DE102007006192A1 - Method for determining multiple measured value, involves determining individual measured value in dependence of parameter in every case, where parameter has certain dimension - Google Patents
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Abstract
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren sowie auf eine Vorrichtung zur Ermittlung einer Vielzahl von Messwerten, die miteinander in Beziehung stehen.The The present invention relates to a method and to a Device for determining a plurality of measured values which are interrelated in Relationship.
Bei dem Verfahren zur Herstellung einer Photomaske werden zunächst die erwünschten Strukturen auf der Photomaske durch allgemein bekannte Verfahren erzeugt. Bei einem sich anschließenden Inspektionsverfahren wird überprüft, ob die erzeugten Strukturen die vorgegebenen Anforderungen in Bezug auf beispielsweise die Strukturgröße erfüllen. Dies kann beispielsweise geschehen, indem die Linienbreite ("CD", critical dimension) der erzeugten Linien jeweils in Abhängigkeit der Ortskoordinate gemessen wird. Üblicherweise wird die Linienbreite durch ein Rasterelektronenmikroskop gemessen. Dabei tritt bei ungefähr 3 bis 5% aller Messwerte eine Messungenauigkeit dadurch auf, dass der Elektronenstrahl defokussiert ist. Entsprechend treten bei der Messung Ausreißer auf. Üblicherweise ist es schwierig zu beurteilen, ob ungewöhnliche Messergebnisse auf das statistische Rauschen zurückzuführen sind oder tatsächlich fehlerhaft sind. Daher hat man herkömmlicherweise nach Durchführung einer Messung diese Ausreißer einzeln bestimmt und sodann verworfen.at The method for producing a photomask are first the desired structures produced on the photomask by well known methods. at a subsequent one Inspection procedure is checked if the generated Structures the given requirements in terms of for example fulfill the structure size. This can be done, for example, by the line width ("CD", critical dimension) the generated lines are measured in each case depending on the location coordinate becomes. Usually the linewidth is measured by a scanning electron microscope. there occurs at about 3 to 5% of all measured values have a measurement inaccuracy due to the fact that the electron beam is defocused. Accordingly occur in the Measuring outliers on. Usually It is difficult to judge if there are unusual readings the statistical noise is due or indeed are faulty. Therefore, conventionally, after performing a measurement these outliers determined individually and then discarded.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes Verfahren bereitzustellen, durch das eine Vielzahl von miteinander in Beziehung stehenden Messwerten zuverlässig ermittelt werden kann.Of the The present invention is based on the object, an improved To provide a method by which a plurality of each other Relative measured values can be reliably determined.
Der vorliegenden Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, eine entsprechende Vorrichtung zur Verfügung zu stellen.Of the The present invention is further based on the object, a corresponding Device available to deliver.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die Aufgabe durch ein Verfahren zur Ermittlung einer Vielzahl von miteinander in Beziehung stehenden Messwerten gelöst, bei dem die einzelnen Messwerte jeweils in Abhängigkeit eines Parameters P, der die Dimension n hat, ermittelt werden und als Datenpaare (M, P) gespeichert werden, die Messwerte, die außerhalb eines wohldefinierten Qualitätsparameters liegen, als Ausreißer identifiziert werden, und die Ausreißer nachgemessen werden.According to the present The invention achieves the object by a method for determining a plurality solved by interrelated measured values, at the individual measured values in each case depending on a parameter P, which has the dimension n, are determined and as data pairs (M, P), the readings outside a well-defined Quality parameters are, as an outlier be identified, and the outliers are measured.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Vielzahl von Messwerten, die miteinander in Beziehung stehen, ermittelt. Das heißt, die Messwerte stehen insofern miteinander in Beziehung, dass bereits eine Annahme besteht, wie groß der Messwert sein sollte. Bei einer Photomaske kann sich die Beziehung unter den Messwerten dadurch ergeben, dass die erzeugten Strukturen durch das selbe Herstellungsverfahren erzeugt worden sind und außerdem dieselben Größen aufweisen sollten. Bei einer Vielzahl von identischen Strukturen, die jeweils aus verschiedenen Proben erzeugt worden sind, ergibt sich die Beziehung dadurch, dass jeweils dieselbe Strukturgröße erzielt worden sein sollte, bzw. dass grobe Abweichungen der jeweiligen Strukturgrößen ebenfalls auf Ausreißer hinweisen. Eine derartige Beziehung kann sich ferner dann ergeben, wenn der Sollwert der Messgröße bekannt ist.According to the present Invention will provide a variety of readings that are related to each other Relationship, determined. That is, the measured values are so far in relationship with each other that already has an assumption how big the Reading should be. For a photomask, the relationship may be below the measured values result in that the generated structures produced by the same manufacturing process and also the same Have sizes should. For a variety of identical structures, each from different samples, the relationship results in that the same structure size should have been achieved in each case, or that gross deviations of the respective feature sizes also on outliers clues. Such a relationship may also arise if the setpoint of the measured variable is known is.
