DE102006039821A1 - Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem - Google Patents
Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem Download PDFInfo
- Publication number
- DE102006039821A1 DE102006039821A1 DE102006039821A DE102006039821A DE102006039821A1 DE 102006039821 A1 DE102006039821 A1 DE 102006039821A1 DE 102006039821 A DE102006039821 A DE 102006039821A DE 102006039821 A DE102006039821 A DE 102006039821A DE 102006039821 A1 DE102006039821 A1 DE 102006039821A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- piezoelectric elements
- movement
- optical system
- action
- movable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 title abstract description 7
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 75
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 6
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/023—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/0095—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing combined linear and rotary motion, e.g. multi-direction positioners
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/02—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing linear motion, e.g. actuators; Linear positioners ; Linear motors
- H02N2/021—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing linear motion, e.g. actuators; Linear positioners ; Linear motors using intermittent driving, e.g. step motors, piezoleg motors
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/02—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing linear motion, e.g. actuators; Linear positioners ; Linear motors
- H02N2/028—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing linear motion, e.g. actuators; Linear positioners ; Linear motors along multiple or arbitrary translation directions, e.g. XYZ stages
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/202—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using longitudinal or thickness displacement combined with bending, shear or torsion displacement
- H10N30/2023—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using longitudinal or thickness displacement combined with bending, shear or torsion displacement having polygonal or rectangular shape
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
Abstract
Ein
optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie,
ist mit wenigstens einem optischen Element (10) und wenigstens einem
eine Antriebseinrichtung aufweisenden Manipulator für das optische
Element (10) versehen. Die Antreibseinrichtung weist ein bewegliches
Teilelement (12) und wenigstens ein feststehendes Teilelement (13)
auf, welche relativ zueinander in wenigstens eine Bewegungsrichtung
beweglich sind, wobei zwischen den beiden Teilelementen piezoelektrische
Elemente (14) angeordnet sind, von denen ein erster Teil (14a) eine
Wirkungsrichtung wenigstens annähernd
senkrecht zu einer Bewegungsrichtung und ein zweiter Teil (14b)
eine Wirkungsrichtung in eine Bewegungsrichtung aufweist. Zusätzlich ist
ein dritter Teil (14c) mit piezoelektrischen Elementen (14) mit
einer Wirkungsrichtung vorgesehen, die wenigstens annähernd senkrecht
zur Wirkungsrichtung des ersten Teiles (14a) und in einem Winkel
zur Wirkungsrichtung des zweiten Teiles (14b) der piezoelektrischen
Elemente (14) liegt.
Description
- Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, mit wenigstens einem optischen Element und wenigstens einem eine Antriebseinrichtung aufweisenden Manipulator für das optische Element, wobei die Antriebseinrichtung wenigstens ein bewegliches Teilelement und wenigstens ein feststehendes Teilelement aufweist, welche relativ zueinander in wenigstens eine Bewegungsrichtung beweglich sind, wobei zwischen den beiden Teilelementen piezoelektrische Elemente angeordnet sind, von denen ein erster Teil eine Wirkungsrichtung wenigstens annähernd senkrecht zu einer Bewegungsrichtung und ein zweiter Teil eine Wirkungsrichtung in eine Bewegungsrichtung aufweist.
- Ein optisches System nämlich ein Projektionsobjektiv dieser Art ist in der
DE 102 25 266 A1 und in derDE 103 01 818 A beschrieben. Mit der Antriebseinrichtung, die mit piezoelektrischen Elementen betrieben wird, ist es möglich insbesondere die in der Mikrolithographie erforderlichen hohen Abbildungsgenauigkeit durch aktive Positionierung von entsprechend mit einer Antriebseinrichtung der eingangs erwähnten Art versehenen optischen Elementen zu erreichen. Darüber hinaus können auf diese Weise Bildfehler korrigiert werden. Erreicht wird dies dabei durch eine Anordnung von zu Stapeln zusammengefassten piezoelektrischen Elementen, wobei ein Teil der piezoelektrischen Elemente seine Wirkungsrichtung senkrecht zur Bewegungsrichtung und ein zweiter Teil seine Wirkungsrichtung parallel zur Bewegungsrichtung besitzt. Sind dabei zum Beispiel drei Stapel über den Umfang verteilt angeordnete Linearantriebe mit piezoelektrischen Elementen vorgesehen, die sich zum Beispiel an einem feststehenden Teil des Objektivgehäuses abstützen und mit ihren beweglichen Teilelementen an einer Fassung eines optischen Elementes oder direkt an dem optischen Element angreifen, so lässt sich das optische Element auf diese Weise parallel zur Z-Achse, das heißt parallel zur optischen Achse, verschieben. Bei einer ungleichmäßigen Aktivierung der drei über den Umfang verteilten angeordneten Linearantriebe sind auch Verkippungen relativ zur Z-Achse möglich. - Zum weiteren Stand der Technik wird auch auf die
US 2,822,133 , dieUS 6, 150, 750 , dieDE 199 10 947 A1 und dieDE 129 01 295 A1 und verwiesen. - Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde ein optisches System der eingangs erwähnten Art mit einem Manipulator, der einen Linearantrieb mit piezoelektrischen Elementen aufweist weiter zu verbessern, insbesondere durch den das zu manipulierende optische Element in mehr Freiheitsgraden bewegt werden kann.
- Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass zusätzlich ein dritter Teil mit piezoelektrischen Elementen mit einer Wirkungsrichtung vorgesehen ist, die wenigstens annähernd senkrecht zur Wirkungsrichtung des ersten Teiles und die in einem Winkel zu der Wirkungsrichtung des zweiten Teiles der piezoelektrischen Elemente liegt.
- Eine erfindungsgemäße Verstellvorrichtung für ein optisches Element ist in Anspruch 23 und ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Manipulation eines optischen Elementes ist in Anspruch 32 beansprucht.
