um abgetastete Daten Ds (Dst, Dsx und Dsy) zu erzeugen (S40). Die Ausreißer können sich auf gemessene Aufnahmeflächen SAm beziehen, welche Fehler R (Rt, Rx und Ry) haben, welche eine Toleranz überschreiten oder anormale numerische Werte haben. Demzufolge kann die Erzeugung der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx und Dsy) ein Extrahieren und Entfernen oder Ignorieren der gemessenen Aufnahmeflächen SAm, welche Fehler R (Rt, Rx und Ry) haben, aufweisen, welche die Toleranz überschreiten oder anormale numerische Werte haben, und zwar aus den gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx, Dmy) und ein Vorsehen gemessener Aufnahmeflächen SAm, welche Fehler R (Rt, Rx und Ry) haben, welche normale numerische Werte haben oder innerhalb der Toleranz sind, als ein Wafer-Abbild oder eine Tabelle. Die abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) können auch abgetastete X-Komponentendaten Dsx aufweisen, welche nur normale X-Komponentenfehler Rx aufweisen, abgetastete Y-Komponentendaten Dsy, welche nur normale Y-Komponentenfehler Ry aufweisen, und vereinheitlichte abgetastete Daten Dst, welche sowohl die normalen X-Komponentenfehler Rx als auch die normalen Y-Komponentenfehler Ry aufweisen. Die Erzeugung der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx und Dsy) kann die Prozesse, welche untenstehend beschrieben sind, aufweisen.
  • Bezug nehmend auf 2B kann das Erzeugen der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein Auswählen einer gemessenen Aufnahmefläche SA zur Bestimmung als einen Ausreißer von den vorgesehenen gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx, Dmy) und ein Auswählen benachbarter gemessener Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4 der ausgewählten Aufnahmeflächen SAs aufweisen (S41). Die benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4 können alle gemessenen Aufnahmeflächen SAm aufweisen mit Ausnahme der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs, oder sie können benachbarte gemessene Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4 aufweisen, welche innerhalb eines vorbestimmten Kriteriums-Abstandes d platziert sind. Der Kriteriums-Abstand d kann sich auf den Radius eines Kreises beziehen, dessen Mitte in der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SA platziert ist. Wenn der Kriteriums-Abstand d im Wert zunimmt, kann die Anzahl von benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4, welche in einer kreisförmigen Fläche enthalten sind, zunehmen, was einen Berechnungsprozess verkomplizieren kann, jedoch eine Präzision des berechneten Wertes verbessern kann. Wenn der Kriteriums-Abstand d im Wert abnimmt, kann die Anzahl der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4, welche in einer kreisförmigen Fläche enthalten sind, abnehmen, was einen Berechnungsprozess vereinfachen kann, jedoch eine Präzision des berechneten Wertes verringert. Zusätzlich kann, wenn der Kriteriums-Abstand d zunimmt, der Einfluss der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4 auf die ausgewählte gemessene Aufnahmefläche SAs verringert werden. Gemäß Ausführungsformen kann, um den Berechnungsprozess zu vereinfachen und um die Berechnungszeit zu verringern, ein angemessener beliebiger Kriteriums-Abstand d gewählt werden, um nur die benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4 zu wählen, welche einander beeinflussen können. Gemäß anderen Ausführungsformen mag es keinen Kriteriums-Abstand d geben, und all die gemessenen Aufnahmeflächen SAm des Wafers W können ausgewählt werden, um abgetastete Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) zu erzeugen.
  • Bezug nehmend auf 6 können zur Verkürzung nichtbeschränkende Ausführungsformen annehmen, dass eine ausgewählte gemessene Aufnahmefläche SAs und vier benachbarte gemessene Aufnahmeflächen SAp1–SAp4 ausgewählt sind. Beispielsweise können nichtbeschränkende Ausführungsformen annehmen, dass die ausgewählte gemessene Aufnahmefläche SAs einen Fehler Rs = 4 hat, dass eine erste benachbarte gemessene Aufnahmefläche SAp1 bei einem Abstand d = 1 von der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs einen Fehler Rp1 = 15 hat, dass eine zweite benachbarte gemessene Aufnahmefläche SAp2 bei einem Abstand d = 2 von der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs einen Fehler Rp2 = 14 hat, dass eine dritte benachbarte gemessene Aufnahmefläche SAp3 bei einem Abstand d = 3 von der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs einen Fehler Rp3 = 19 hat, und dass eine vierte benachbarte gemessene Aufnahmefläche SAp4 bei einem Abstand d = 4 von der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs einen Fehler Rp4 = 20 hat.
  • Zurückverweisend auf 2B kann ein Erzeugen der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein Berechnen eines gewichteten Mittels WAS der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs aufweisen (S42). Beispielsweise kann das gewichtete Mittel WAS der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs berechnet werden unter Verwendung von Gleichung (5):
    Figure DE102014101265A1_0002
    wobei WAS das gewichtete Mittel der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche bezeichnet, 1 benachbarte gemessene Aufnahmeflächen bezeichnet, n die Gesamtanzahl der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet, d einen Abstand zwischen den ausgewählten gemessenen Aufnahmeflächen und jeder der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet, und R Fehler jeder der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet.
  • Zurückverweisend auf 6 und Gleichung (5) kann das gewichtete Mittel WAS der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs berechnet werden durch: {(15/1) + 14/2 + 19/3 + 20/4)/(1/1 + 1/2 + 1/3 + 1/4)} = 16. Durch ein wiederholtes Durchführen des oben beschriebenen Prozesses können gewichtete Mittel WA von Fehlern R (Rt, Rx, Ry) all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm berechnet werden. Konzeptuell kann sich die Berechnung des gewichteten Mittels WAS der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs auf die Abschätzung und Berechnung des abgeschätzten Fehlers Rs der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs hinsichtlich des Fehlers Rp der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4 beziehen. Beispielsweise können unter Berücksichtigung der Fehler Rp1 bis Rp4 der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SAp1 bis SAp4, wenn die Fehler Rs der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs, welche in 6 gezeigt ist, ungefähr 16 ist, Fehler Rp (Rp1 bis Rp4) der gemessenen Aufnahmeflächen SAs (SAp1 bis SAp4) kontinuierlich und linear sein.
  • Bezug nehmend auf 2B kann das Erzeugen der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein Berechnen einer Differenz DiffS zwischen dem gewichteten Mittel WAS der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs und dem abgeschätzten und berechneten Fehler Rs der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs aufweisen: DiffS = WAS – Rs (S43). In dem Beispiel der 6 kann, da der Fehler Rs der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs 4 ist, die Differenz Diffs zwischendem gewichteten Mittel WAs und dem Fehler Rs der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs berechnet werden durch: 16 – 4 = 12. Schritt S43 kann wiederholt auf den gemessenen Aufnahmeflächen SAm durchgeführt werden, um zu bestimmen, ob die Aufnahmeflächen SAm Ausreißer sind oder nicht. Durch ein Wiederholen der oben beschriebenen Prozesse können Fehler Rm, gewichtete Mittel WAm und Unterschiede Diffm zwischen den Fehlern Rm und den gewichteten Mitteln WAS, all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm berechnet werden, um zu bestimmen, welche Aufnahmeflächen SAm Ausreißer sind, falls vorhanden.
  • Bezug nehmend auf 2B kann das Erzeugen der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein Berechnen eines Differenzmittels Mean(Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm aller gemessenen Aufnahmeflächen SAm unter Verwendung von Gleichung (6) aufweisen (S44):
    Figure DE102014101265A1_0003
    wobei Mean(Diffm) das Differenzmittel der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln und Fehlern der jeweiligen gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet, und n die Gesamtanzahl der gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet.
  • Beispielhafte Ausführungsformen können annehmen, dass das Differenzmittel Mean(Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm Null (0) ist. Da jedes der gewichteten Mittel WAm und der Fehler Rm einen positiven (+) Wert oder einen negativen (–) Wert haben können, kann das Differenzmittel Mean(Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und den Fehlern Rm eine positive Zahl, eine negative Zahl oder Null (0) sein.
  • Bezug nehmend auf 2B kann das Erzeugen der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein Berechnen einer Standardabweichung Stdev (Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm von all den gemessenen Aufnahmeflächen SAm aufweisen (S45). In einer beispielhaften Ausführungsform kann angenommen werden, dass die Standardabweichung Stdev (Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm 3 ist.
