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Die
Erfindung betrifft zweidimensionale Quadrupolsysteme, längs deren Achse
ein axiales Gleichspannungsfeld überlagert
wird. Solche Systeme sind beispielsweise aus
US 5847386 A bekannt.
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Die
Erfindung besteht darin, die hyperbolischen oder zylindrischen Oberflächen von
Quadrupolsystemen mit isoliert aufgebrachten Metallfilmen zu beschichten
und durch entsprechende elektrische Beschaltung mit hochfrequenzüberlagerten
Gleichspannungspotentialen axiale Potentialgradienten oder Sattelrampen
zu erzeugen. Solche Systeme haben viele Einsatzmöglichkeiten, die von Massenfiltern
hoher Transmission bis zu Fragmentierungszellen mit extrem geringen
Ionenverlusten reichen.
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Stand der Technik
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Seit
langem werden für
verschiedenartige Anwendungen, beispielsweise für Ionenführungssysteme („ion guides"), für die Erzeugung
monoenergetischer Ionenstrahlen, insbesondere aber für Stoßzellen
zur Fragmentierung und Thermalisierung von Ionen, radial rücktreibende
Einsperrsysteme für
Ionen mit axial überlagerten
elektrischen Gleichspannungsfeldern gesucht. In diesen Systemen
können
Ionen beispielsweise nicht nur durch Stöße fragmentiert, sondern auch
thermalisiert und anschließend
oder währenddessen
zum Ionenausgang am Ende des Systems transportiert werden. Selbst
für hochauflösende Massenfilter
mit zweidimensionalen Quadrupolfeldern würde ein Gleichspannungs-Potentialprofil längs der
Achse völlig
neue Möglichkeiten
bieten, insbesondere im Hinblick auf hohe Transmission und einen
Betrieb bei erhöhtem
Bremsgasdruck. Als „zweidimensionale
Quadrupolfelder" werden
hier, wie in der Fachliteratur üblich,
die Felder verstanden, die sich in Systemen aus vier runden oder
hyperbolischen Längselektroden
einstellen.
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Da
es für
die quadrupolaren Hochfrequenz-Elektrodensysteme mit ihrer radialen
Rückhaltekraft
viele Anwendungen und damit viele Bezeichnungsmöglichkeiten gibt, beispielsweise
Massenfilter, Ionenführungsysteme,
Fragmentierungszellen oder Thermalisierungszellen, wird im Folgenden, wenn
keine nähere
Spezialisierung erforderlich ist, einfach von „Quadrupolsystemen" gesprochen. Es handelt
sich bei diesen Quadrupolsystemen, bildlich gesprochen, um das Einsperren
von Ionen in ein virtuelles Rohr mit radial ansteigenden rücktreibenden Kräften. Quadrupolsysteme
mit Potentialgradienten entsprechen geneigten Rohren, in denen der
Inhalt unter der Wirkung der Neigung in eine Richtung fließt.
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Die
einfachste (und am längsten
bekannte) Lösung
für die Überlagerung
eines elektrischen Längsfeldes
besteht darin, ein Quadrupolelektrodensystem aus vier dünnen Widerstandsdrähten herzustellen,
an denen jeweils ein Gleichspannungsabfall erzeugt wird. Die dünnen Drähte benötigen aber
eine recht hohe Hochfrequenzspannung, um das quadrupolare Hochfrequenzfeld
zu erzeugen, da der größte Spannungsabfall
in der unmittelbaren Umgebung des dünnen Drahts erfolgt. Der Widerstand
darf außerdem
nicht besonders hoch sein, da sonst die Hochfrequenzwechselspannung
sich nicht genügend schnell
längs der
Drähte
ausbreiten kann. Es können also
nur sehr geringe Gleichspannungsabfälle längs des Drahtes erzeugt werden.
Des Weiteren ist es schwierig, gewünschte Profile des elektrischen Gleichfeldes
längs der
Achse zu erzeugen. Außerdem
ist der Pseudopotentialwall zwischen den Drähten sehr niedrig; die Ionen
können
sehr leicht entweichen.