- Durch die erfindungsgemäße Aufteilung der piezoelektrischen Elemente in drei Wirkungsrichtungen werden die Verschiebe- bzw. Bewegungsmöglichkeiten für ein zu manipulierendes optisches Element erhöht. So sind neben Verschiebungen in Richtung der Z-Achse und Verkippungen relativ zur Z-Achse auch Bewegungen in einer Ebene senkrecht zur Z-Achse möglich. Auf diese Weise sind neben Z-Verschiebungen erfindungsgemäß nunmehr auch hierzu orthogonale Verschiebungen des optischen Elementes möglich.
- Wenn in einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung vorgesehen ist, dass der Winkel wenigstens annähernd rechtwinklig zur Bewegungs- bzw. Wirkungsrichtung des zweiten Teils von piezoelektrischen Elementen liegt, lässt sich ein zu manipulierendes optisches Element sehr präzise in der X-/Y-Ebene bewegen.
- Um eine ausreichend stabile und präzise Bewegung erreichen zu können, sollten wenigstens drei auf Abstand voneinander angeordnete Stapel von piezoelektrischen Elementen vorgesehen sein.
- Wenn wenigstens drei auf Abstand voneinander angeordnete Stapel von piezoelektrischen Elementen vorgesehen sind, lässt sich eine analoge Bewegung bei Führung des beweglichen Teiles erreichen.
- Eine sichere schrittweise Bewegung des beweglichen Teilelementes wird dann erreicht, wenn wenigstens sechs auf Abstand voneinander angeordnete Stapel von piezoelektrischen Elementen vorgesehen sind.
- Dabei kann jeder Stapel mit einer entsprechenden Anzahl von piezoelektrischen Elementen vorgesehen sein, die aus allen drei Teilen bestehen und somit alle drei Wirkungsrichtungen erlauben.
- Ebenso ist es hierdurch auch möglich für jeden Stapel piezoelektrische Elemente vorzusehen, die nur in eine oder nur in zwei Wirkungsrichtung aktivierbar sind. In diesem Falle müssen durch eine entsprechende Ansteuerung die piezoelektrischen Elemente der verschiedenen Stapel koordiniert aktiviert werden.
- Eine konstruktiv vorteilhafte Ausgestaltung kann darin bestehen, dass das bewegliche Teilelement zwischen zwei sich gegenüberliegend angeordneten feststehenden Teilelementen angeordnet ist. Auf diese Weise wird eine präzise Führung und exakte Bewegung erreicht.
- Wenn in einer sehr vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung über den Umfang des optischen Elementes verteilt wenigstens drei Stapel von piezoelektrischen Elementen vorgesehen sind, die unabhängig voneinander aktivierbar sind, dann können neben den drei translatorischen Freiheitsgraden zusätzlich auch noch drei rotatorische Freiheitsgrade, das heißt insgesamt somit sechs Freiheitsgrade, erreicht werden. Dies bedeutet, dass zusätzlich auch noch Verkippungen oder Verdrehungen jeweils um die X-/Y- oder Z-Achse möglich werden. Hierzu ist es lediglich erforderlich, dass jede der drei über den Umfang verteilt angeordneten Antriebseinrichtungen mit wenigstens jeweils drei Stapeln von piezoelektrischen Elementen versehen ist, die dann für Verkippungen oder Verdrehungen entsprechend unterschiedlich aktiviert werden.
- Eines der Haupteinsatzgebiete des erfindungsgemäßen optischen Systems sind Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie und dabei Projektionsobjektive oder Beleuchtungsvorrichtungen, da in diesem Falle Genauigkeiten im Nanometerbereich erforderlich sind.
- Die Erfindung ist jedoch grundsätzlich auch als Verstellvorrichtung allgemeiner Art für die verschiedensten zu verstellenden Elemente geeignet. Dies gilt insbesondere für die Fälle, wo eine Verstellung mit höchster Präzision erfolgen soll, wie zum Beispiel Mess- und Prüfeinrichtungen auf den verschiedensten technischen Gebieten.
- Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen ergeben sich aus den weiteren Unteransprüchen und das dem nachfolgend anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschriebenen Ausführungsbei spielen.