Die einzelnen Messwerte werden jeweils in Abhängigkeit des Parameters P ermittelt. P kann beispielsweise, wenn verschiedene Strukturen auf einer einzigen Photomaske vermessen werden, die Ortskoordinate (x, y) oder (x, y, z) mit der Dimension 2 bzw. 3 sein. Wird jeweils die selbe Messgröße auf einer Vielzahl von verschiedenen Proben vermessen, so ist der Probenparameter P der Probenidentifikator PI und die Dimension des Parameters P ist gleich 1. Die Messwerte werden als Datenpaare (M, P) gespeichert. Beispielsweise können sie in geeigneter Weise aufgetragen werden, wobei eine (n + 1)-dimensionale Darstellung erhalten wird. Bei der Vermessung von Linienbreiten auf einer Photomaske ergibt sich beispiels weise eine dreidimensionale Darstellung von (x, y-Koordinate, CD).The individual measured values are determined in each case depending on the parameter P. P can, for example, if different structures on a single Photomask, the location coordinate (x, y) or (x, y, z) with the dimension 2 or 3, respectively. Is the same variable on one Measure variety of different samples, so is the sample parameter P is the sample identifier PI and the dimension of the parameter P is equal to 1. The measured values are stored as data pairs (M, P). For example, you can they are suitably applied, with a (n + 1) -dimensional representation is obtained. When measuring line widths on a photomask For example, a three-dimensional representation of (x, y coordinate, CD).
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform wird sodann eine Glättungskurve ermittelt, die die Datenpaare (M, P) in geeigneter Weise glättet. Wenn man sich vorstellt, dass sich die ermittelten Messwerte jeweils aus einem deterministischen Anteil und einem Rauschanteil zusammensetzen, so werden durch die Ermittlung der Glättungskurve wiederum Datenpaare (G, P) ermittelt, die den deterministischen Anteil der Messpaare wiedergeben. Stellt man sich das Verfahren bildlich vor, so wird die Glättungskurve über die (n + 1)-dimensionale Darstellung gelegt.According to one preferred embodiment then a smoothing curve determined, which smoothes the data pairs (M, P) in a suitable manner. If Imagine that the measured values determined in each case a deterministic component and a noise component, Thus, the determination of the smoothing curve again data pairs (G, P), which determines the deterministic portion of the measurement pairs play. If you imagine the process pictorial, then the smoothing curve over the (n + 1) -dimensional representation laid.
