DE102007002935A1 - Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere ein Fenster - Google Patents
Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere ein Fenster Download PDFInfo
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Abstract
Die Reinigungsvorrichtung ist vorgesehen für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fenster. Sie ist mit einer Putzeinrichtung sowie einem die Putzeinrichtung in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse 2 versehen, das mit seiner offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig anliegt. Ferner weist die Reinigungsvorrichtung eine Saugeinrichtung 3 zur Erzeugung eines Unterdrucks in dem Gehäuse 2 auf. Am Rand des Gehäuses 2 ist eine umlaufende flexible Schürze 4 angeordnet, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses 2 und der zu reinigenden Fläche abdichtet und dabei so ausgebildet ist, dass eine geringe, die Luftströmung durch die Saugeinrichtung 3 aufrecht erhaltende Restströmung gewährleistet ist. Die Schürze 4 besteht dabei aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizient gegenüber der zu reinigenden Fläche.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fenster, mit einer Putzeinrichtung sowie einem die Putzeinrichtung in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse, das mit einer offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig anliegt, ferner mit einer Saugeinrichtung zur Erzeugung eines Unterdrucks in dem Gehäuse.
- Eine grundsätzlich zur Reinigung von ebenen Glasflächen einzusetzende Reinigungsvorrichtung ist in der
DE 100 65 405 A1 beschrieben und weist ein Reinigungselement auf, das mit einem beispielsweise als Reinigungstuch ausgebildeten Reinigungsmedium belegt ist und durch einen Exzenter-Antrieb in eine zur zu reinigenden Fläche parallele Vibrationsbewegung versetzt wird. - Damit eine solche Reinigungsvorrichtung selbsttätig in Anlage an der zu reinigenden Fläche gehalten werden kann, sieht die Reinigungsvorrichtung nach der Patentanmeldung
WO 01/80703 A1 EP 1 237 456 B1 eine Sicherheitseinrichtung, bei welcher der Abstand der Reinigungsvorrichtung von der zu reinigenden Fläche überwacht wird, um gegebenenfalls eine Halteeinrichtung zu aktivieren, die ein Abstürzen der Reinigungsvorrichtung verhindert. - Da eine autonom arbeitende Reinigungsvorrichtung gezielt an der zu reinigenden Fläche geführt werden muss, beschreibt die
WO 2005/093536 A1 WO 2005/093537 A1 - Eine Reinigungsvorrichtung der eingangs genannten Art ist auch bekannt aus der
DE 100 20 503 A1 . Das dort angewandte Halteprinzip der Reinigungsvorrichtung an den üblicherweise vertikal ausgerichteten Flächen beruht auf einer Differenzdruckbildung, über die die benötigte Haltekraft für die Reinigungsvorrichtung an der Fläche erzeugt wird. Üblicherweise macht dies eine empfindliche und schnelle Regelung der Saugeinrichtung erforderlich, um einerseits ein Abreißen der Luftströmung durch die Saugeinrichtung zu verhindern und andererseits ein Lösen der Reinigungsvorrichtung von der zu reinigenden Fläche zu vermeiden. - Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Reinigungsvorrichtung der eingangs genannten Art dahingehend zu verbessern, dass der sich einstellende Unterdruck in dem glockenförmigen Gehäuse und damit die Haftfähigkeit der Reinigungsvorrichtung an der zu reinigenden Fläche in geringerem Umfang als bisher von insbesondere den Eigenschaften der Oberfläche sowie anderen Krafteinwirkungen auf die Reinigungsvorrichtung abhängig ist.
- Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, dass am Rand des Gehäuses eine umlaufende flexible Schürze angeordnet ist, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses und der zu reinigenden Fläche abdichtet und dabei so ausgebildet ist, dass eine geringe, die Luftströmung durch die Saugeinrichtung aufrecht erhaltende Restströmung gewährleistet ist, wobei die Schürze aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizient gegenüber der zu reinigenden Fläche besteht.