- Es zeigt:
-
1 eine Prinzipdarstellung einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie; -
2 eine prinzipmäßige Darstellung eines erfindungsgemäßen Linearantriebes mit piezoelektrischen Elementen; -
3 eine vergrößerte Darstellung eines Stapels mit piezoelektrischen Elementen aus der2 gemäß Ausschnittsvergrößerung X; -
4 eine dreidimensionale Darstellung eines beweglichen Teilelementes mit 6 Piezostapel; -
5a verschiedene Darstellungen von Bewegungsstufen bis5f eines beweglichen Teilelementes; -
6 Draufsicht auf eine Linse mit drei Linearantrieben. - Die in der
1 prinzipmäßig dargestellte Projektionsbelichtungsanlage ist für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterelementen vorgesehen. Grundsätzlich ist ihr Aufbau allgemein bekannt, weshalb nachfolgend nur auf die für die Erfindung wesentlichen Teile eingegangen wird. Zur weiteren Offenbarung wird auch auf dieDE 102,25,266 A1 verwiesen. - Die Projektionsbelichtungsanlage
1 weist eine Beleuchtungseinrichtung3 , eine Einrichtung4 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer gitterartigen Struktur versehenen Maske, einem sogenannten Reticle5 , durch welche die späteren Strukturen auf einem Wafer2 bestimmt werden, eine Einrichtung6 zur Halterung, Fortbewegung und exakten Positionierung des Wafers2 und eine Abbildungsvorrichtung in Form eines Projektionsobjektives7 auf. - Da die in das Reticle
5 eingebrachten Strukturen verkleinert auf dem Wafer2 belichtet werden, werden an die Abbildungsvorrichtung7 , nämlich das Projektionsobjektiv, sehr hohe Anforderungen hinsichtlich Auflösung und Präzision gestellt, wobei man sich im Bereich von wenigen Nanometern befindet. - Die Beleuchtungseinrichtung
3 stellt eine für die Abbildung des Reticles5 auf dem Wafer2 benötigten Projektionsstrahl8 bereit. Als Quelle für die Strahlung kann ein Laser Verwendung finden. Durch den Projektionsstrahl8 wird ein Bild des Reticles5 erzeugt und durch das Projektionsobjektiv7 verkleinert und anschließend auf den Wafer2 übertragen. - In dem Projektionsobjektiv
7 sind eine Vielzahl von transmittiven und/oder refraktiven und/oder diffraktiven optischen Elementen, wie zum Beispiel Linsen, Spiegel, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen angeordnet. - Ein oder mehrere in dem Projektionsobjektiv
7 angeordnete optischen Elemente sind mit einem oder mehreren Manipulatoren9 versehen. Ein Manipulator9 ist schematisch in der1 zusammen mit einer zu manipulierenden Linse10 schematisch dargestellt. - Der Manipulator
9 beinhaltet einen Linearantrieb als Antriebseinrichtung11 durch welchen ein fest mit dem optischen Element10 verbundenes bewegliches Teilelement12 , zum Beispiel die Fassung der Linse10 , gegenüber einem fest mit dem Projektionsobjektiv7 verbundenen Teilelement13 bewegt werden kann. Das Teilelement13 kann zum Beispiel ein Teil des Objektivgehäuses sein. - In den
2 bis4 ist die in der1 nur schematisch dargestellte Antriebseinrichtung11 im Detail dargestellt. Wie ersichtlich ist das bewegliche Teilelement12 zwischen zwei sich gegenüber liegenden feststehenden Teilelementen13 angeordnet. Zwischen dem beweglichen Teilelement12 und den beiden feststehenden Teilelementen13 , die auch einstückig ausgebildet sein können, befinden sich gegenüberliegend vier auf jeder Seite angeordnete Stapel15 mit piezoelektrischen Elementen14 . Die Stapel15 sind auf Abstand voneinander angeordnet und sollten für eine präzise Führung bzw. Verschiebung des beweglichen Teilelementes12 möglichst auch genau gegenüberliegend auf den verschiedenen Seiten angeordnet sein. - Der Aufbau eines Stapels
15 mit piezoelektrischen Elementen14 ist aus der3 in vergrößertem Maßstab ersichtlich. Wie ersichtlich besteht der Stapel15 aus drei Teilen14a ,14b ,14c von piezoelektrischen Elementen14 . - Die Antriebseinrichtung
11 kann beispielsweise so in dem Projektionsobjektiv7 positioniert sein, dass die Z-Achse (optische Achse) parallel zur Längsachse der Stapel15 verläuft, womit sich die X-/Y-Ebene in der Ebene des beweglichen Teilelementes12 befindet. - Alternativ ist es auch möglich die Antriebseinrichtung
11 mit dem beweglichen Teilelement12 so anzuordnen, dass sich die Z-Achse in der Ebene des beweglichen Teilelements12 befindet. Die dazu rechtwinklig liegende Bewegungsrichtung ist in diesem Falle dann zum Beispiel bei einer Linse die Tangentialrichtung. So kann zum Beispiel der zweite Teil14b der piezoelektrischen Elemente14 in die Z-Richtung, und der dritte Teil14c der piezoelektrischen Elemente14 in die Tangentialrichtung jeweils seine Wirkungsebene mit einer entsprechenden Scherung besitzen. Der für einen Hub verantwortliche Teil14a der piezoelektrischen Elemente14 bewegt sich in diesem Falle in radialer Richtung. - Nähere Ausführungen zur Wirkungsweise und zur Bewegung des beweglichen Teilelementes
12 werden nachfolgend anhand der4 ,5 und6 gemacht. - Aus der vergrößerten Darstellung der
3 ist ersichtlich, dass der erste Teil14a von piezoelektrischen Elementen14 mit einer Wirkungsrichtung bei deren Aktivierung versehen ist, die jeweils in Längsrichtung15a des Stapels15 parallel verläuft. Der zweite Teil14b der piezoelektrischen Elemente14 weist mit einer Scherbewegung eine Wirkungsrichtung parallel zu einer vorgegebenen Bewegungsrichtung des beweglichen Teilelementes12 auf. - Ein dritter Teil
14c der piezoelektrischen Elemente14 ist ebenfalls in einer Scherbewegung mit einer Wirkungsrichtung versehen, die rechtwinklig zur Bewegungsrichtung des zweiten Teiles14b der piezoelektrischen Elemente14 liegt. - Selbstverständlich ist auch eine andere Anordnung der drei Teile möglich, wie z. B. dass der eine Teil eine Scherbewegung durchführt.