  • Bezug nehmend auf 2B kann das Erzeugen der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein Berechnen von Ausreißer-Faktoren Zs in den jeweiligen gemessenen Aufnahmeflächen SAm aufweisen (S46). Die Berechnung der Ausreißer-Faktoren Zs kann durchgeführt werden unter Verwendung von Gleichung (7). Das heißt, die Berechnung der Ausreißer-Faktoren Zs kann ein Subtrahieren des Differenzmittels Mean (Diffm) zwischen gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm aller der gemessenen Aufnahmeflächen SAm von Differenzen Diffs zwischen gewichteten Mitteln WAS und Fehlern Rs von ausgewählten gemessenen Aufnahmeflächen SAs und ein Dividieren der resultierenden Werte der Substraktion durch eine Standardabweichung Stdev (Diffm) von Differenzen zwischen den gewichteten Mitteln WAm und den fehlenden Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm aufweisen: ZS = {DiffS – Mean(Diffm)}/Stdev(Diffm) (7), wobei Zs den Ausreißer-Faktor jeder der gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet, Diffs eine Differenz zwischen dem gewichteten Mittel und einem Fehler jeder der gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet, Mean (Diffm) ein Differenzmittel von Differenzen zwischen den gewichteten Mitteln und Fehlern all der gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet, und Stdev (Diffm) die Standardabweichung der Differenzen zwischen den gewichteten Mitteln und Fehlern all der gemessenen Aufnahmeflächen bezeichnet.
  • In einer vorliegenden Ausführungsform kann, da die Differenz Diffs zwischen dem gewichteten Mittel WAS und dem Fehler Rs der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs, welche in 6 gezeigt ist, 12 ist, das Differenzmittel Mean (Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm Null (0) ist, und die Standardabweichung Stdev (Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm 3 ist, der Ausreißer-Faktor Zs der ausgewählten gemessenen Aufnahmefläche SAs kann berechnet werden durch: (12-0)/3 = 4.
  • Als ein Beispiel zeigt Tabelle 2 die Fehler Rm und die gewichteten Mittel WAm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm, die Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm der jeweiligen gemessenen Aufnahmeflächen SAm, das Differenzmittel Mean (Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm, die Standardabweichung Stdev (Diffm) der Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm, und Ausreißer-Faktoren Zm. In Tabelle 2 werden numerische Werte durch ganze Zahlen ohne Einheiten zur Verkürzung repräsentiert, und es wird angenommen, dass die Gesamtanzahl der gemessenen Aufnahmeflächen SAm 40 ist. [Tabelle 2]
    Gemessene Aufnahmefläche Nummer Fehler (Rm) Gewichtetes Mittel (WAm) Differenz zwischen gewichtetem Mittel und Fehler (Diffm) Ausreißer-Faktor (Zm)
    SA1 4 16 12 4
    SA2 14 17 3 1
    SA3 10 16 6 2
    SA4 16 19 3 1
    SA5 24 15 –9 –3
    ... ... ... ... ...
    SA40 19 16 –3 –1
    Ein Differenzmittel Mean (Diffm) von Differenzen Diffm zwischen den gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm ist 0.
    Eine Standardabweichung Stdev (Diffm) von Differenzen Diffm zwischen gewichteten Mitteln WAm und Fehlern Rm all der gemessenen Aufnahmeflächen SAm ist 3
  • Bezug nehmend auf 2B kann die Erzeugung der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein Setzen bzw. Einstellen eines Kriteriums-Ausreißer-Faktors Zc jeder der gemessenen Aufnahmeflächen SAm aufweisen (S47), ein Bestimmen, welche der gemessenen Aufnahmeflächen SAm Ausreißer sind, basierend auf den jeweiligen Kriteriums-Ausreißer-Faktoren Zc (S48), und ein Entfernen dieser gemessenen Aufnahmeflächen SAm, welche als Ausreißer bestimmt sind, aus den gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx, Dmy) (S49). Das heißt, die Erzeugung der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) kann ein Entfernen von gemessenen Aufnahmeflächen SAm, welche als Ausreißer bestimmt sind, aus den gemessenen Daten Dm (Dmt, Dmx, Dmy) aufweisen, wobei die Fehler Rm von gemessenen Aufnahmeflächen SAm, welche als Ausreißer bestimmt sind, ignoriert werden, oder ein Betrachten von gemessenen Aufnahmeflächen SAm, welche als Ausreißer bestimmt sind, als ungemessene Aufnahmeflächen SAn.
  • Ein Einstellen des Kriteriums-Ausreißer-Faktors Zc jeder der gemessenen Aufnahmeflächen SAm (S47) kann durchgeführt werden unter Verwendung eines Kriteriumsfehlers basierend auf Fehlergrößen |Rm| jeder der gemessenen Aufnahmeflächen SAm. Beispielsweise kann, unter der Annahme, dass der kritische Wert des Fehlers |Rm| gleich 15 ist, bestimmt werden, ob gemessene Aufnahmeflächen SA4, SA5, ... und SA40, welche Fehler |Rm| größer als den Kriteriumsfehlerwert von 15 haben, Ausreißer sind oder nicht, durch ein striktes Einstellen aktueller Kriteriums-Ausreißerfaktoren Zc, so dass sie relativ niedrig sind, und es kann bestimmt werden, ob die gemessenen Aufnahmeflächen SA1, SA2, SA3, ..., welche Fehler |Rm| haben, welche geringer sind als der kritische Fehlerwert von 15 Ausreißer sind oder nicht durch ein lockeres Einstellen des aktuellen Kriteriums-Ausreißerfaktors Zc, so dass er relativ hoch ist. Besonders werden die gemessenen Aufnahmeflächen SA4, SA5, ... und SA40, welche Fehler |Rm| größer als der Kriteriums-Fehlerwert von 15 haben, als Ausreißer-Flächen-Kandidaten betrachtet. Das Bestimmen, ob die Ausreißer-Flächen-Kandidaten aktuelle Ausreißer sind oder nicht, kann ein striktes Einstellen eines relativ niedrigen Kriteriums-Ausreißer-Faktors Zc von beispielsweise 3 und ein Vergleichen eines Absolutwerts des berechneten Ausreißer-Faktors |Zm| jedes der Ausreißer-Flächen-Kandidaten der gemessenen Aufnahmeflächen SAm mit dem Kriteriums-Ausreißer-Faktor Zc aufweisen. Wenn |Zm| > Zc (= 3) ist, dann ist der Ausreißer-Flächen-Kandidat ein aktueller Ausreißer, andernfalls ist der Ausreißer-Flächen-Kandidat ein Nicht-Ausreißer, wenn |Zm| < Zc (= 3). Zusätzlich werden die gemessenen Aufnahmeflächen SA1, SA2, SA3, ..., welche Fehler |Rm| haben, welche geringer sind als der Kriteriums-Fehlerwert von 15 als Nicht-Ausreißer-Flächen-Kandidaten betrachtet. Die Bestimmung, ob die Nicht-Ausreißer-Flächen-Kandidaten Ausreißer sind oder nicht, kann ein lockeres Setzen eines relativ hohen Kriteriums-Ausreißer-Faktors Zc von beispielsweise 5 und ein Vergleichen eines Absolutwerts des berechneten Ausreißer-Faktors |Zm| jeder der Nicht-Ausreißer-Flächen-Kandidaten der gemessenen Aufnahmeflächen SAm mit dem kritischen Ausreißer-Faktor Zc aufweisen. Wenn |Zm| > Zc (= 5) ist, dann ist der Nicht-Ausreißer-Flächen-Kandidat ein Ausreißer, andernfalls ist der Nicht-Ausreißer-Flächen-Kandidat ein tatsächlicher Nicht-Ausreißer, wenn |Zm| < Zc (= 5) (S48). Das heißt, die Bestimmung der gemessenen Aufnahmeflächen SAm als Ausreißer kann ein Anwenden eines relativ strikten Ausreißer-Bestimmungskriteriums auf die Ausreißer-Flächen-Kandidaten, welche Fehler |Rm| haben, welche größer als der Kritiums-Fehlerwert sind, und ein Anwenden eines relativ lockeren Ausreißer-Bestimmungskriteriums auf die Nicht-Ausreißer-Flächenkandidaten, welche Fehler |Rm| geringer als den Kriteriums-Fehlerwert haben, aufweisen.
  • Durch ein Wiederholen der Schritte S41 bis S48 können all die Ausreißer entfernt werden, so dass abgetastete Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy), welche nur Nicht-Ausreißer haben, erzeugt werden. Die abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) können ein Wafer-Abbild oder eine Tabelle sein. Wie obenstehend beschrieben ist, kann die Erzeugung der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) ein unabhängiges Durchführen der oben beschriebenen Prozesse auf den gemessenen X-Komponentendaten Dmx und den gemessenen Y-Komponentendaten Dmy aufweisen. Demzufolge können die abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) abgetastete X-Komponentendaten Dsx, abgetastete Y-Komponentendaten Dsy und/oder vereinheitlichte abgetastete Daten Dst aufweisen.
  • Die 7A bis 7C zeigen abgetastete Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy), welche nur Nicht-Ausreißer aufweisen, von welchen Ausreißer entfernt sind. Beispielsweise zeigt 7A vereinheitlichte abgetastete Daten Dst, 7B zeigt abgetastete X-Komponentendaten Dsx, und 7C zeigt abgetastete Y-Komponentendaten Dsy. Die abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) können für den Abschätzungsteil 320 vorgesehen sein.