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Eine
weitere Möglichkeit
bieten pseudo-hyberbolische Quadrupolsysteme, die aus einer Vielzahl
aufgespannter Drähte
bestehen, welche die vier Hyperbolflächen eines idealen Quadrupolsystems nachformen.
Solche aus Draht nachgebildeten hyperbolischen Quadrupolsysteme
sind schon vor etwa 40 Jahren in der Arbeitsgruppe von Wolfgang
Paul, dem Erfinder aller Quadrupolsysteme, verwendet worden. Diese
Quadrupolsysteme sind aber schwierig herzustellen und nicht sehr
präzise,
sie bieten aber die leichte Erzeugung eines axialen Gleichfeldes
durch die Erzeugung von Spannungsabfällen an den Drähten an.
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Aus
der Patentschrift
EP
0 817 239 B1 ist ein zweidimensionales Quadrupolsystem
bekannt auf dessen Längselektroden
mehrere von einander isolierte Segmente („islands") angeordnet sind, die jeweils mit einem
Gleichspannungspotential versorgt werden. In der Offenlegungsschrift
DE 197 03 081 A1 und
der Patentschrift
US
3 699 330 A werden Quadrupolsysteme als Massenfilter eingesetzt,
wobei die Längselektroden
aus einem elektrisch isolierenden Material gefertigt sind und auf
den Längselektroden Metallschichten
aufgebracht sind, an denen jeweils ein Gleichspannungspotential
und eine hochfrequente Wechselspannung angeschlossen werden. Die Längselektroden
sind dabei hyperbolisch geformt bzw. als Rundstäbe ausgeformt.
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Weitere
Ionenspeichersysteme, die einen elektrisch einschaltbaren Vortrieb
besitzen, sind aus Patentschrift
US 5572035 A (J. Franzen) bekannt. Die Patentschrift
betrifft verschiedenartige Ionenleitsysteme, beispielsweise ein
System, das aus nur zwei schraubenförmig gewendelten Leitern in
Form einer Doppelhelix besteht und durch Anschluss an die beiden
Phasen einer Hochfrequenzspannung betrieben wird. Ein anderes besteht
aus koaxialen Ringen, an die abwechselnd die Phasen einer hochfrequenten
Wechselspannung angeschlossen werden. Beide Systeme lassen sich
so betreiben, dass ein achsialer Vorschub der Ionen erzeugt wird.
So lässt sich
die Doppelhelix aus Widerstandsdraht herstellen, an denen ein Gleichspannungsabfall
erzeugt wird. Die einzelnen Ringe des Ringsystems können, wie
im Patent dargelegt, mit einem stufenweise von Ring zu Ring abfallenden
Gleichspannungspotential versehen werden.
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In
der Patentschrift
US
5847386 A (B. A. Thomson und C. L. Jolliffe, äquivalent
mit
WO 97/07530 A1 )
sind insgesamt sieben verschiedene Arten dargestellt und patentrechtlich
beansprucht, in quadrupolaren Rundstabsystemen einen axialen Spannungsabfall
zu erzeugen. Da fünf
dieser Arten das innere Quadrupolpotential verzerren, werde hier nur
die zwei Arten eingegangen, die das Hochfrequenz-Quadrupolpotential
ungestört
lassen:
- (a) ein Quadrupolstabsystem aus isolierenden Rundstäben, auf
denen Widerstandsschichten aufgebracht wurden, an denen je ein Spannungsabfall
erzeugt wird; und
- (b) ein Quadrupolstabsystem, bei dem die Stäbe aus isolierenden, dünnwandigen
Keramikröhrchen
bestehen, außen
belegt mit einer Hochwiderstandsschicht für einen Gleichspannungsabfall
und innen mit einer metallischen Schicht für die HF-Zuführung, wobei
die Hochfrequenz-spannung durch den Isolator und mit leichter Abschwächung auch
durch die Hochwiderstandsschicht hindurch wirken soll, um das quadrupolare
Hochfrequenzfeld aufzubauen.