- Durch die erfindungsgemäße Ausbildung der stapelweise angeordneten piezoelektrischen Elemente
14 in jeweils drei Teile mit unterschiedlichen Wirkungsrichtungen wird eine Bewegungsmöglichkeit für das bewegliche Teilelement12 in drei Freiheitsgraden erreicht. -
4 zeigt eine erfindungsgemäße Ausgestaltung mit einem plattenförmigen Läufer als bewegliches Teilelement12 . - Sind dabei je sechs Stapel
15 oberhalb und unterhalb des plattenförmigen Läufers angeordnet (die Stapel unterhalb und das feststehende Teilelement13 sind nicht dargestellt), so ist eine Bewegung des beweglichen Teilelementes sowohl anlog, als auch im Schrittmodus möglich. Mindestens sechs Stapel pro Seite sollten deshalb vorhanden sein, damit jeweils drei Stapel für einen Schritt abheben können, während die anderen Stapel das bewegliche Teilelement sicher in der Verschiebeebene bewe gen und führen können. Falls keine so genaue Führung erforderlich ist oder falls eine Führung auf andere Weise erfolgt, können gegebenenfalls auch weniger Stapel von piezoelektrischen Elementen auf jeder Seite vorgesehen sein. - Bei der Ausgestaltung mit je vier Stapel von piezoelektrischen Elementen
14 oberhalb und unterhalb müsste die Bewegung der Ebene bei einem Schritt durch je zwei Stapel gehalten werden. - Eine vereinfachte erfindungsgemäße Ausgestaltung kann darin bestehen, dass jeweils drei Stapel oberhalb und drei Stapel unterhalb des beweglichen Teilelementes angeordnet sind. In diesem Falle ist jedoch eine Vorspannung des beweglichen Teilelementes
12 erforderlich und das bewegliche Teil12 kann auch nur analog bewegt werden. Eine Vorspannung kann zum Beispiel durch ein oder mehrere Federeinrichtungen16 , wie in der2 dargestellt, erreicht werden. Wie ersichtlich wird dabei das bewegliche Teilelement12 zwischen den beiden sich gegenüberliegenden feststehenden Teilelementen13 geklemmt, um eine sichere Positionierung zu erhalten. - In den
5a bis5f sind die Bewegungsmöglichkeiten des beweglichen Teilelementes12 in verschiedenen Stufen mit 4 Stapeln15 dargestellt. -
5a zeigt den Ausgangspunkt, wobei das Teilelement12 jeweils durch den Teil14a der piezoelektrischen Elemente die einen Hub als Wirkungsrichtung bei Aktivierung ausüben, festgeklemmt ist. - In
5b ist der nachfolgende Schritt im Bewegungsablauf dargestellt, bei dem zwei Teile14a mit den „Hubpiezos" geöffnet und damit nicht mehr in Eingriff mit den beweglichen Teil12 sind. Die beiden noch klemmenden Hubpiezos14a halten das bewegliche Teilelement12 fest und bei einer Aktivierung des Teiles14b der piezoelektrischen Elemente, die als „Scherpiezos" wirken, können eine Bewegung einleiten. - Aus der
5c ist dieser Schritt ersichtlich. -
5d zeigt den nächsten Schritt im Bewegungsablauf, wobei die „Hubpiezos" der Teile14a das Teilelement12 wieder klemmen. -
5e zeigt, ähnlich wie5b , wie nunmehr die Klemmung der beiden anderen Hubpiezos der Teile14a gelöst wird, wonach entsprechend5f der nächste Schritt durch eine Aktivierung, ähnlich wie in der5c erläutert, der anderen Scherpiezos der Teile14b erfolgt. - Wie ersichtlich erfolgt damit eine Verschiebung des beweglichen Elementes
12 in Pfeilrichtung A gemäß5c und5f . - Bei einer Aktivierung der Teile
14c von piezoelektrischen Elementen, die jeweils einen Scherhub rechtwinklig zu der Wirkungsrichtung der piezoelektrischen Elemente der Teile14b durchführen, erfolgt in gleicher Weise eine Bewegung des beweglichen Teilelementes12 rechtwinklig zu dem vorstehend erläuterten Bewegungsablauf. - Die
4 zeigt ein Zwischenglied17 , das die Verbindung zwischen dem beweglichen Teil12a und dem optischen Element, z.B. der Linse10 herstellt. Das Zwischenglied17 kann auch anstelle einer direkten Verbindung mit dem optischen Element auch mit einer Innenfassung verbunden sein, in der das optische Element gelagert ist (siehe gestrichelte Darstellung mit dem Bezugszeichen20 ). - Wie aus der
4 ersichtlich ist, ist das Zwischenglied17 als elastischer Stab ausgebildet, um eine Entkoppelung von Deformationen für das optische Element zu erreichen. - Anstelle eines elastischen Stabes oder auch als zusätzliche Deformationsentkopplung kann das Zwischenglied
17 über ein Gelenkteil18 entweder mit dem Teilelement12a oder mit dem optischen Element10 verbunden sein. Das Gelenkteil18 kann als Festkörpergelenk ausgebildet sein. - Die
6 zeigt in einer Draufsicht auf eine Linse10 als optisches Element drei gleichmäßig über den Umfang der Linse angeordnete Antriebseinrichtung11 mit jeweils mehreren Stapeln15 mit piezoelektrischen Elementen14 . Wie ersichtlich greifen dabei die drei Zwischenglieder17 gemäß4 radial an der Linse10 an. Bei einer jeweiligen Aktivierung der dritten Teile14c von piezoelektrischen Elementen in den Stapeln15 ergibt sich eine tangentiale Wirkungsrichtung und damit eine Verdrehung der Linse10 (siehe auch4 ). Bei einer Aktivierung der ersten Teile14a ergibt sich eine Verschiebung in radialer Richtung gemäß Pfeile B, C oder D und zwar in Abhängigkeit von den jeweils in den drei Linearantrieben11 aktivierten Teile14a . Auf diese Weise kann die Linse10 in einem Polarkoordinatensystem in einer Ebene rechtwinklig zur Z-Achse und damit zur optischen Achse verschoben werden. Selbstverständlich ist durch mathematische Umsetzung des Polarkoordinatensystems mit einer entsprechenden Steuerung und Regelung auch eine Verschiebung in einem othogonalen Koordinatensystem, nämlich einem X-/Y-Koordinatensystem. - Eine Verschiebung parallel zur Z-Achse wird bei dieser Ausgestaltung durch die Teile
14b der piezoelektrischen Elemente14 erreicht (siehe auch4 ). - Wenn die drei Antriebseinrichtungen
11 in unterschiedliche Richtungen bzw. teilweise gegensätzlich aktiviert werden, so sind neben den drei translatorischen Freiheitsgraden für eine Bewegung der Linse10 auch noch drei rotatorische Freiheitsgrade und damit insgesamt sechs Freiheitsgrade möglich. So sind auf diese Weise zum Beispiel Verdrehungen bzw. Verkippungen sowohl um die Z-Achse, als auch um die X-/Y-Achsen möglich. - Wie weiterhin aus der