  • Bezug nehmend auf die 2A, 8A bis 8C und 9 kann ein Verfahren zum Kalibrieren von Fehlern gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts ein Erzeugen von abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) aufweisen (S50). Beispielsweise kann das Erzeugen der abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) ein Durchführen der folgenden Prozesse aufweisen.
  • Bezug nehmend auf 2C kann das Erzeugen abgeschätzter Daten De (Det, Dex, Dey) ein Messen einer Ähnlichkeit γ zwischen normal gemessenen Aufnahmeflächen SAm der abgetasteten Daten Ds (Dst, Dsx, Dsy) aufweisen. Die Messung der Ähnlichkeit γ kann ein Berechnen eines Variogramms oder eines Semi-Variogramms aufweisen (S51). Beispielsweise kann die Ähnlichkeit γ zwischen normal gemessenen Aufnahmeflächen SAm berechnet werden unter Verwendung von Gleichung (8):
    Figure DE102014101265A1_0004
    wobei γ eine Ähnlichkeit bezeichnet, h den Bereich von Abständen zwischen Aufnahmeflächen bezeichnet, n die Gesamtanzahl von Aufnahmeflächen, welche innerhalb des Abstandsbereichs angeordnet sind, bezeichnet, R (xi) Fehler einer bestimmten Aufnahmefläche bezeichnet, und R (xi + h) Fehler einer Aufnahmefläche, welche von der bestimmten Aufnahmefläche um h beabstandet ist, bezeichnet.
  • Die Ähnlichkeit γ kann sich auf einen Grad der Ähnlichkeit zwischen Fehlern Ri und Ri+h der gemessenen Aufnahmeflächen SAx und SAx+1 beziehen, welche in einem vorbestimmten Abstand voneinander beabstandet sind. Beispielsweise kann, wenn die Fehler Ri und Ri+h der zwei Aufnahmeflächen SAx und SAx+1 dieselben sind, die Ähnlichkeit γ Null (0) sein. Wenn die Differenz zwischen den Fehlern Ri und Ri+h der zwei Aufnahmeflächen SAx und SAx+1 zunimmt, kann die Ähnlichkeit γ zunehmen. Wenn der Abstand h auf 5 eingestellt wird, kann die Berechnung der Ähnlichkeit γ ein Anwenden einer Differenz zwischen den Fehlern Ri und Ri+h der zwei Aufnahmeflächen SAx und SAx+1, welche einen Abstand von 5 voneinander beabstandet sind, auf all die Aufnahmeflächen SA aufweisen. Der Abstand h kann sich zwischen einem minimalen Abstand und einem maximalen Abstand bewegen. Beispielsweise kann der Abstand h bestimmt werden, so dass er in dem Bereich von „5 bis 6” ist. Demzufolge kann die Gesamtanzahl n der Aufnahmeflächen SA, welche innerhalb des Abstandes h angeordnet sind, bestimmt werden, so dass sie die Gesamtanzahl der Aufnahmeflächen SA ist, welche innerhalb eines Bereiches zwischen dem minimalen Abstand und dem maximalen Abstand angeordnet ist.
  • Bezug nehmend auf die 2C und 8A bis 8D kann ein Erzeugen der abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) ein Auswählen einer Aufnahmefläche SAe, deren Fehler R (Rt, Rx, Ry) abgeschätzt werden werden, und von gemessenen Aufnahmeflächen SApA bis SApD, welche benachbart zu der ausgewählten Aufnahmefläche SAe angeordnet sind (S52), ein Berechnen von Gewichtungsfaktoren der gemessenen Aufnahmeflächen SApA bis SApD, welche benachbart zu der ausgewählten Aufnahmefläche SAe angeordnet sind (S53) und ein Berechnen eines Abschätzungsfehlers Re der ausgewählten Aufnahmefläche SAe basierend auf den Gewichtungsfaktoren (S54) aufweisen. Die ausgewählte Aufnahmefläche SAe kann eine ungemessene Aufnahmefläche SAn sein, oder sie kann eine gemessene Aufnahmefläche Sam sein, von der bestimmt wurde, dass sie ein Ausreißer ist und die entfernt wurde.
  • Bezug nehmend auf 8C kann das Berechnen der Ähnlichkeit γ ein Berechnen einer X-Komponente der Ähnlichkeit γX aufweisen. Beispielsweise kann ein Berechnen der Ähnlichkeit γ ein Berechnen der X-Komponente der Ähnlichkeit γX durch ein Anwenden des Abstandsbereichs h zwischen den gemessenen Aufnahmeflächen SAm auf die X-Richtung in Gleichung (8) aufweisen. Besonders können, auch wenn der Abstand zwischen den benachbarten Aufnahmeflächen SApY1 und SApY2, welche in der Y-Richtung angeordnet sind, weniger als oder gleich dem Abstand zwischen den benachbarten Aufnahmeflächen SApX1 und SApX2, welche in der X-Richtung angeordnet sind (hy ≥ hx) ist, die benachbarten Aufnahmeflächen SApY1 und SApY2, welche in der Y-Richtung angeordnet sind, ausgeschlossen werden, um die X-Komponenten-Ähnlichkeit γX zu berechnen.
  • Bezug nehmend auf 8D kann ein Berechnen der Ähnlichkeit γ ein Berechnen einer Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY aufweisen. Beispielsweise kann ein Berechnen der Ähnlichkeit γ ein Berechnen der Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY durch ein Anwenden des Abstandsbereichs h zwischen den gemessenen Aufnahmeflächen SAm in der Y-Richtung in Gleichung (8) aufweisen. Besonders können, auch wenn der Abstand zwischen den benachbarten Aufnahmeflächen SApX1 und SApX2, welche in der X-Richtung angeordnet sind, weniger als oder gleich dem Abstand zwischen den benachbarten Aufnahmeflächen SApY1 und SApY2, welche in der Y-Richtung angeordnet sind (hX ≥ hY) ist, die benachbarten Aufnahmeflächen SApX1 und SApX2, welche in der X-Richtung angeordnet sind, ausgeschlossen werden, um die Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY zu berechnen.
  • Ein nichtbeschränkendes Beispiel für die Berechnung von verschiedenen Ähnlichkeiten γ, γX und γY wird im Detail unter Bezugnahme auf die 8E bis 8G beschrieben werden. Beispielsweise kann angenommen werden, dass es neun Aufnahmeflächen A bis I gibt, und ein Abstandsbereich h sich für beide Richtungen X und Y von 1 bis 2 bewegt (1 ≤ h ≤ 2).