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Diese
Anordnungen sind aber nicht besonders befriedigend: Das System (a)
aus Isolierstäben mit
Widerstandsbeschichtung leitet die Hochfrequenzspannung nur beschränkt (ähnlich wie
das System aus vier Widerstandsdrähten), so dass längs des
Systems die Hoch frequenzspannung variiert, was für einige Anwendungen außerordentlich
schädlich
ist; oder aber, es muss die Widerstandsbeschichtung doch sehr niederohmig
sein.
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Auch
das System (b) aus dünnen,
tragenden Keramikröhrchen
(laut Beschreibung etwa 0,5 bis 1 Millimeter dicke Rohrwände) mit
innerer Metallbeschichtung zur Hochfrequenzfelderzeugung und äußerer Hochwiderstandsschicht
für den
Gleichspannungsabfall ist höchst
nachteilig. Es ist das in der Beschreibung wiedergegebene Ziel der
Erfinder, dass die Hochfrequenzspannung durch die dielektrische Keramik
und durch die Hochwiderstandsschicht, die laut Beschreibung einen
Widerstand von 1 bis 10 Megohm pro Quadrat Oberfläche haben
soll, hindurch wirkt, wobei die Beschreibung zeigt, dass die Hochwiderstandsschicht
mit dem bekannten Effekt eines „leaky dielectricum" durchdrungen werden
soll: „The
surface resistivity of the exterior resistive surface 176 will normally
be between 1.0 and 10 Mohm per square. A DC voltage difference indicated
by V1 and V2 is connected to the resisitive surface 176 by the two
metal bands 174, while the RF from Power supply 48 (1)
is connected with the interior conductive metal surface. The high
resistivity of the outer surface 176 restricts the electrons in
the outer surface from responding to the RF (which is at a frequency
of about 1.0 MHz), and therefore the RF is able to pass through
the resisitive surface with little attenuation. At the same time
voltage source V1 establishes a DC gradient along the length of
the rod ..."). (Unterstreichung
hinzugefügt).
Ein hochfrequenzdurchdrungener Zylinder aus Hochwiderstandsmaterial
als "leaky dielectricum" in genau diesem
Sinne ist seit langer Zeit bekannt (P. H. Dawson, „Performance
of the Quadrupole Mass Filter with Separated RF and DC Fringing
Fields", Int. J.
Mass Spectrom. Ion Phys., 25 (1977), S. 375–392). Entsprechend dieser Idee
des Durchdringens der Hochwiderstandsschicht (siehe 28A dieser
Patentschrift und obig ziterten Text) ist diese auch nur mit der
Gleichspannungsquelle verbunden, ohne eigene Verbindung zur Hochfrequenzquelle.
In der Praxis bewährt
sich diese Erfindung nicht: Nicht nur, dass die Abschwächung der
Hochfrequenz beim Durchdringen der Hochwiderstandsschicht viel stärker ist,
als die Autoren annehmen, es entstehen im Material der Keramikröhrchen durch
die Hochfrequenz auch hohe dielektrische Verluste, so dass das System
im Vakuum in kurzer Zeit heiß wird
und sogar zum Glühen
kommen kann. Die Rundstäbe
aus den dünnen
Keramikröhrchen
sind außerdem
mechanisch nicht besonders stabil. Diese Technik erscheint uns unbrauchbar
und ist auch unseres Wissens nach nie zur Anwendung gekommen.
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Es
ist bemerkenswert, dass für
Quadrupolsysteme, insbesondere auch für Stoßzellen, in aller Regel Hochfrequenzstabsysteme
mit Rundstäben verwendet
werden, obwohl für
hochwertige Quadrupolmassenspektrometer seit 30 Jahren Hyperbolsysteme
eingeführt
wurden, die wesentlich bessere Trennleistungen und Transmissionen
erlauben. Preiswerte Rundstabsysteme galten für die Stoßkammern immer als gut genug,
auf die teureren Hyperbolsysteme wurde durchwegs verzichtet.
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Es
ist aber schon aus der Arbeit von F. von Busch und W. Paul, Z. Phys.