- Ein durch die Erfindung erreichter Vorteil besteht zunächst darin, dass die am Rand des Gehäuses angeordnete Schürze durch ihre flächige Anlage an der zu reinigenden Fläche für eine gute Abdichtung sorgt, während gleichzeitig durch die entsprechende Ausbildung dieser Schürze sichergestellt ist, dass eine weitgehend genau festgelegte Restströmung durch die Saugeinrichtung erhalten bleibt, so dass unabhängig von äußeren Einwirkungen und Einflüssen der Oberfläche der zu reinigenden Fläche eine weitestgehend konstante Haltekraft sichergestellt ist, ohne dass es eines schnellen und aufwändigen Regelmechanismus für die Saugeinrichtung bedarf. Der geringe Reibungskoeffizient der Schürze gegenüber der zu reinigenden Fläche stellt darüber hinaus sicher, dass die Reinigungsvorrichtung gleichwohl ohne großen Kraftaufwand an der Fläche verfahren werden kann.
- Um dies sicher zu stellen, ist im Rahmen der Erfindung bevorzugt, dass der Reibungskoeffizient der Schürze gegenüber der zu reinigenden Fläche zwischen 0,05 und 0,2 liegt.
- Als besonders geeignetes Material, das die gestellten Anforderungen an die Schürze erfüllt, hat sich Polytetrafluorethylen herausgestellt. Alternativ kann die Schürze jedoch auch aus mit Polytetrafluorethylen getränktem Glasgewebe bestehen, was insbesondere die Verschleißfestigkeit der Schürze erhöht.
- Die Schürze ist vorteilhafterweise von der zu reinigenden Fläche flach anliegenden Randstreifen gebildet, wobei die Breite dieser Streifen insbesondere in Abhängigkeit von dem gewünschten Unterdruck sowie der Steifigkeit des Materials abhängig gewählt werden kann.
- Weiter wird im Rahmen der Erfindung bevorzugt, dass die Schürze mit Einschnitten für den Eintritt der Restströmung versehen ist. Bei einem solchen Einschnitt kann es sich um einen einfachen Einschnitt oder auch um einen etwas breiter angelegten Spalt handeln, wobei darüber hinaus auch die vom freien Rand der Schürze ausgemessene Tiefe des Einschnitts entsprechend den Anforderungen gewählt werden kann.
- Insbesondere dann, wenn das Gehäuse rechteckigen Querschnitt hat, empfiehlt es sich, die Einschnitte im Bereich der Ecken des Gehäuses vorzusehen.
- Im Übrigen ist es jedoch auch möglich, gegebenenfalls zusätzlich das Gehäuse mit Einlassöffnungen für den Eintritt der Restströmung zu versehen, wobei darüber hinaus auch vorgesehen sein kann, den Luftdurchtritt durch die Einlassöffnungen einstellbar zu machen.
- Im Folgenden wird die Erfindung an einem in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiel näher erläutert; es zeigen:
-
1 eine Prinzipdarstellung einer Reinigungsvorrichtung in perspektivischer Darstellung, und -
2 eine Ansicht des Gegenstandes nach1 von der Unterseite. - Die in der Zeichnung dargestellte Reinigungsvorrichtung ist vorgesehen für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fensterglas, und dazu mit einer Putzeinrichtung
1 sowie mit einem die Putzeinrichtung1 in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse2 versehen. Das Gehäuse2 liegt mit seiner offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig an. Im Gehäuse2 ist eine Saugeinrichtung3 zur Erzeugung eines Unterdruckes in dem Gehäuse2 vorgesehen, wodurch die Reinigungsvorrichtung an die zu reinigende Fläche angesaugt und dort mit der hieraus resultierenden Kraft gehalten wird. - Die Haltekraft ist dabei so abgestimmt, dass einerseits die Reinigungsvorrichtung sich nicht unbeabsichtigt von der zu reinigenden Fläche lösen kann, andererseits ist die Haltekraft nicht zu groß, um die Reinigungsvorrichtung während der Reinigung über die ebene Fläche verfahren zu können. Entscheidend hierfür ist daher also eine insbesondere von äußeren Bedingungen sowie der Oberfläche der zu reinigenden Fläche unabhängige Andruckkraft, also ein möglichst konstanter Unterdruck.