  • Bezug nehmend auf 8E kann angenommen werden, dass Aufnahmeflächen A bis I, welche innerhalb eines Abstandsbereichs h in der X-Richtung angeordnet sind, neun Kombinationen A-B, A-C, B-C, D-E, D-F, E-F, G-H, G-I und H-I bilden und jeweils Fehler von 0,9; 1,0; 1,1; 1,0; 1,2; 0,9; 0,8; 0,9; und 1,1 haben. Wenn die jeweiligen Aufnahmeflächen A bis I Fehler Ri und Ri+h haben, wie in Tabelle 3 gezeigt ist, kann die X-Komponenten-Ähnlichkeit γX unter Verwendung von Gleichung (8) berechnet werden. Da der Abstandsbereich h sich von 1 bis 2 bewegt, wird 1,5 als ein repräsentativer Wert genommen. Die X-Komponenten-Ähnlichkeit γX zwischen den Fehlern Ri und Ri+h der Aufnahmeflächen A bis I, welche innerhalb eines Abstandes h angeordnet sind, welcher einen repräsentativen Wert von 1,5 hat, können zu 0,0189 berechnet werden. [Tabelle 3]
    Abstandsbereich (1 ≤ h ≤ 2) Ri Ri+h (Ri – Ri+h)2
    Kombinationen der Aufnahmeflächen benachbart in X-Richtung A B 0,9 1,0 0,01
    A C 0,9 1,1 0,04
    B C 1,0 1,1 0,01
    D E 1,0 1,2 0,04
    D F 1,0 0,9 0,01
    E F 1,2 0,9 0,09
    G H 0,8 0,9 0,01
    G I 0,8 1,1 0,09
    H I 0,9 1,1 0,04
    Summe bzw. SUM(Σ) 0,34
    γX = Summe/2n = Summe/18 0,0189
  • Bezug nehmend auf die 8F kann angenommen werden, dass Aufnahmeflächen A bis I, welche innerhalb eines Abstandsbereichs von 1 bis 2 in der Y-Richtung angeordnet sind, neun Kombinationen von A-D, A-G, D-G, B-E, B-H, E-H, C-F, C-I und F-I bilden und jeweils Fehler von 0,9; 1,0; 1,1; 1,0; 1,2; 0,9; 0,8; 0,9; und 1,1 haben. Wenn die jeweiligen Aufnahmeflächen A bis I Fehler Ri und Ri+h haben wie in Tabelle 4 gezeigt ist, kann die Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY unter Verwendung von Gleichung (8) berechnet werden. Da der Abstandsbereich h sich von 1 bis 2 erstreckt, wird 1,5 als repräsentativer Wert genommen. Die Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY zwischen den Fehlern Ri und Ri+h der Aufnahmeflächen A bis I, welche innerhalb eines Abstandes h angeordnet sind, welcher einen repräsentativen Wert von 1,5 hat, kann zu 0,0156 berechnet werden. [Tabelle 4]
    Abstandsbereich (1 ≤ h ≤ 2) Ri Ri+h (Ri – Ri+h)2
    Kombinationen der Aufnahmeflächen benachbart in Y-Richtung A D 0,9 1,0 0,01
    A G 0,9 0,8 0,01
    D G 1,0 0,8 0,04
    B E 1,0 1,2 0,04
    B H 1,0 0,9 0,01
    E H 1,2 0,9 0,09
    C F 1,1 0,9 0,04
    C I 1,1 1,1 0
    F I 0,9 1,1 0,04
    Summe (Σ) 0,28
    γY = Summe/2n = Summe/18 0,0156
  • Bezug nehmend auf 8G kann angenommen werden, dass Aufnahmeflächen A bis I, welche innerhalb eines Abstandsbereichs von h 1 bis 2 in einer Richtung anders als der X- und der Y-Richtung angeordnet sind, beispielsweise unter einem Winkel oder in einer diagonalen Richtung acht Kombinationen A-E, B-D, B-F, C-E, D-H, E-G, E-I und F-H bilden und jeweils Fehler von 0,9; 1,0; 1,1; 1,0; 1,2; 0,9; 0,8; 0,9; und 1,1 haben. Wenn die jeweiligen Aufnahmeflächen A bis I Fehler Ri und Ri+h haben, wie in Tabelle 5 gezeigt ist, kann eine vereinheitlichte Ähnlichkeit Y basierend auf der X-Komponenten-Ähnlichkeit γX, der Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY und einer diagonalen Ähnlichkeit unter Verwendung von Gleichung (8) berechnet werden. Gemäß Ausführungsformen können diagonale Ähnlichkeiten unabhängig berechnet werden. [Tabelle 5]
    Abstandsbereich (1 ≤ h ≤ 2) Ri Ri+h (Ri – Ri+h)2
    Kombinationen der Aufnahmeflächen benachbart in X-Richtung A B 0,9 1,0 0,01
    A C 0,9 1,1 0,04
    B C 1,0 1,1 0,01
    D E 1,0 1,2 0,04
    D F 1,0 0,9 0,01
    E F 1,2 0,9 0,09
    G H 0,8 0,9 0,01
    G I 0,8 1,1 0,09
    H I 0,9 1,1 0,04
    Kombinationen der Aufnahmeflächen benachbart in Y-Richtung A D 0,9 1,0 0,01
    A G 0,9 0,8 0,01
    D G 1,0 0,8 0,04
    B E 1,0 1,2 0,04
    B H 1,0 0,9 0,01
    E H 1,2 0,9 0,09
    C F 1,1 0,9 0,04
    C I 1,1 1,1 0
    F I 0,9 1,1 0,04
    Kombinationen von diagonal benachbarten Aufnahmeflächen A E 0,9 1,2 0,09
    B D 1,0 1,0 0
    B F 1,0 0,9 0,01
    C E 1,1 1,2 0,01
    D H 1,0 0,9 0,01
    E G 1,2 0,8 0,16
    E I 1,2 1,1 0,01
    F H 0,9 0,9 0
    Summe (Σ) 0,91
    γ = Summe/2n = Summe/18 0,0175
  • Unter Berücksichtigung der X-Komponenten-Ähnlichkeit γX kann ein X-Komponenten-Einfluss der Prozessausstattung beispielsweise ein Einfluss eines Schrittprozesses eines Fotolithographie-Systems unabhängig analysiert werden. Zusätzlich kann, unter Berücksichtigung der Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY ein Y-Komponenten-Einfluss der Prozessausstattung beispielsweise ein Einfluss eines Scan-Vorgangs des Fotolithographie-Systems analysiert werden.
  • 9A ist ein Graph, welcher Messungen der Ähnlichkeit γ von vereinheitlichten abgetasteten Daten Dst zeigt, 9B ist ein Graph, welcher Messungen der Ähnlichkeit γX von abgetasteten X-Komponenten-Daten Dsx zeigt, und 9C ist ein Graph, welcher Messungen der Ähnlichkeit γY von abgetasteten Y-Komponenten-Daten Dsy zeigt. Bezug nehmend auf die 9A bis 9C können die Ähnlichkeiten γ, γX und γY abnehmen, wenn der Abstand h abnimmt, und zunehmen, wenn der Abstand h zunimmt. Wenn der Abstand h zunimmt, können die Ergebnisse nicht linear (beispielsweise logarithmisch) werden aufgrund der kleineren Differenzen bzw. Unterschiede zwischen den Ähnlichkeiten γ, γX und γY.
  • Als nächstes kann unter Bezugnahme auf die 8A und 8B ein Berechnen der abgeschätzten Fehler Re der ausgewählten Aufnahmefläche SAe ein Berechnen von Korrelationen zwischen den benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SApA bis SApD unter Verwendung von Gleichung (9) aufweisen, um Gewichtungsfaktoren λA, λB, λC, λD zu berechnen. In Gleichung (9) kann angenommen werden, dass es vier benachbarte gemessene Aufnahmeflächen SApA bis SApD benachbart zu der ausgewählten Aufnahmefläche SAe gibt.
    Figure DE102014101265A1_0005
    wobei λA, λB, λC, λD Gewichtungsfaktoren für die benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen sind, γAA, ..., γAD, γBA, ... γBD, γCA, ... γCD, γDA, ..., γDD Ähnlichkeiten zwischen den Aufnahmeflächen sind, wobei γAA = 0, γBB = 0, γCC = 0, γDD = 0, und γAS, γBS, γCS, γDS Ähnlichkeiten zwischen der ausgewählten Aufnahmefläche und den jeweiligen benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen sind.
  • Obwohl Ausführungsformen zur Kürze angenommen haben, dass nur vier benachbarte gemessene Aufnahmeflächen SApA bis SApD verwendet werden, um den abgeschätzten Fehler Re der ausgewählten Aufnahmefläche SAe zu berechnen, können in anderen Ausführungsformen mehr oder weniger gemessene Aufnahmeflächen SApN vorgesehen sein, um den abgeschätzten Fehler Re der ausgewählten Aufnahmefläche SAe zu berechnen. Ein Fachmann würde leicht verstehen, dass Zeilen und/oder Spalten in gleicher Anzahl zu den benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SApN zu der Determinante, welche in Gleichung (9) gezeigt ist, hinzugefügt werden können. Beispielsweise kann Gleichung (9) die Gesamtanzahl der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SApN als N bezeichnend, erweitert werden, um Gleichung (10) zu erhalten.
  • Figure DE102014101265A1_0006
  • Als nächstes kann das Erzeugen der abgeschätzten Daten De (Det, Dex und Dey) ein Berechnen eines abgeschätzten Fehlers Re einer ausgewählten Aufnahmefläche SAe aufweisen. Beispielsweise kann der abgeschätzte Fehler Re der ausgewählten Aufnahmefläche SAe berechnet werden unter Verwendung von Gleichung (11): Re = λARA + λBRB + λCRC + λDRD (11), wobei Re einen Abschätzungsfehler einer ausgewählten Aufnahmefläche bezeichnet, λA, λB, λC, λD, Gewichtungsfaktoren für jeweilige benachbarte gemessene Aufnahmeflächen sind und RA, RB, RC und RD gemessene Fehler der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen sind.
  • Das heißt, der abgeschätzte Fehler Re der ausgewählten Aufnahmefläche SAe kann berechnet werden durch ein Hinzufügen der jeweiligen gemessenen Fehler RA bis RD der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SApA bis SApD, welche jeweils durch die Gewichtungsfaktoren λA, λB, λC, λD gewichtet sind. Im Fall, dass die Gesamtanzahl der benachbarten gemessenen Aufnahmeflächen SApA bis Sap gleich N ist, kann Gleichung (11) neu geschrieben werden als Gleichung (12):
    Figure DE102014101265A1_0007
    wobei i eine benachbarte Aufnahmefläche bezeichnet.
  • Beispielsweise können in den Gleichungen (9) und (10) die X-Komponenten-Gewichtungsfaktoren λX basierend auf der X-Komponenten-Ähnlichkeit γX berechnet werden, und die X-Komponentenfehler Rex können abgeschätzt werden, und die Y-Komponenten-Gewichtungsfaktoren λY können berechnet werden basierend auf der Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY, und Y-Komponentenfehler Rey können abgeschätzt werden. Alternativ kann ein vereinheitlichter Fehler Ret abgeschätzt werden basierend auf sowohl den X-Komponenten-Gewichtungsfaktoren λX und den Y-Komponenten-Gewichtungsfaktoren λY. Der vereinheitlichte Fehler Ret kann beispielsweise ein Mittel des abgeschätzten X-Komponentenfehlers Rex und des abgeschätzten Y-Komponentenfehlers Rey sein oder ein Mittelwert basierend auf den X-Komponenten-Gewichtungsfaktoren λX und den Y-Komponenten-Gewichtungsfaktoren λY.