164, S. 588–594
(1961) bekannt, dass es in Rundstab-Quadrupolfiltern nichtlineare
Resonanzen gibt, die zum Auswurf von solchen Ionen führen, deren
Bewegungsparameter mitten im Mathieuschen Stabilitätsbereich
liegen und die daher stabil gefangen sein sollten. Diese Resonanzen
führen
in dreidimensionalen Hochfrequenz-Ionenfallen zu dem Phänomen der
dort so genannten „schwarzen
Löcher", die aber in gleicher
Weise in Stabsystemen, besonders in Rundstabsystemen, auftreten.
Rundstabsysteme enthalten dem Quadrupolfeld überlagerte Oktopol- und höhere gerade
Multipolfelder in beträchtlicher
Starke, die zu einer Verzerrung der Ionenschwingungen in radialer
Richtung und damit zu einer Bildung von Obertönen der Ionenschwingung führen. Deren
Zusammentreffen mit den Mathieuschen Seitenbändern führt zu den Resonanzen, die
allerdings nur auftreten, wenn die Ionen relativ weite radiale Oszillationen
durchlaufen. Für
Ionen, die gedämpft
in der Achse des Systems liegen, wirken die Resonanzen nicht, da
dort die höheren
Multipolfelder verschwinden.
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Nun
werden zumindest in Quadrupolsystemen, die als Stoßzellen
verwendet werden, die Ionen mit erhöhter Energie von 30 bis 100
Elektronenvolt eingeschossen und durch Stoßkaskaden in großer Anzahl
in den Bereich nahe den Stäben
oder deren Zwischenräumen
gebracht. Diese Ionen sind daher zwangsläufig dem Phänomen der nichtlinearen Resonanzen
ausgesetzt, wenn sie die Resonanzbedingungen erfüllen. Es können so bestimmte Arten von Tochterionen
aus der Stoßzelle
und damit aus dem Tochterionenspektrum verschwinden. Im ungünstigsten
Fall unterliegen sogar die ausgewählten Elternionen dieser Resonanz
und verschwinden zu großen Teilen
aus der Stoßzelle.
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Außerdem haben
Rundstabsysteme den weiteren Nachteil, dass der Pseudopotentialwall
zwischen den Stäben
recht niedrig ist (bei kommerziell erhältlichen Systemen nur etwa
zehn bis zwanzig Volt) und von Ionen einer Energie von 50 Elektronenvolt,
wie sie in der Regel für
Fragmentierungsprozesse mindestens erforderlich ist, durch eine
zufällig seitlich
ablenkende Stoßkaskade
leicht überwunden werden
kann. Dieses Entweichen betrifft Eltern- wie Tochterionen. Es gehen
umso mehr Ionen verloren, je höher
die Masse der Stoßgasmoleküle ist,
da dann größere Ablenkwinkel
pro Stoß auftreten.
Eine Kaskade aus wenigen Stößen, die
zufällig
in die selbe seitliche Richtung ablenken, kann das Ion bereits aus der
Stoßzelle
entfernen. Die größeren Ablenkwinkel einer
kleinen Zahl von Stößen können sich
nicht mehr so gut statistisch ausgleichen wie die große Zahl
geringer Ablenkwinkel bei sehr leichtem Stoßgas.
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Für andere
Quadrupolsysteme, zum Teil sogar für Präzisionsmassenfilter, haben
sich Rundstabsysteme geeigneter Abmessungen durchaus bewährt.
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In
Tandem-Massenspektrometern werden die Elternionen aus einem primären Ionengemisch
in aller Regel durch ein Quadrupolmassenfilter ausgewählt; dann
in einer Stoßzelle
fragmentiert; nach der Fragmentierung können die Tochterionen in Quadrupolmassenspektrometern,
Flugzeitmassenspektrometern mit orthogonalem Ioneneinschuss, in
Hochfrequenzionenfallen oder in Ionencyclotronresonanzspektrometern
analysiert werden, um durch die Analyse des Fragmentionenspektrums
(oder „Tochterionenspektrums") Informationen über die
Strukur der Elternionen zu erhalten. Es werden somit in Tandem- Massenspektrometern
mindestens zwei Arten von „Quadrupolsysteme" eingesetzt: ein
Massenfilter für
die Selektion der Elternionen, und eine Stoßzelle für die Fragmentierung der selektierten
Ionensorte. Für
gewöhnlich
gibt es dazu noch ein Thermalisierungsquadrupol für die in
das Massenfilter eingeschossenen Ionen (
US 4963736 A , D. J. Douglas
und J. B. French) und in so genannten „Triple Quads" gibt es ein zweites
Massenfilter für
die Analyse der Tochterionen, so dass ein solches System aus insgesamt vier
Quadrupolsysteme bestehen kann. Für einige dieser Quadrupolsysteme,
zum Beispiel für
die Thermalisierungssysteme, ist es höchst vorteilhaft, einen Vortrieb
der Ionen zu besitzen, und in der Regel muss dieser Vortrieb der
Ionen auch noch schalt- und einstellbar sein.