6 ersichtlich ist, können an dem optischen Element auch ein oder mehrere Sensoren19 vorgesehen sein, die die Position der Linse10 und die den Bewegungsablauf bei einer Aktivierung von ein oder mehreren der Linearantriebe11 detektieren. Auf diese Weise ist eine exakte Steuerung oder auch eine Regelung der Bewegung der Linse möglich. - Die Sensoren
19 müssen nicht an der Linse10 vorgesehen sein, sondern können auch an beliebigen anderen Stellen, wie z.B. den beweglichen Teilelementen12 oder den Zwischengliedern17 , vorgesehen sein, um die Position und die Bewegung der Linse zu detektieren. Eine weitere Möglichkeit besteht darin die Position und die Bewegung des optischen Elementes zu detektieren, dass man im Bild selbst misst. Dies bedeutet das man nach dem Projektionsobjektiv die Abbildung oder Wellenfront auf Bildfehler kontrolliert. - Die in der
6 dargestellte Lagerung der Linse mit deren Verstellmöglichkeit entspricht praktisch einer bipoden- oder hexapoden Lagerung. - Wie vorstehend erwähnt, lässt sich das optische Element sowohl analog als auch schrittweise bewegen. Bei einem Analogbetrieb sind weniger Stapel
15 mit piezoelektrischen Elementen14 erforderlich. Nachteilig dabei ist jedoch, dass nur eine Bewegung innerhalb eines vorgegebenen Bereiches möglich ist, wobei zur Einhaltung einer vorgewählten oder zu wählenden Position die piezoelektrischen Elemente stets aktiviert sein müssen. Ein Vorteil dieser Ausgestaltung besteht jedoch darin, dass auf diese Weise sehr exakte Verschiebungen und Positionierungen möglich werden. - Der Vorteil einer schrittweisen Verschiebung mit einer entsprechenden höheren Anzahl von Stapeln
15 mit piezoelektrischen Elementen14 liegt darin, dass die Bewegungsmöglichkeiten für das zu manipulierende optische Element wesentlich größer sind und dass nach Ende der Bewegung die piezoelektrischen Elemente zumindest teilweise deaktiviert werden können.
Claims (37)
- Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, mit wenigstens einem optischen Element und wenigstens einem eine Antriebseinrichtung aufweisenden Manipulator für das optische Element, wobei die Antriebseinrichtung wenigstens ein bewegliches Teilelement und wenigstens ein feststehendes Teilelement aufweist, welche relativ zueinander in wenigstens eine Bewegungsrichtung beweglich sind, wobei zwischen den beiden Teilelementen piezoelektrische Elemente angeordnet sind, von denen ein erster Teil eine Wirkungsrichtung wenigstens annähernd senkrecht zu einer Bewegungsrichtung und ein zweiter Teil eine Wirkungsrichtung in eine Bewegungsrichtung aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzlich ein dritter Teil (
14c ) mit piezoelektrischen Elementen (14 ) mit einer Wirkungsrichtung vorgesehen ist, die wenigstens annähernd senkrecht zur Wirkungsrichtung des ersten Teiles (14a ) und die in einem Winkel zu der Wirkungsrichtung des zweiten Teiles (14b ) der piezoelektrischen Elemente (14 ) liegt. - Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel des dritten Teils (
14c ) wenigstens annähernd rechtwinklig zur Wirkungsrichtung des zweiten Teils (14b ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) liegt. - Optisches System nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens drei auf Abstand von einander angeordnete Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) vorgesehen sind. - Optisches System nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens drei auf Abstand voneinander angeordnete Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) für eine analoge Bewegung vorgesehen sind. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens sechs auf Abstand voneinander angeordnete Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) für eine schrittweise Bewegung des beweglichen Teilelementes (12 ) vorgesehen sind. - Optisches System nach Anspruch 3, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) mit allen drei Teilen (14a ,14b ,14c ) von piezoelektrischen Elementen (14 ), die in unterschiedliche Bewegungsrichtungen aktivierbar sind, versehen ist. - Optisches System nach den Ansprüchen 3, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass in jedem Stapel (
15 ) piezoelektrischer Elemente (14 ) für nur eine oder für nur zwei Bewegungsrichtungen vorgesehen sind. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das bewegliche Teilelement (
12 ) zwischen zwei feststehenden Teilelementen (13 ) angeordnet ist. - Optisches System nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das bewegliche Teilelement (
12 ) zwischen zwei sich gegenüberliegend angeordneten feststehenden Teilelementen (13 ) angeordnet ist. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das bewegliche Teilelement (
12 ) an dem optischen Element (10 ), an einer Fassung (20 ), mit der das optische Element verbunden ist, oder an einem mit dem optischen Element oder mit der Fassung verbundenen Teil angeordnet ist. - Optisches System nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das mit dem optischen Element (
10 ) oder mit der Fassung verbundene Teil als hebelartiges Zwischenglied (17 ) ausgebildet ist. - Optisches System nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Zwischenglied (
17 ) elastisch ausgebildet ist. - Optisches System nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Zwischenglied (
17 ) mit wenigstens einem Gelenkteil (18 ) versehen ist. - Optisches System nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das Gelenkteil (
18 ) als Festkörpergelenk ausgebildet ist. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Antriebseinrichtungen (
11 ) mit jeweils wenigstes einem beweglichen Teilelement (12 ) und wenigstens einem feststehenden Teilelement (13 ) derart an dem optischen Element (10 ) oder der Fassung (20 ) für das optische Element (10 ) angeordnet sind, dass sich für die Bewegung des optischen Elementes (10 ) mehrere Freiheitsgrade ergeben. - Optisches System nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass sechs Freiheitsgrade vorgesehen sind.