- Um dies zu gewährleisten, ist am Rand des Gehäuses
2 eine umlaufende flexible Schürze4 angeordnet, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses2 und der zu reinigenden Fläche abdichtet. Die Schürze4 ist dabei weiter so ausgebildet, dass eine geringe Restströmung gewährleistet ist, so dass die Luftströmung durch die Saugeinrichtung3 nicht abreist. Um weiterhin die Reinigungseinrichtung ohne großen Kraftaufwand an der Fläche verfahren zu können, besteht die Schürze4 aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizienten gegenüber der zu reinigenden Fläche. Hierfür hat sich ein Reibungskoeffizient in der Größenordung zwischen 0,05 und 0,2 als besonders geeignet erwiesen. - Als Material, das sowohl hinsichtlich eines niedrigen Reibungsbeiwertes als auch anderer in diesem Zusammenhang geforderter Ansprüche besonders gut genügt, ist Polytetrafluorethylen vorgesehen. Dabei besteht auch die Möglichkeit, die Schürze
4 aus mit Polytetrafluorethylen getränktem Glasgewebe auszubilden, wodurch die Schürze noch stärkeren mechanischen Beanspruchungen standhält. - Wie sich der Zeichnung im Einzelnen entnehmen lässt, ist die Schürze
4 von der zu reinigenden Fläche flach anliegenden Randstreifen gebildet. Um den Eintritt der Restströmung zu ermöglichen, ist die Schürze mit Einschnitten5 versehen, wobei diese bei dem in der Zeichnung dargestellten rechteckigen Gehäuse2 im Bereich der Ecken vorgesehen sind. - Zusätzlich kann, wie dies aus der
1 hervorgeht, das Gehäuse2 mit Einlassöffnungen6 für den Eintritt der Restströmung versehen sein, wobei – in nicht näher dargestellter Weise – diese Einlassöffnungen6 verstellbar ausgebildet sein können, um eine Regelung der Restströmung vornehmen zu können. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
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- - WO 2005/093536 A1 [0004]
- - WO 2005/093537 A1 [0004]
- - DE 10020503 A1 [0005]
Claims (8)
- Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fenster, mit einer Putzeinrichtung sowie einem die Putzeinrichtung in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse (
2 ), das mit einer offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig anliegt, ferner mit einer Saugeinrichtung (3 ) zur Erzeugung eines Unterdrucks in dem Gehäuse (2 ), dadurch gekennzeichnet, dass am Rand des Gehäuses (2 ) eine umlaufende flexible Schürze (4 ) angeordnet ist, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses (2 ) und der zu reinigenden Fläche abdichtet und dabei so ausgebildet ist, dass eine geringe, die Luftströmung durch die Saugeinrichtung (3 ) aufrecht erhaltende Restströmung gewährleistet ist, wobei die Schürze (4 ) aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizient gegenüber der zu reinigenden Fläche besteht. - Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Reibungskoeffizient der Schürze (
4 ) gegenüber der zu reinigenden Fläche zwischen 0,05 und 0,2 liegt. - Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (
4 ) aus Polytetrafluorethylen besteht. - Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (
4 ) aus mit Polytetrafluorethylen getränktem Glasgewebe besteht. - Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (
4 ) von der zu reinigenden Fläche flach anliegenden Randstreifen gebildet ist. - Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (
4 ) mit Einschnitten (5 ) für den Eintritt der Restströmung versehen ist. - Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Einschnitte (
5 ) im Bereich der Ecken des Gehäuses (2 ) vorgesehen sind. - Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse (
2 ) mit Einlassöffnungen (6 ) für den Eintritt der Restströmung versehen ist.
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