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Für viele
Anwendungen von Quadrupolsysteme ist es somit sehr interessant,
ein Potentialprofil längs
der Achse zu generieren und während
des Betriebes verändern
zu können,
und auch, verschiedenartige Profile des Potentialverlaufs erzeugen
zu können.
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Aufgabe der Erfindung
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Die
Erfindung hat die Aufgabe, zweidimensionale Quadrupolsysteme bereitzustellen,
deren Längselektroden
Gleichspannungs-Potentialprofile aufweisen, die der Hochfrequenzspannung
an den Längselektroden überlagert
sind, wobei die Potentialprofile in Form und Größe zeitlich veränderlich
sein sollen.
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Kurze Beschreibung der Erfindung
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Die
Aufgabe wird durch ein Hochfrequenz-Quadrupolsystem aus Längselektroden
mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Günstige Ausformungen sind in
den abhängigen
Ansprüchen dargelegt.
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Die
Aufgabe wird gelöst,
indem für
das Quadrupolsystem mechanisch stabile Längselektroden verwendet und
die Elektrodenoberflächen
mit je einer dünnen
Metallschicht versehen werden, die von der darunterliegenden Längselektrode
durch eine sehr dünne
Isolierschicht getrennt ist, wobei jede Längselektrode und die Enden
ihrer Metallschichten an Gleichspannungspotentiale angeschlossen
werden, die alle jeweils mit den beiden Phasen der selben Hochfrequenzspannung überlagert
sind, so dass die Metallschichten sowohl die Hochfrequenzspannung tragen
wie auch einen Gleichspannungspotentialgradienten erzeugen. Die
Potentialgradienten können auch
zeitlich veränderlich
sein. Es ist günstig,
wenn die Metallschichten Widerstände
zwischen einem und hundert Kiloohm haben. Die Phase der überlagerten
Hochfrequenzspannung wechselt dabei reihum von Längselektrode zu Längselektrode.
Anders als in der Patentschrift
US 5847386 A , deren Lehre von der hier vorgestellten
Erfindung wegführt,
sind die Metalldünnschichten
hier direkt mit der Hochfrequenzspannung durch die Anschlüsse an ihren
Enden verbunden, nicht nur indirekt durch die kapazitive Ankopplung
an die darunterliegende Längselektrode durch
die dünne
Isolierschicht. Die Hochfrequenzspannung braucht dabei die Metalldünnschichten nicht
als „leaky
dielectricum" zu
durchdringen (wozu auch ein extrem hoher spezifischer Widerstand
der Metalldünnschicht vonnöten wäre), weil
die Metalldünnschicht
selbst durch direkten Anschluss einerseits und andererseits kapazitiv
gestützt
auf Hochfrequenzwechselspannung liegt.
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In
besonderen Ausführungsformen
können die
Metalldünnschichten
an mindestens je einer Stelle mit den darunterliegenden Längselektroden
elektrisch verbunden sein. Es können
dann elektrische Längsfeldprofile
aus mehreren Potentialgradienten, aber auch ganz andere Feldkonfigurationen
erzeugt werden, wie unten geschildert werden wird.