  • X-Komponenten-Prozessergebnisse oder gemessene Ergebnisse können unterschiedliche Trends zu den Y-Komponenten-Prozessergebnissen oder gemessenen Ergebnissen haben. Wie obenstehend beschrieben ist, kann, wenn Verfahren gemäß den Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts auf beispielsweise einen Fotolithographie-Prozess angewandt werden, die X-Richtung eine Schrittrichtung sein und die Y-Richtung kann eine Scan-Richtung sein, so dass ein Fehlerelement, welches durch das Voranschreiten bzw. den Schritt verursacht wird und ein Fehlerelement, welches durch ein Scannen verursacht wird, getrennt und unabhängig abgeschätzt werden können. Demnach können die abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) einschließlich oder unabhängig abgeschätzte X-Komponenten-Ergebnisse aufgrund der X-Komponenten-Ähnlichkeit γX und abgeschätzte Y-Komponenten-Ergebnisse aufgrund der Y-Komponenten-Ähnlichkeit γY aufweisen.
  • Durch ein Durchführen von Prozessen gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts können all die Schussbereich SA gemessen werden, und die abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey), welche abgeschätzte Fehler Re (Rt, Rx, Ry) haben, können erzeugt werden. Bezug nehmend auf die 10A und 10B können die abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) ein Wafer-Abbild sein. Beispielsweise können die abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) abgeschätzte X-Komponentendaten Dex aufweisen, welche nur abgeschätzte X-Komponentenfehler Rx aufweisen, abgeschätzte Y-Komponentendaten Dey, welche nur abgeschätzte Y-Komponentenfehler Ry aufweisen, und vereinheitlichte abgeschätzte Daten Det, welche sowohl die abgeschätzten X-Komponentenfehler Rx als auch die abgeschätzten Y-Komponentenfehler Ry aufweisen. Alternativ können, unter Bezugnahme auf Tabelle 6, die abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) eine Tabelle sein. [Tabelle 6]
    Aufnahmefläche Gemessene oder eschätzte Fehler
    X-Position Y-Position X-Richtung Y-Richtung
    ... ... ... ...
    –5 –4 4 2
    –5 –3 5 6
    ... ... ... ...
    –2 1 8 5
    ... ... ... ...
    1 –2 –6 –5
    ... ... ... ...
    5 4 –6 –6
    5 5 –4 –4
    ... ... ... ...
  • Die abgeschätzten Daten De (Det, Dex und Dey) können für den Berechnungsteil 330 vorgesehen sein.
  • Wie obenstehend beschrieben ist, können die X-Komponentenfehler Fehler aufweisen, welche basierend auf einem X-Komponentenelement (beispielsweise dem Voranschreiten) erhalten werden, während die Y-Komponentenfehler Fehler aufweisen können, welche basierend auf einem Y-Komponentenelement (beispielsweise Scannen) erhalten werden. Gemäß Ausführungsformen können sowohl das X-Komponentenelement als auch das Y-Komponentenelement in den Fehlern eingeschlossen sein.
  • Bezug nehmend wiederum auf 2A kann ein Verfahren zum Kalibrieren von Fehlern gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts ein Erzeugen von kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) aufweisen (S60). Das Erzeugen der kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) kann ein Vergleichen abgeschätzter Daten De (Det, Dex, Dey) mit anfänglichen Di und ein Kalibrieren oder Kompensieren von Zielwerten der anfänglichen Daten Di durch Differenzen zwischen den abgeschätzten Daten De (Det, Dex, Dey) und den anfänglichen Daten Di aufweisen. Beispielsweise kann, wenn die anfänglichen Daten Di und abgeschätzte Daten De (Det, Dex, Dey) derselben Aufnahmefläche SA jeweils Zielwerte von 10 und 5 haben, die Aufnahmefläche SA basierend auf den kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) einen kalibrierten oder kompensierten Zielwert durch 5 – 10 = –5 haben. Bezug nehmend auf Tabelle 7 können die kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) als eine Tabelle erzeugt werden. [Tabelle 7]
    Aufnahmefläche Kalibrierte Zielwerte
    X-Position Y-Position Xcal Ycal
    ... ... ... ...
    –5 –4 –4 –5
    –5 –3 –3 –3
    ... ... ... ...
    –2 1 –2 –3
    ... ... ... ...
    1 –2 3 2
    ... ... ... ...
    5 4 2 3
    5 5 4 3
    ... ... ... ...
  • Alternativ können die kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) einen Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten aufweisen: Xcal = kC1 + kC3X + kC5Y + kC7X2 + kC9XY + kC11Y2 + kC13X3 + kC15X2Y + kC17XY2 + kC19Y3 (13), Ycal = kC2 + kC4Y + kC6X + kC8Y2 + k C10XY + kC12X2 + kC14Y3 + kC16XY2 + kC18X2Y + kC20X3 (14), wobei Xcal einen kalibrierten X-Komponenten-Zielwert jeder der Aufnahmeflächen bezeichnet, Ycal einen kalibrierten Y-Komponenten-Zielwert jeder der Aufnahmeflächen bezeichnet, X und Y Koordinaten jeder der Aufnahmeflächen bezeichnen, und kC1 bis kC20 kalibrierte Koeffizienten sind.
  • Zusätzlich können weiterhin Fehlerkonstanten εx und εy, welche Ausstattungscharakteristiken repräsentieren, weiterhin enthalten sein. Das heißt, die Gleichungen (13) und (14) können erweitert werden, um Gleichungen (15) und (16) zu erhalten: Xcal = kC1 + kC3X + kC5Y + kC7X2 + kC9XY + kC11Y2 + kC13X3 + kC15X2Y + kC17XY2 + kC19Y3 + εx (15). Ycal = kC2 + kC4Y + kC6X + kC8Y2 + kC10XY + kC12X2 + kC14Y3 + kC16XY2 + kC18X2Y + kC20X3 + εy (16), wobei εx und εy Fehlerkonstanten für jedes Ausstattungsteil sind.
  • Ein Ver- bzw. Bearbeitungsverfahren gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts kann ein Vorsehen von kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) für den Ver- bzw. Bearbeitungsteil 100 vorsehen, und ein Speichern der kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) in der Datenbank 340. Ein Verfahren zum Kalibrieren von Fehlern gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts kann ein Bearbeiten bzw. Verarbeiten eines anderen Wafers W in dem Bearbeitungsteil 100 basierend auf den kalibrierten Daten Dc (Dct, Dcx, Dcy) aufweisen. All die oben beschriebenen Prozesse können kontinuierlich wiederholt und durchgeführt werden.
  • Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sehen ein logisches System vor, welches konfiguriert ist, um Überlagerungsfehler durch ein Auswählen einiger von Aufnahmeflächen eines Wafers zu messen, auf welchem Prozesse durchgeführt werden, um Ausreißer-Faktoren unter Verwendung von gewichteten Mitteln jeder der Aufnahmeflächen und einem Mittelwert und einer Standardabweichung aller gemessenen Überlagerungsfehler zu berechnen, und um zu bestimmen, ob die Aufnahmeflächen Ausreißer sind oder nicht basierend auf Ausreißer-Faktoren.
  • Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts sehen ein logisches System vor, welches konfiguriert ist, um Fehler aller Aufnahmeflächen eines Wafers basierend auf gemessenen Daten, aus welchen gemessene Werte von Ausreißern entfernt sind, abzuschätzen.
  • Ein Bearbeitungsverfahren und -System gemäß verschiedenen Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts weist ein Bearbeiten eines Wafers, ein selektives Abtasten und Messen der Bearbeitungsergebnisse bzw. Verarbeitungsergebnisse, ein Abschätzen aller Ergebnisse basierend auf den gemessenen Ergebnissen und Bearbeiten bzw. Verarbeiten des Wafers durch ein Durchführen eines kalibrierten oder kompensierten Prozesses basierend auf den abgeschätzten Ergebnissen auf. Gemäß Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts kann die Zeit, welche benötigt wird, um die Verarbeitungsergebnisse bzw. Bearbeitungsergebnisse zu messen, verringert werden, die gemessenen Ergebnisse können präziser abgeschätzt werden, und Prozesse können angemessen kalibriert oder kompensiert werden.