Nachfolgend werden diejenigen Messwerte, die außerhalb eines wohldefinierten Qualitätsparameters liegen, identifiziert und nachgemessen. Der wohldefinierte Qualitätsparameter kann beispielsweise ein vorgegebener Toleranzbereich der Glättungskurve sein. Hierbei ist angenommen, dass durch die Vorgabe des Toleranzbereiches die übliche Messungenauigkeit d. h. das Rauschen erfasst werden kann. Alle Messwerte außerhalb dieser Glättungskurve werden nun dadurch identifiziert, dass sie außerhalb der Rauschtoleranz liegen. Nach der Erkennung werden sie nachgemessen. Entsprechend ist es möglich, durch ein automatisches Verfahren Ausreißer zu erkennen und sie durch die Messvorrichtung nachmessen zu lassen. Als Folge kann die Qualität der Messergebnisse besser beurteilt werden. Insbesondere werden letztendlich zuverlässigere Messergebnisse erhalten. Die Glättungskurve kann beispielsweise, je nach Dimension des Parameters, mit Hilfe eines TPS-Verfahrens, d. h. eines „thin plate spline"-Verfahrens oder eines Spline-Verfahrens ermittelt werden.Subsequently, those measured values which lie outside a well-defined quality parameter are identified and remeasured. The well-defined quality parameter may be, for example, a predetermined tolerance range of the smoothing curve. In this case, it is assumed that by specifying the tolerance range, the usual inaccuracy of measurement, ie the noise, can be detected. All readings outside this smoothing curve are now identified by being outside the noise tolerance. After recognition, they are measured. Accordingly, it is possible to detect outliers by an automatic procedure and to let them be measured by the measuring device. As a result, the quality of the measurement results can be better assessed. In particular, ultimately more reliable measurement results are obtained. The smoothing curve can, for example, depending on the dimension of the parameter, using a TPS method, ie a "thin plate spline" Ver driving or a spline method can be determined.
Wie vorstehend erwähnt, kann der wohldefinierte Qualitätsparameter ein vorgegebener Toleranzbereich der Glättungskurve sein. Der Qualitätsparameter kann jedoch auch weitere Quali tätsmerkmale umfassen. Beispielsweise kann er ein vorgegebener Toleranzbereich eines Referenzwertes sein. Der Referenzwert kann beispielsweise ein Sollwert sein. Der Qualitätsparameter kann jedoch auch ein vorgegebener Toleranzbereich einer Glättungskurve sein, die bei einer Referenz-Probe aufgenommen worden ist.As mentioned above, can the well-defined quality parameters be a predetermined tolerance range of the smoothing curve. The quality parameter However, it can also provide further quality features include. For example, it may have a predetermined tolerance range a reference value. The reference value can be, for example be a setpoint. The quality parameter however, it may also be a predetermined tolerance range of a smoothing curve, which has been recorded in a reference sample.
Die zu vermessende Größe kann dabei jede beliebige messbare Größe sein wie beispielsweise die Linienbreite (CD), die Lagegenauigkeit (registration), eine bestimmte Position, eine bestimmte Tiefe, das Transmissionsvermögen, eine Phasenverschiebung, ein Reflexionsvermögen oder eine Schichtdicke sein. Weiterhin kann die zu vermessende Größe aber auch eine zusammengesetzte Größe sein, die sich aus Größen zusammensetzt, die jeweils in der selben Messvorrichtung gemessen worden sind.The can be measured size be any measurable size such as the line width (CD), the registration, a certain position, a certain depth, the transmittance, a Phase shift, reflectivity or layer thickness be. Furthermore, the size to be measured but also a composite Be great which is composed of sizes, each measured in the same measuring device.