- Optisches System nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens drei Antriebseinrichtungen (
11 ) mit jeweils einem beweglichen Teilelement (12 ) und einem feststehenden Teilelement (13 ) über den Umfang des optischen Elementes (10 ) oder der Fassung (20 ) verteilt vorgesehen sind. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 17 dadurch gekennzeichnet, dass das wenigstens eine feststehende Teilelement (
13 ) ein Gehäuseteil eines Projektions objektives (7 ) ist. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass als piezoelektrische Elemente (
14 ) Piezoaktoren vorgesehen sind, die bei Aktivierung einen Hub oder eine Scherung erzeugen. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass das wenigstens eine bewegliche Teilelement (
12 ) gegenüber dem wenigstens einen feststehenden Teilelement (13 ) vorgespannt ist. - Optisches System nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass für eine Vorspannung mindestens eine Federeinrichtung (
16 ) vorgesehen ist. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass zur Lagebestimmung des wenigstens einen beweglichen Teilelementes (
12 ) ein oder mehrere Sensoren (19 ) vorgesehen sind. - Optisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass Sensoren zum optischen Element (
10 ), zur Fassung (20 ) oder zum mit der Fassung verbundenen Teil vorgesehen sind. - Verstellvorrichtung für ein zu verstellendes optisches Element in einer Abbildungsvorrichtung, insbesondere in einem Projektionsobjektiv oder einer Beleuchtungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, wobei das zu verstellende optische Element mit wenigstens einem eine Antriebseinrichtung aufweisenden Manipulator versehen ist, wobei die Antriebseinrichtung wenigstens ein bewegliches Teilelement und wenigstens ein feststehendes Teilelement aufweist, welche relativ zueinander in wenigstens eine Bewegungsrichtung beweglich sind, wobei zwischen den beiden Teilelementen piezoelektrische Elemente angeordnet sind, von denen ein erster Teil eine Wirkungsrichtung wenigstens annähernd senkrecht zu einer Bewegungsrichtung und ein zweiter Teil eine Wirkungsrichtung in eine Bewegungsrichtung aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzlich ein dritter Teil (
14c ) mit piezoelektrischen Elementen (14 ) mit einer Wirkungsrichtung vorgesehen ist, die wenigstens annähernd senkrecht zur Wirkungsrichtung des ersten Teiles (14a ) und die in einem Winkel zu der Wirkungsrichtung des zweiten Teiles (14b ) der piezoelektrischen Elemente (14 ) liegt. - Verstellvorrichtung nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel des dritten Teils (
14c ) wenigstens annähernd rechtwinklig zur Wirkungsrichtung des zweiten Teils (14b ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) liegt. - Verstellvorrichtung nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens drei auf Abstand von einander angeordnete Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) vorgesehen sind. - Verstellvorrichtung nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens drei auf Abstand voneinander angeordnete Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) für eine analoge Bewegung vorgesehen sind. - Verstellvorrichtung nach einem der Ansprüche 23 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens sechs auf Abstand voneinander angeordnete Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) für eine schrittweise Bewegung des beweglichen Teilelementes (12 ) vorgesehen sind. - Verstellvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Stapel (
15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) mit allen drei Teilen (14a ,14b ,14c ) von piezoelektrischen Elementen (14 ), die in unterschiedliche Bewegungsrichtungen aktivierbar sind, versehen ist. - Verstellvorrichtung nach einem der Ansprüche 25 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass in jedem Stapel (
15 ) piezoelektrischer Elemente für nur eine oder für nur zwei Bewegungsrichtungen vorgesehen sind. - Verstellvorrichtung nach einem der Ansprüche 23 bis 29, dadurch gekennzeichnet, dass das bewegliche Teilelement (
12 ) zwischen zwei feststehenden Teilelementen (13 ) angeordnet ist. - Verstellvorrichtung nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, dass das bewegliche Teilelement (
12 ) zwischen zwei sich gegenüberliegend angeordneten feststehenden Teilelementen (13 ) angeordnet ist. - Verfahren zur Positionierung und Verstellung eines optischen Elementes in einem optischen System, insbesondere in einem Projektionsobjektiv in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, wobei das optische Element durch wenigstens einen eine Antriebseinrichtung aufweisenden Manipulator durch piezoelektrische Elemente, die an wenigstens einem beweglichen Teilelement der wenigstens einen Antriebseinrichtung angreifen und die das wenigstens eine bewegliche Teilelement gegenüber wenigstens einem feststehenden Teilelement der Antriebseinrichtung durch einen ersten Teil von piezoelektrischen Elementen mit einer Wirkungsrichtung wenigstens annähernd senkrecht zu einer Bewegungsrichtung und durch einen zweiten Teil von piezoelektrischen Elementen mit einer Wirkungsrichtung in eine Bewegungsrichtung verstellt und positioniert wird, dadurch gekennzeichnet, dass durch einen dritten Teil (
14c ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) mit einer Wirkungsrichtung, die wenigstens annähernd senkrecht zur Wirkungsrichtung des ersten Teiles (14a ) und die in einem Winkel zu der Wirkungsrichtung des zweiten Teiles (14b ) der piezoelektrischen Elemente (14 ) liegen, das bewegliche Teilelement (12 ) in zwei verschiedene Bewegungsrichtungen bewegt wird. - Verfahren nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, dass der dritte Teil (