  • Das Vorangehende ist veranschaulichend für Ausführungsformen und darf nicht als hierfür beschränkend betrachtet werden. Obwohl einige wenige beispielhafte Ausführungsformen beschrieben worden sind, werden Fachleute anerkennen, dass viele Abwandlungen möglich sind, ohne materiell von den neuartigen Lehren der beispielhaften Ausführungsformen abzuweichen. Demzufolge sind alle solchen Modifikationen vorgesehen, um innerhalb des Umfangs dieses erfinderischen Konzepts, wie es in den Ansprüchen definiert ist, enthalten zu sein.

Claims (30)

  1. Bearbeitungsverfahren, das Folgendes aufweist: ein Bearbeiten eines Werkstücks, welches eine Mehrzahl von Flächen hat, unter Verwendung anfänglicher Daten; ein Messen von Fehlern für jede der Mehrzahl von Flächen; ein Berechnen einer Fehlerähnlichkeit wenigstens einiger der Mehrzahl von Flächen als eine Funktion eines Trennungsabstands zwischen jedem Paar von einigen der Flächen; ein Auswählen einer ersten Fläche und einer Mehrzahl von zweiten Flächen benachbart zu der ersten Fläche; ein Berechnen von Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen basierend auf den Fehlerähnlichkeiten zwischen jedem Paar von zweiten Flächen und den Fehlerähnlichkeiten zwischen der ersten Fläche und jeder zweiten Fläche; ein Berechnen eines abgeschätzten Fehlers der ersten Fläche basierend auf den gemessenen Fehlern der zweiten Flächen und den Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen; und ein Erzeugen abgeschätzter Daten basierend auf den abgeschätzten Fehlern für jede der Mehrzahl von Flächen.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Berechnen der Fehlerähnlichkeiten ein Berechnen von
    Figure DE102014101265A1_0008
    aufweist, wobei γ die Fehlerähnlichkeit ist, h der Trennungsabstand zwischen Paaren von Flächen ist, n die Gesamtanzahl von Flächen ist, welche innerhalb des Trennungsabstandsbereichs angeordnet ist, R(xi) und R(xi + h) die gemessenen Fehler einer bestimmten Fläche an einer Position xi und einer anderen Fläche, welche von der bestimmten Fläche durch den Abstandsbereich h beabstandet ist, sind.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Berechnen der Fehlerähnlichkeiten Folgendes aufweist: ein unabhängiges Berechnen einer X-Komponenten-Fehlerähnlichkeit basierend auf den gemessenen Fehlern von Flächen, welche benachbart zueinander in einer X-Richtung angeordnet sind, einer Y-Komponenten-Fehlerähnlichkeit basierend auf den gemessenen Fehlern von Flächen, welche benachbart zueinander in einer Y-Richtung angeordnet sind, und einer diagonalen Fehlerähnlichkeit basierend auf der X-Komponenten-Fehlerähnlichkeit, der Y-Komponenten-Fehlerähnlichkeit und den gemessenen Fehlern von Flächen, welche benachbart zueinander in der diagonalen Richtung angeordnet sind.
  4. Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Berechnen der Gewichtungsfaktoren ein Berechnen von
    Figure DE102014101265A1_0009
    aufweist, wobei λA, λB, λC, λD, ... λN Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen sind, γAA, ... γAN, γBA, ... γBN, γCA, ... γCN, γDA, ... γDN, ..., γNA, ... γNN Fehlerähnlichkeiten zwischen jedem Paar von zweiten Bereichen sind, wobei γAA = γBB = γCC = γDD = ... = γNN ... = 0, und γAS, γBS, γCS, γDS, ... γNS die Fehlerähnlichkeiten zwischen der ausgewählten ersten Fläche und den zweiten Flächen sind.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei das Berechnen der abgeschätzten Fehler ein Berechnen von
    Figure DE102014101265A1_0010
    aufweist, wobei Re der abgeschätzte Fehler der ausgewählten ersten Fläche ist, N die Anzahl der ersten Flächen ist, λi die Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen sind und Ri die gemessenen Fehler der zweiten Flächen sind.
  6. Verfahren nach Anspruch 1, weiterhin aufweisend: ein Bestimmen, ob die Flächen Ausreißer sind oder nicht; und ein Löschen der gemessenen Fehler von Flächen, welche als die Ausreißer bestimmt sind, von den gemessenen Daten, wobei ein Bestimmen, ob die ersten Flächen die Ausreißer sind oder nicht, Folgendes aufweist: ein Berechnen von Ausreißer-Faktoren der Mehrzahl von Flächen; ein Einstellen eines Kriteriums-Ausreißer-Faktors; und ein Bestimmen der Flächen als Ausreißer, für welche ein Absolutwert jedes Ausreißer-Faktors größer ist als der Kriteriums-Ausreißer-Faktor.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei das Einstellen des Kriteriums-Ausreißer-Faktors Folgendes aufweist: ein Einstellen eines Kriteriumsfehlers; ein Einstellen des Kriteriums-Ausreißer-Faktors, so dass er relativ klein ist verglichen zu den berechneten Ausreißer-Faktoren fair Flächen, deren gemessener Fehler größer ist als der Kriteriumsfehler; und ein Einstellen des Kriteriums-Ausreißer-Faktors, so dass er relativ groß ist verglichen zu den berechneten Ausreißer-Faktoren für Flächen, deren gemessener Fehler geringer ist als der Kriteriumsfehler.
  8. Verfahren nach Anspruch 6, wobei das Berechnen der Ausreißer-Faktoren der Mehrzahl von Flächen Folgendes aufweist: ein Auswählen einer der Mehrzahl von Flächen; ein Auswählen von wenigstens zwei zweiten Flächen, welche benachbart zu der ausgewählten Fläche angeordnet sind; ein Berechnen eines gewichteten Mittels der ausgewählten Fläche basierend auf den gemessenen Fehlern der wenigstens zwei benachbarten zweiten Flächen; ein Berechnen einer Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der ausgewählten Fläche und dem gemessenen Fehler der ausgewählten Fläche; ein Berechnen eines Mittels und einer Standardabweichung der Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der ausgewählten Fläche und dem gemessenen Fehler der ausgewählten Fläche für die Mehrzahl von Flächen; und ein Dividieren eines Wertes, welcher durch ein Subtrahieren des Mittels von der Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der ausgewählten Fläche und den gemessenen Fehlern erhalten wird durch die Standardabweichung, wobei das Berechnen des gewichteten Mittels ein Berechnen von
    Figure DE102014101265A1_0011
    aufweist, wobei WAS das gewichtete Mittel der ausgewählten Fläche ist, 1 eine benachbarte Fläche bezeichnet, n eine Gesamtanzahl von benachbarten Flächen ist, d ein Abstand zwischen der ausgewählten Fläche und jeder der benachbarten Flächen ist, und R der gemessene Fehler jeder der benachbarten Flächen ist.
  9. Verfahren nach Anspruch 1, weiterhin aufweisend ein Berechnen von kalibrierten Daten, welche Differenzen zwischen den abgeschätzten Daten und den anfänglichen Daten aufweisen, wobei die kalibrierten Daten kalibrierte X-Komponenten-Zielwerte und kalibrierte Y-Komponenten-Zielwerte all der Mehrzahl von Flächen aufweisen, wobei die abgeschätzten Daten Folgendes aufweisen: abgeschätzte X-Komponentendaten, welche gemessene X-Komponentenfehler der Mehrzahl von Flächen haben, und abgeschätzte Y-Komponentendaten, welche gemessene Y-Komponentenfehler der Mehrzahl von Flächen haben.
  10. Verfahren nach Anspruch 1, weiterhin aufweisend ein Berechnen von kalibrierten Daten, welche Differenzen zwischen den abgeschätzten Daten und den anfänglichen Daten aufweisen, wobei die kalibrierten Daten einen Satz von Polynom-Regressionskoeffizienten kc1 bis kc20, aufweisen, welche berechnet werden aus: Xcal = kC1 + kC3X + kC5Y + kC7X2 + kC9XY + kC11Y2 + kC13X3 + kC15X2Y + kC17XY2 + kC19Y3 + εx, Ycal = kC2 + kC4Y + kC6X + kC8Y2 + kC10XY + kC12X2 + kC14Y3 + kC16XY2 + kC18X2Y + kC20X3 + εy, wobei Xcal ein kalibrierter X-Komponenten-Zielwert jeder der Flächen ist, Ycal ein kalibrierter Y-Komponenten-Zielwert jeder der Flächen ist, X und Y Positionen jeder der Flächen sind, kc1 bis kc20 kalibrierte Koeffizienten sind und εx und εy Fehlerkonstanten jedes Ausstattungsstücks sind.