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Wird
an allen vier Metalldünnschichten
ein gleichlaufender, gleich großer
Spannungsabfall erzeugt, so erhält
man ein axial verlaufendes elektrisches Feld, das die Ionen im Inneren
in eine Richtung treibt. Werden an den Metalldünnschichten gegenläufige Spannungsabfälle erzeugt,
so kann man andere Feldkonfigurationen erzeugen, beispielsweise eine
bisher nicht herstellbare kontinuierlich verlaufende Einlauframpe
in ein quadrupolares Massenfilter zur Erhöhung der Ionenakzeptanz.
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Das
Quadrupolsystem kann insbesondere aus hyperbolisch geformten Längselektroden
bestehen, wobei sich die Hyperbolflächen kreuzweise gegenüberstehen.
Ein solches hyperbolisches Quadrupolsystem hat gegenüber heute
oft verwendeten Rundstabsystemen den Vorteil, dass erstens ein Entweichen
der Ionen durch nichtlineare Resonanzen entfällt und dass zweitens (bei
einem Betrieb ohne gegenpolige Überlagerung
der beiden Hochfrequenzphasen mit Gleichspannungen, einem so genannten „RF-only" Betrieb) die rücktreibenden
Pseudopotentiale von der Achse aus in allen radialen Richtungen
gleichen parabolischen Anstieg haben, also gleiche rücktreibende
Kräfte
aus allen radialen Richtungen bereitstellen. Ein Entweichen von
Ionen über
einen zu niedrigen Pseudopotentialwall zwischen den Polstäben durch
seitlich ablenkende Stoßkaskaden
entfällt
weitestgehend. Ein solches Hyperbolsystem ist besonders als Stoßzelle für Ionenfragmentierungen
von großem
Vorteil.
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Die
gewünschte
Gleichspannungsversorgung der Metalldünnschicht kann beispielsweise über einen
Transformator erzeugt werden, der drei gleiche Sekundärwicklungen
mit Mittelabgriffen besitzt, wobei die Gleichspannungspotentiale
für die Enden
der Metalldünnschichten
und für
die Längselektroden
an den „kalten" Mittelabgriffen
jeweils zwischen zwei Sekundärwicklungen
eingespeist werden, wodurch jeweils an beiden Enden der drei Sekundärwicklungen
beide Phasen der Hochfrequenzspannungen von den gewünschten
Gleichspannungspotentialen überlagert
sind. Die Gleichspannungspotentiale können dabei veränderlich
sein. Sind die Metalldünnschichten
an einer Stelle der Längselektroden
mit diesen durch die Isolierschicht hindurch verbunden, so lassen
sich mit den drei gleichen Sekundärwicklungen bereits einfache
Feldprofile herstellen. Mit je zwei Durchkontaktierungen pro Längselektrode
kann ein etwas komplizierteres Potentialprofil erzeugt werden, wobei
zwischen den zwei Durchkontaktierungen im Quadrupolsystem kein Spannungsabfall
und daher auch kein Längsfeld besteht.
Mit weiteren Abgriffen, die von außen mit Spannungen versorgt
werden können,
und mit mehr als drei Sekundärwicklungen
lassen sich auch kompliziertere Profile erzeugen.
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Ein
Quadrupolsystem mit Längsfeldprofilen oder
anderen Feldkonfigurationen hat eine Reihe verschiedenartiger Anwendungsmöglichkeiten,
die von Massenfiltern mit Vortrieb, Massenfiltern mit hoher Transmission,
Massenfiltern für
Betrieb bei hohem Bremsgasdruck, Ionenführungssystemen mit Ionenantrieb,
Stoßzellen
zur Ionenfragmentierung bis zu Thermalisierungszellen zur Erzeugung
von monoenergetischen Ionenstrahlen reicht.
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Beschreibung der Abbildungen
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1 zeigt
ein Quadrupolsystem aus Rundstäben
(60) mit schematisch eingezeichneten Anschlüssen (61)
für die
Rundstabelektroden und Anschlüssen
(62, 63) für
die Enden der isoliert aufgebrachten Metalldünnschichten, wobei die Metalldünnschichten
hier an den Stellen (64) mit den darunterliegenden Rundstabelektroden
verbunden sind.