14c ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) eine Bewegung in einem Winkel wenigstens annähernd rechtwinklig zur Bewegungsrichtung des zweiten Teiles (14b ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) erzeugt. - Verfahren nach Anspruch 32 oder 33, dadurch gekennzeichnet, dass eine Bewegung des zu verstellenden optischen Elementes (
10 ) durch wenigstens drei auf Abstand voneinander angeordnete Stapeln (15 ) von piezoelektrischen Elementen (14 ) vorgenommen wird. - Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens drei Antriebseinrichtungen (
11 ) so über den Umfang des optischen Elements (10 ) verteilt angeordnet sind, dass sich in Abhängigkeit von der Aktivierung der piezoelektrischen Elemente (14 ) mehrere Freiheitsgrade zur Verstellung und Positionierung des optischen Elements (10 ) ergeben. - Verfahren nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, dass die Verstellung und Positionierung in sechs Freiheitsgraden erfolgt.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006039821A DE102006039821A1 (de) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem |
PCT/EP2007/007448 WO2008022797A1 (de) | 2006-08-25 | 2007-08-24 | Projektionsbelichtungsanlage und optisches system |
US12/390,685 US8269948B2 (en) | 2006-08-25 | 2009-02-23 | Projection exposure apparatus and optical system |
US13/589,313 US9110388B2 (en) | 2006-08-25 | 2012-08-20 | Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006039821A DE102006039821A1 (de) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102006039821A1 true DE102006039821A1 (de) | 2008-03-13 |
Family
ID=39046922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102006039821A Withdrawn DE102006039821A1 (de) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8269948B2 (de) |
DE (1) | DE102006039821A1 (de) |
WO (1) | WO2008022797A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011150042A1 (en) * | 2010-05-27 | 2011-12-01 | Corning Incorporated | X-y adjustable optical mount with z rotation |
WO2012097868A1 (en) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | Piezomotor Uppsala Ab | Operation of electromechanical actuator devices |
WO2014140143A3 (en) * | 2013-03-15 | 2014-12-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Piezo drive unit |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006039821A1 (de) | 2006-08-25 | 2008-03-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem |
JP2009026862A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-05 | Canon Inc | 光学素子位置決めシステム、投影光学系及び露光装置 |
DE102009029673A1 (de) | 2009-09-22 | 2010-11-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Manipulator zur Positionierung eines optischen Elementes in mehreren räumlichen Freiheitsgraden |
DE102009057746A1 (de) * | 2009-12-10 | 2011-06-16 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Nanopositionierer |
NL1037639C2 (en) * | 2010-01-21 | 2011-07-25 | Mapper Lithography Ip Bv | Lithography system with lens rotation. |
JP5716091B2 (ja) | 2010-08-25 | 2015-05-13 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置のマルチファセットミラー |
CN102162894B (zh) * | 2011-05-17 | 2012-09-19 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种投影物镜***中光学元件调心装置 |
BR112014000975A2 (pt) * | 2011-07-19 | 2017-02-21 | Mauser-Werke Oberndorf Maschb Gmbh | sistema de ajuste |
FI20116111L (fi) * | 2011-11-10 | 2013-05-11 | Sensapex Oy | Mikromanipulaattorijärjestely |
US9269536B2 (en) * | 2012-04-17 | 2016-02-23 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Double ended electrode manipulator |
DE102012211320A1 (de) * | 2012-06-29 | 2013-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Aktuator mit Rotor und Projektionsbelichtungsanlage |
CN106170727B (zh) * | 2014-04-17 | 2019-07-05 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和器件制造方法 |
WO2017207016A1 (en) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging arrangement with a piezoelectric device |
DE102019112842A1 (de) * | 2019-05-16 | 2020-11-19 | Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg | Aktuator |
DE102019218609A1 (de) * | 2019-11-29 | 2021-06-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abstützung einer optischen einheit |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6487045B1 (en) * | 1999-06-03 | 2002-11-26 | Nec Corporation | Magnetic disc apparatus and magnetic head in which a recording/reproduction element is mounted on a slider via a piezoelectric element |
DE10225266A1 (de) * | 2001-12-19 | 2003-07-03 | Zeiss Carl Smt Ag | Abbildungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage |
DE10344178B4 (de) * | 2003-09-24 | 2006-08-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2822133A (en) * | 1954-03-22 | 1958-02-04 | Gen Controls Co | Valve structure |
WO1988004492A1 (en) * | 1986-12-03 | 1988-06-16 | Jgc Corporation | Drive unit and motor device using the same |
JPS63316675A (ja) | 1987-06-19 | 1988-12-23 | Mitsubishi Electric Corp | 圧電リニアモ−タ |
IL87312A (en) * | 1988-08-02 | 1992-02-16 | Zvi Orbach | Electromechanical translation apparatus of the inchworm linear motor type |
US4928030A (en) * | 1988-09-30 | 1990-05-22 | Rockwell International Corporation | Piezoelectric actuator |
US5027028A (en) * | 1989-08-29 | 1991-06-25 | Skipper John D | Piezoelectric motor |
US5092360A (en) | 1989-11-14 | 1992-03-03 | Hitachi Metals, Ltd. | Flow rated control valve using a high-temperature stacked-type displacement device |
DK0453826T3 (da) * | 1990-04-27 | 1995-04-03 | Rockwell International Corp | Robotled |
US5068566A (en) * | 1990-06-04 | 1991-11-26 | Rockwell International Corporation | Electric traction motor |
JPH04212913A (ja) | 1990-12-06 | 1992-08-04 | Canon Inc | レンズ移動装置 |
EP0633616B1 (de) | 1993-07-09 | 2002-01-30 | Nanomotion Ltd | Keramischer Motor |