Die vorliegende Erfindung stellt darüber hinaus eine Vorrichtung zur Ermittlung einer Vielzahl von Messwerten, die miteinander in Beziehung stehen, bereit, mit einer Messvorrichtung zum Messen einer Vielzahl von Messwerten jeweils in Abhängigkeit von einem Parameter P, der die Dimension n hat, einer Interpolationseinrichtung, die geeignet ist, die Messwerte in Abhängigkeit des Parameters P als Datenpaare (M, P) abzuspeichern, einer Entscheidungseinrichtung, die geeignet ist, die Messwerte, die außerhalb eines wohldefinierten Qualitätsparameters liegen, als Ausreißer zu identifizieren und die geeignet ist, der Messvorrichtung eine Information zu liefern, bezüglich welchen Parameter eine erneute Messung vorzunehmen ist, und einer Ausgabeeinrichtung, die geeignet ist eine Vielzahl von Messwerten in Abhängigkeit des Parameters P auszugeben.The present invention provides above In addition, a device for determining a plurality of measured values, who are related, ready, with a measuring device for measuring a plurality of measured values depending on each from a parameter P having the dimension n, an interpolator, which is suitable, the measured values as a function of the parameter P as To save data pairs (M, P) to a decision maker, which is appropriate to the readings outside a well-defined Quality parameters are, as an outlier to identify and which is the measuring device a To provide information regarding which parameter is to be re-measured and one Output device that is suitable for a variety of measurements dependent on of the parameter P.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung kann die Interpolationseinrichtung geeignet sein, eine Glättungskurve zu ermitteln, die geeignet ist, die Datenpaare (M, P) in geeigneter Weise zu glätten, und der wohldefinierte Qualitätsparameter ist durch einen vorbestimmten Toleranzbereiches der Glättungskurve definiert.According to one embodiment According to the invention, the interpolation device can be suitable a smoothing curve to determine which is suitable, the data pairs (M, P) in an appropriate manner to straighten, and the well-defined quality parameter is through a predetermined tolerance range of the smoothing curve Are defined.
Die vorliegende Erfindung wird im Folgenden detailliert unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben werden. Es zeigen:The The present invention will be described in detail below with reference to FIG to be described on the accompanying drawings. Show it:
Wie sich aus der nachstehenden Beschreibung ergeben wird, ist es für die vorliegende Erfindung nicht erforderlich, dass sämtliche zu vermessende Strukturen sich auf ein und derselben Probe befinden. Es ist ebenso denkbar, dass ein und dieselbe Messgröße, die jeweils den selben Sollwert aufweisen sollte, auf eine Vielzahl von verschiedenen Proben bestimmt wird. Weiterhin ist, obwohl im vorliegenden Beispiel als Messgröße die Linienbreite beispielhaft angegeben ist, offensichtlich, dass die vorliegende Erfindung auf jede beliebige Messgröße angewendet werden kann. Beispiele umfassen alle möglichen Arten von Längen oder Tiefen oder Breiten, Schichtdicken oder andere physikalisch oder auch auf andere Weise messbare Größen.As will be apparent from the following description, it is for the present Invention does not require that all structures to be measured are on one and the same sample. It is also conceivable that one and the same measurand, the should each have the same setpoint, on a variety determined by different samples. Furthermore, although in the present example as a measure the line width example it is apparent that the present invention is based on any measure used can be. Examples include all possible types of lengths or Depths or widths, layer thicknesses or other physical or even measurable quantities in other ways.
Zur
Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens
werden zunächst
die einzelnen Messwerte jeweils ermittelt und in Abhängigkeit
des Parameters P gespeichert. Dies kann beispielsweise in der in
Die
vorliegende Erfindung ist nicht auf die Bestimmung einer Messgröße in Abhängigkeit
der Ortskoordinate beschränkt.
Beispielsweise kann auch die Abweichung eines Messwertes von einem Sollwert
gegen den Sollwert aufgetragen werden, und diese Auftragung wird
nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren untersucht. Wie in
Weiterhin
ist es gemäß der vorliegenden
Erfindung möglich,
dass ein und dieselbe Messgröße, die
den selben Wert aufweisen sollte, auf einer Vielzahl von Proben
vermessen werden soll. In diesem Fall ist der Parameter P der Probenidentifikator
PI, d. h. beispielsweise die Nummer der Probe. Auch hier erfolgt
die Ermittlung der Ausreißer
In
der Interpolationseinrichtung
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