  11. Bearbeitungsverfahren, das Folgendes aufweist: ein Bearbeiten eines Werkstückes, welches erste Flächen und zweite Flächen hat; ein Messen erster Fehler der ersten Flächen; ein Abschätzen zweiter Fehler der zweiten Flächen; ein Erzeugen abgeschätzter Daten einschließlich der ersten Fehler und der zweiten Fehler, ein Bestimmen, ob die ersten Flächen Ausreißer sind oder nicht; und ein Löschen der ersten Fehler der ersten Flächen, welche als die Ausreißer bestimmt sind, aus den gemessenen Daten, wobei ein Abschätzen der zweiten Fehler Folgendes aufweist: ein Berechnen erster Ähnlichkeiten relativ zu einem Abstand zwischen den ersten Fehlern der ersten Flächen; ein Abschätzen zweiter Ähnlichkeiten zwischen Fehlern der ersten Flächen und der zweiten Flächen basierend auf den ersten Ähnlichkeiten; ein Berechnen von Gewichtungs-Faktor-Werten für die ersten Fehler der ersten Flächen basierend auf den ersten Ähnlichkeiten und den zweiten Ähnlichkeiten; und ein Abschätzen der zweiten Fehler der zweiten Flächen basierend auf den ersten Fehlern, den ersten Ähnlichkeiten, den zweiten Ähnlichkeiten und den Gewichtungsfaktoren.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die ersten Ähnlichkeiten aus
    Figure DE102014101265A1_0012
    berechnet werden, wobei γ die erste Ähnlichkeit ist, h der Bereich eines Abstandes zwischen den ersten Flächen ist, n die Gesamtanzahl der ersten Flächen ist, welche innerhalb des Abstandsbereichs angeordnet ist, R(xi) ein erster Fehler einer bestimmten ersten Fläche ist, und R(xi + h) ein erster Fehler einer anderen ersten Fläche ist, welche von der bestimmten ersten Fläche durch den Abstandsbereich h beabstandet ist, wobei ein Berechnen der ersten Ähnlichkeiten ein unabhängiges Berechnen einer ersten X-Komponenten-Ähnlichkeit basierend auf nur den ersten Fehlern der ersten Flächen, welche benachbart zueinander in einer X-Richtung angeordnet sind, und einer ersten Y-Komponenten-Ähnlichkeit, basierend auf nur den ersten Fehlern der ersten Flächen, welche benachbart zueinander in einer Y-Richtung angeordnet sind, aufweist.
  13. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Gewichtungsfaktoren aus
    Figure DE102014101265A1_0013
    berechnet werden, wobei λA, λB, λC, λD, Gewichtungsfaktoren für benachbarte erste Flächen sind, γAA ~ γAN, γBA ~ γBN, γCA ~ γCN, γDA ~ γDN, ..., γNA, ~ γNN die ersten Ähnlichkeiten zwischen den ersten Fehlern der ersten Flächen sind, wobei γAA = γBB = γCC = γDD = ... = γNN = 0, und γAS, γBS, γCS, γDS, ... γNS die zweiten Ähnlichkeiten zwischen einem zweiten Fehler der ausgewählten ersten Fläche und ersten Fehlern der benachbarten ersten Flächen sind, und wobei die zweiten Fehler aus
    Figure DE102014101265A1_0014
    berechnet werden, wobei Re der zweite Fehler der ausgewählten zweiten Fläche ist, i die Anzahl der ersten Flächen ist, λi die Gewichtungsfaktoren für die erste Fläche i ist und Ri der erste Fehler der ersten Fläche ist.
  14. Verfahren nach Anspruch 11, wobei das Bestimmen, ob die ersten Flächen die Ausreißer sind oder nicht, Folgendes aufweist: ein Berechnen von Absolutwerten von Ausreißer-Faktoren der jeweiligen ersten Flächen; ein Einstellen eines Kriteriums-Ausreißer-Faktors; und ein Bestimmen der ersten Flächen, welche Ausreißer-Faktoren haben, welche größere Absolutwerte haben als die Kriteriums-Ausreißer-Faktoren, als die Ausreißer, wobei das Einstellen des Kriteriums-Ausreißer-Faktors Folgendes aufweist: ein Einstellen eines Kriteriumsfehlers; ein Einstellen des Kriteriums-Ausreißer-Faktors auf einen relativ kleinen Wert, wenn der erste Fehler jeder der ersten Flächen größer ist als der Kriteriumsfehler; und ein Einstellen des Kriteriums-Ausreißer-Faktors auf einen relativ großen Wert, wenn der erste Fehler jeder der ersten Flächen kleiner ist als der Kriteriumsfehler, und wobei ein Berechnen der Ausreißer-Faktoren der jeweiligen ersten Flächen Folgendes aufweist: ein Auswählen einer der ersten Flächen; ein Auswählen wenigstens zweier erster Flächen, welche benachbart zu der einen ausgewählten ersten Fläche angeordnet sind; ein Berechnen eines gewichteten Mittels der einen ausgewählten ersten Fläche basierend auf den ersten Fehlern der wenigstens zwei benachbart angeordneten ausgewählten ersten Flächen; ein Berechnen einer Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der einen ausgewählten ersten Fläche und der ersten Fehler; ein Berechnen eines Mittels all der ersten Fehler all der ersten Flächen; ein Berechnen einer Standardabweichung all der ersten Fehler all der ersten Flächen; und ein Dividieren eines Wertes, welcher durch ein Subtrahieren des Mittels von der Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der einen ausgewählten ersten Fläche und der ersten Fehler erhalten wird, durch die Standardabweichung.
  15. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die abgeschätzten Daten Folgendes aufweisen: abgeschätzte X-Komponentendaten, welche erste X-Komponentenfehler und zweite X-Komponentenfehler der ersten und zweiten Flächen haben; und abgeschätzte Y-Komponentendaten, welche erste Y-Komponentenfehler und zweite Y-Komponentenfehler der ersten und zweiten Flächen haben, wobei das Verfahren weiterhin Folgendes aufweist: ein Berechnen von kalibrierten Daten, welche Differenzen zwischen den abgeschätzten Daten und den anfänglichen Daten aufweisen, wobei die kalibrierten Daten kalibrierte X-Komponenten-Zielwerte und kalibrierte Y-Komponenten-Zielwerte all der ersten und zweiten Flächen aufweisen.
  16. Bearbeitungssystem, das Folgendes aufweist: einen Bearbeitungsteil (100), welcher konfiguriert ist, um ein Werkstück, welches eine Mehrzahl von Flächen hat, basierend auf anfänglichen Daten zu bearbeiten; einen Messteil (200), welcher konfiguriert ist, um Fehler der Mehrzahl von Flächen zu messen, und um gemessene Daten zu erzeugen; einen Abtastteil (310), welcher konfiguriert ist, um einige der gemessenen Fehler von den gemessenen Daten zu entfernen, und um abgetastete Daten zu erzeugen; einen Abschätzungsteil (320), welcher konfiguriert ist, um abgeschätzte Fehler der Mehrzahl von Flächen zu berechnen, die abgeschätzten Fehler zu den abgetasteten Daten zu addieren, und um abgeschätzte Daten zu erzeugen; und einen Berechnungsteil (330), welcher konfiguriert ist, um die abgeschätzten Daten mit den anfänglichen Daten zu vergleichen, und um kalibrierte Daten zu erzeugen, wobei der Abschätzungsteil (320) eine Fehlerähnlichkeit wenigstens einiger der Mehrzahl von Flächen als eine Funktion eines Trennungsabstands zwischen Paaren von Flächen in der Mehrzahl von Flächen berechnet, eine erste Fläche und eine Mehrzahl von zweiten Flächen benachbart zu der ersten Fläche auswählt; Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen basierend auf den Fehlerähnlichkeiten zwischen jedem Paar von zweiten Flächen und den Fehlerähnlichkeiten zwischen der ersten Fläche und jeder zweiten Fläche berechnet, und einen abgeschätzten Fehler der ersten Fläche basierend auf dem gemessenen Fehler der zweiten Flächen und den Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen berechnet.
  17. System nach Anspruch 16, wobei die anfänglichen Daten ein beliebiges einer Tabelle, welche anfängliche X-Komponenten-Zielwerte und anfängliche Y-Komponenten-Zielwerte der Mehrzahl von Flächen oder eines Satzes von anfänglichen Polynom-Regressionskoeffizienten zum Berechnen der anfänglichen Zielwerte der Mehrzahl von Flächen aufweist, und die kalibrierten Daten ein beliebiges einer Tabelle, welche kalibrierte X-Komponenten-Zielwerte und kalibrierte Y-Komponenten-Zielwerte der Mehrzahl von Flächen oder eines Satzes von Polynom-Regressionskoeffizienten zum Berechnen der kalibrierten Zielwerte der Mehrzahl von Flächen aufweisen, wobei die anfänglichen Daten Überlagerungs-Zielwerte der Mehrzahl von Flächen für einen Fotolithographie-Prozess aufweisen, wobei der Bearbeitungsteil (100) eine Fotolithographie-Ausstattung aufweist, welche konfiguriert ist, um eine Abstufung in einer X-Richtung mit so vielen wie der Anzahl der Mehrzahl von Flachen, und ein Scannen in einer Y-Richtung durchzuführen, wobei die abgeschätzten Daten Folgendes aufweisen: abgeschätzte X-Komponentendaten, welche gemessene X-Komponentenfehler der Mehrzahl von Flächen aufweisen; und abgeschätzte Y-Komponentendaten, welche gemessene Y-Komponentenfehler der Mehrzahl von Flächen aufweisen.