DE19605214A1 (de) | 1995-02-23 | 1996-08-29 | Bosch Gmbh Robert | Ultraschallantriebselement |
RU2161364C2 (ru) | 1996-06-05 | 2000-12-27 | Окатов Юрий Владимирович | Пьезоэлектрический шаговый двигатель |
RU2101840C1 (ru) * | 1996-06-10 | 1998-01-10 | Санкт-Петербургская государственная академия аэрокосмического приборостроения | Шаговый двигатель |
DE19715226A1 (de) | 1997-04-11 | 1998-10-15 | Univ Schiller Jena | Verfahren und Vorrichtung zur hochgenauen Mikropositionierung |
DE19901295A1 (de) | 1999-01-15 | 2000-07-20 | Zeiss Carl Fa | Optische Abbildungsvorrichtung, insbesondere Objektiv, mit wenigstens einem optischen Element |
DE19910947A1 (de) | 1999-03-12 | 2000-09-14 | Zeiss Carl Fa | Vorrichtung zum Verschieben eines optischen Elementes entlang der optischen Achse |
DE10148267B4 (de) * | 2001-06-08 | 2005-11-24 | Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg | Piezolinearantrieb mit einer Gruppe von Piezostapelaktoren sowie Verfahren zum Betreiben eines solchen Antriebes |
US7486382B2 (en) * | 2001-12-19 | 2009-02-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging device in a projection exposure machine |
DE10301818A1 (de) | 2003-01-20 | 2004-07-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Piezo-Linearantrieb mit einer Gruppe von Piezostapelaktuatoren |
JP4212913B2 (ja) | 2003-02-06 | 2009-01-21 | マクセル精器株式会社 | カード |
US6977461B2 (en) * | 2003-12-15 | 2005-12-20 | Asml Netherlands B.V. | System and method for moving an object employing piezo actuators |
US7285365B2 (en) * | 2004-02-13 | 2007-10-23 | Micronic Laser Systems Ab | Image enhancement for multiple exposure beams |
DE102006039821A1 (de) | 2006-08-25 | 2008-03-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem |
-
2006
- 2006-08-25 DE DE102006039821A patent/DE102006039821A1/de not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-08-24 WO PCT/EP2007/007448 patent/WO2008022797A1/de active Application Filing
-
2009
- 2009-02-23 US US12/390,685 patent/US8269948B2/en active Active
-
2012
- 2012-08-20 US US13/589,313 patent/US9110388B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6487045B1 (en) * | 1999-06-03 | 2002-11-26 | Nec Corporation | Magnetic disc apparatus and magnetic head in which a recording/reproduction element is mounted on a slider via a piezoelectric element |
DE10225266A1 (de) * | 2001-12-19 | 2003-07-03 | Zeiss Carl Smt Ag | Abbildungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage |
DE10344178B4 (de) * | 2003-09-24 | 2006-08-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011150042A1 (en) * | 2010-05-27 | 2011-12-01 | Corning Incorporated | X-y adjustable optical mount with z rotation |
US8085482B2 (en) | 2010-05-27 | 2011-12-27 | Corning Incorporated | X-Y adjustable optical mount with Z rotation |
WO2012097868A1 (en) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | Piezomotor Uppsala Ab | Operation of electromechanical actuator devices |
WO2014140143A3 (en) * | 2013-03-15 | 2014-12-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Piezo drive unit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9110388B2 (en) | 2015-08-18 |
US8269948B2 (en) | 2012-09-18 |
WO2008022797A1 (de) | 2008-02-28 |
US20120320353A1 (en) | 2012-12-20 |
US20090225297A1 (en) | 2009-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102006039821A1 (de) | Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem | |
EP1456891B1 (de) | Abbildungseinrichtung in einer projektionsbelichtungsanlage | |
EP1014139B1 (de) | Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, mit einer optischen Halterung mit Aktuatoren | |
DE102006047666A1 (de) | Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektives | |
DE102005057860A1 (de) | Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie | |
EP2300877B1 (de) | Aktuator und projektionsbelichtungsanlage | |
DE10140608A1 (de) | Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements | |
WO2006000352A1 (de) | Positioniereinheit und vorrichtung zur justage für ein optisches element | |
DE102012202170A1 (de) | Positionsmanipulator für ein optisches Bauelement | |
EP2135124B1 (de) | Optikfassung und optisches bauelement mit einer derartigen optikfassung | |
DE102013223017A1 (de) | Optisches Modul | |
EP2302432A1 (de) | Vorrichtung zur temperaturabhängigen axialen Verschiebung optischer Komponenten | |
DE102007058158A1 (de) | Optisches System mit einer austauschbaren, manipulierbaren Korrekturanordnung zur Reduzierung von Bildfehlern | |
WO2020177944A1 (de) | Aktuatoreinrichtung und verfahren zur ausrichtung eines optischen elements, optische baugruppe sowie projektionsbelichtungsanlage | |
DE102017209794B4 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage | |
WO2020069787A1 (de) | Aktuatoreinrichtung zur ausrichtung eines elements, projektionsbelichtungsanlage für die halbleiterlithografie und verfahren zur ausrichtung eines elements | |
DE102015200531A1 (de) | Optisches Modul | |
DE102012202169A1 (de) | Haltevorrichtung | |
DE102022115934B3 (de) | Schraubgetriebeantrieb sowie Retikel-Stage und Vermessungsvorrichtung für Halbleiter-Lithografie-Anwendungen | |
DE102015223520A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie | |
DE102019213966A1 (de) | Verfahren zur Minimierung von parasitären Bewegung von Komponenten in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleitertechnik | |
DE102007053475B4 (de) | Positioniersystem | |
DE102021205809B3 (de) | Verfahren zur Verschraubung eines Aktuator-Sensor-Moduls einer Projektionsbelichtungsanlage | |
EP3443303A1 (de) | Positionsmessanordnung und verfahren zum betrieb einer positionsmessanordnung | |
DE102008041301A1 (de) | Manipulation von Komponenten einer optischen Einrichtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8130 | Withdrawal |