  18. System nach Anspruch 16, wobei die gemessenen Fehler der Mehrzahl von Flächen eine Differenz zwischen einem idealen Überlagerungswert und einem gemessenem Überlagerungswert aufweisen.
  19. System nach Anspruch 16, wobei ein Entfernen einiger der gemessenen Fehler von den gemessenen Daten Folgendes aufweist: ein Bestimmen, ob eine Fläche ein Ausreißer ist oder nicht; und ein Entfernen von gemessenen Fehler dieser Flächen, welche als Ausreißer bestimmt sind, aus den gemessenen Daten und ein Einschließen von gemessenen Fehlern dieser Flächen, welche als Nicht-Ausreißer bestimmt sind, in den abgetasteten Daten.
  20. System nach Anspruch 19, wobei ein Bestimmen, ob eine Fläche ein Ausreißer ist oder nicht, ein Berechnen eines Ausreißer-Faktors für jede der Mehrzahl von Flächen aufweist, aufweisend: ein Auswählen einer der Mehrzahl von Flächen; ein Auswählen von wenigstens zwei zweiten Flächen, welche benachbart zu der ausgewählten Fläche angeordnet sind; ein Berechnen eines gewichteten Mittels der ausgewählten Fläche basierend auf den gemessenen Fehlern der wenigstens zwei benachbarten zweiten Flächen; ein Berechnen einer Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der ausgewählten Fläche und dem gemessenen Fehler der ausgewählten Fläche; ein Berechnen eines Mittels und einer Standardabweichung der Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der ausgewählten Fläche und dem gemessenen Fehler der ausgewählten Fläche für alle der Mehrzahl von Flächen; und ein Dividieren eines Wertes, welcher durch ein Subtrahieren des Mittels von der Differenz erhalten wird, durch die Standardabweichung.
  21. System nach Anspruch 20, wobei das Berechnen des gewichteten Mittels ein Berechen von
    Figure DE102014101265A1_0015
    aufweist, wobei WAS ein gewichtetes Mittel der ausgewählten Fläche ist, 1 eine benachbarte Fläche bezeichnet, n die Gesamtanzahl der Flächen ist, d ein Abstand zwischen der ausgewählten Fläche und jeder der benachbarten Flächen ist, und R der gemessene Fehler jeder der benachbarten Flächen ist.
  22. System nach Anspruch 16, wobei ein Berechnen der Fehlerähnlichkeiten ein Berechnen von
    Figure DE102014101265A1_0016
    aufweist, wobei γ die Fehlerähnlichkeit ist, h der Trennungsabstand zwischen Paaren von Flächen ist, n die Gesamtanzahl von Flächen ist, welche innerhalb des Trennungsabstandsbereichs angeordnet ist, R(xi) und R(xi + h) die gemessenen Fehler einer bestimmten Fläche an einer Position xi und einer anderen Fläche, welche von der bestimmten Fläche durch den Abstandsbereich h beabstandet ist, sind.
  23. System nach Anspruch 16, wobei das Berechnen der Fehlerähnlichkeiten Folgendes aufweist: ein unabhängiges Berechnen einer X-Komponenten-Fehlerähnlichkeit basierend auf den gemessenen Fehlern von Flächen, welche benachbart zueinander in einer X-Richtung angeordnet sind, einer Y-Komponenten-Fehlerähnlichkeit basierend auf den gemessenen Fehlern von Flächen, welche benachbart zueinander in einer Y-Richtung angeordnet sind, und einer diagonalen Fehlerähnlichkeit basierend auf der X-Komponenten-Fehlerähnlichkeit, der Y-Komponenten-Fehlerähnlichkeit und den gemessenen Fehlern von Flächen, welche benachbart zueinander in der diagonalen Richtung angeordnet sind.
  24. System nach Anspruch 16, wobei das Berechnen der Gewichtungsfaktoren ein Berechnen von
    Figure DE102014101265A1_0017
    aufweist, wobei λA, λB, λC, λD, ... λN Gewichtungsfaktoren für die zweiten Flächen sind, γAA, ... γAN, γBA, ... γBN, γCA, ... γCN, γDA, ... γDN, ..., γNA, γNN Fehlerähnlichkeiten zwischen jedem Paar von zweiten Bereichen sind, wobei γAA = γBB = γCC = γDD = ... = γNN = 0, und γAS, γBS, γCS, γDS, .. γNS Fehlerähnlichkeiten zwischen der ausgewählten ersten Fläche und den jeweiligen zweiten Flächen sind.
  25. System nach Anspruch 16, wobei das Berechnen der abgeschätzten Fehler ein Berechnen von
    Figure DE102014101265A1_0018
    aufweist, wobei Re ein abgeschätzter Fehler der ausgewählten ersten Fläche ist, i eine benachbarte zweite Fläche bezeichnet, λi ein Gewichtungsfaktor der benachbarten zweiten Flächen i ist und Ri die gemessenen Fehler der benachbarten zweiten Flächen sind.
  26. Bearbeitungssystem, das Folgendes aufweist: einen Bearbeitungsteil (100), welcher konfiguriert ist, um ein Werkstück, welches eine Mehrzahl von ersten Flächen und eine Mehrzahl von zweiten Flächen hat, basierend auf anfänglichen Daten, zu bearbeiten; einen Messteil (200), welcher konfiguriert ist, um erste Fehler der Mehrzahl von ersten Flächen zu messen, und um gemessene Daten zu erzeugen; einen Abtastteil (310), welcher konfiguriert ist, um einige der ersten Fehler aus den gemessenen Daten zu entfernen, und um abgetastete Daten zu erzeugen; einen Abschätzungsteil (320), welcher konfiguriert ist, um zweite Fehler der zweiten Flächen abzuschätzen, die zweiten Fehler zu den abgetasteten Daten zu addieren und um abgeschätzte Daten zu erzeugen; und einen Berechnungsteil (330), welcher konfiguriert ist, um die abgeschätzten Daten mit den anfänglichen Daten zu vergleichen und um kalibrierte Daten zu erzeugen, wobei der Abschätzungsteil (320) erste Ähnlichkeiten relativ zu einem Abstand zwischen den ersten Fehlern der ersten Flächen, abgeschätzte zweite Ähnlichkeiten zwischen Fehlern der ersten Flächen und der zweiten Flächen basierend auf den ersten Ähnlichkeiten berechnet, Gewichtungsfaktoren der ersten Fehler der ersten Flächen basieren auf den ersten Ähnlichkeiten und den abgeschätzten zweiten Ähnlichkeiten berechnet und die zweiten Fehler der zweiten Flächen basierend auf den ersten Fehlern, den ersten Ähnlichkeiten, den zweiten Ähnlichkeiten und den Gewichtungsfaktoren abschätzt.
  27. System nach Anspruch 26, wobei das Entfernen einiger der ersten Fehler aus den gemessenen Daten Folgendes aufweist: ein Bestimmen, ob die ersten Flächen Ausreißer sind oder nicht; und ein Entfernen von ersten Fehlern der ersten Flächen, welche als die Ausreißer bestimmt sind, aus den gemessenen Daten, wobei nur erste Fehler der ersten Flächen, welche nicht als die Ausreißer bestimmt sind, in den abgetasteten Daten enthalten sind.
  28. System nach Anspruch 26, wobei das Berechnen des Ausreißer-Faktors jeder der ersten Flächen Folgendes aufweist: ein Auswählen einer der ersten Flächen; ein Berechnen eines gewichteten Mittels der einen ausgewählten ersten Fläche; ein Berechnen einer Differenz zwischen dem gewichteten Mittel der einen ausgewählten ersten Fläche und dem ersten Fehler der einen ausgewählten ersten Fläche; ein Berechnen eines Mittels des ersten Fehlers all der ersten Flächen; ein Berechnen einer Standardabweichung der ersten Fehler all der ersten Flächen; und ein Dividieren eines Wertes, welcher durch ein Subtrahieren des Mittels von der Differenz erhalten wird, durch die Standardabweichung.
  29. System nach Anspruch 26, wobei die abgeschätzten Daten Folgendes aufweisen: abgeschätzte X-Komponentendaten, welche erste X-Komponentenfehler und zweite X-Komponentenfehler der ersten und zweiten Flächen aufweisen; und abgeschätzte Y-Komponentendaten, welche erste Y-Komponentenfehler und zweite Y-Komponentenfehler der ersten und zweiten Flächen aufweisen.
  30. System nach Anspruch 26, wobei die zweiten Fehler berechnet werden aus:
    Figure DE102014101265A1_0019
    wobei Re ein zweiter Fehler der ausgewählten ersten Fläche ist, i eine benachbarte erste Fläche ist, λi ein Gewichtungsfaktor der benachbarten ersten Fläche i ist, und Ri ein erster Fehler der benachbarten ersten Fläche ist.
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