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2 stellt
ein Glasquadrupolsystem dar. Der Glaskörper (1) trägt innen
angeschmolzen die hyperbolischen Elektrodenbleche (2, 3),
auf die über einer
dünnen
Isolierschicht die Widerstandschichten aufgedampft sind. Die Kontaktstifte
(4, 5, 6, 7, und 12, 13, 14)
bringen hochfrequenzüberlagerte
Gleichspannungspotentiale zu den Enden der Metalldünnschichten,
die Kontaktstifte (8, 9, 10) führen die Hochfrequenzspannung
zu den Elektrodenblechen.
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3 zeigt
ein Quadrupolsystem aus festen Aluminiumelektroden (21, 22, 23, 24),
auf deren Eloxalschicht die metallischen Widerstandsschichten (25, 26, 27, 28)
aufgebracht sind, eingeschraubt in einen Glashalter (20)
mit präzisem
Innenquerschnitt.
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4 gibt
das Schema einer möglichen Spannungsversorgung
wieder. Die Primärspule
(30) induziert eine Hochfrequenzspannung in der Sekundärwicklung
(33, 36), wobei das heiße Ende (33) der Sekundärwicklung
die Hyperbolelektroden (40) und (41) versorgt,
das heiße
Ende (36) die beiden anderen (nicht sichtbaren) Hyperbolelektroden.
Die Mitten der Sekundärwicklungen
(32, 35) und (34, 37) werden
gegenüber
der Sekundärwicklung
(33, 36) mit zwei einstellbaren Gleichspannungspotentialen
(38) und (39) versorgt, wobei die heißen Enden
(32) und (34) einen Spannungsabfall auf den Metalldünnschichten
(42) und (43) erzeugen. An der Stelle (44) sind
die metallischen Widerstandsschichten mit den darunterliegenden
Hyperbelelektroden verbunden, so dass sich in den Abschnitten (45, 44)
und (44, 46) zwei unabhängige Spannungsabfälle einstellen
lassen, die ein Längsfeldprofil
erzeugen.
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Bevorzugte Ausführungsformen
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Eine
erste Ausführungsform
besteht, wie in 1 dargestellt, aus einem Rundstab-Quadrupolsystem,
dessen Stäbe
(60) über
einer dünnen
Isolierschicht mit einer Metalldünnschicht
beschichtet sind. Die Metalldünnschichten
sind über
die schematisch eingezeichneten Anschlüsse (62, 63)
mit Gleichspannungspotentialen verbunden, die erfindungsgemäß mit der
Hochfrequenzspannung überlagert
sind. Die Längselektroden
selbst sind über
die Anschlüsse (61)
an hochfrequenzüberlagerte
Gleichspannungspotentiale angeschlossen.
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Jeweils
gegenüberliegende
Längselektroden und
ihre Metalldünnschichten
haben Gleichspannungsanschlüsse
mit Überlagerungen
der Hochfrequenzspannung in gleicher Phase. An den Stellen (64)
sind die Metalldünnschichten
mit den darunterliegenden Rundstabelektroden verbunden, hier liegt also
das Gleichspannungspotential der Rundstäbe an den Metalldünnschichten
an. Es können
also zu beiden Seiten dieser Durchkontaktierungen (64)
verschiedene Feldgradienten eingestellt werden.
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Eine
zweite Ausführungsform
geht, wie in
2 dargestellt, von einem Präzisions-Quadrupolmassenfilter
aus, das aus einem Glaskörper
(
1) mit vier im Heißabdruckverfahren
aufgeschmolzenen hyperbolischen Elektrodenblechen (
2,
3)
besteht. Ein solches Quadrupolmassenfilter kann nach den Patentschriften
DE 27 37 903 B1 (
US 4,213,557 A )
hergestellt werden. Es ist außerordentlich
präzise
in der Einhaltung aller Maße.
Auf die hyperbolischen Elektrodenbleche (
2,
3)
wird eine nur wenige Mikrometer dünne Schicht eines gut isolierenden
Lackes, beispielweise Kapton-Lack, aufgetragen. Nach Trocknung kann
unter Vakuum auf die Isolierschicht eine sehr dünne, nur einige Nanometer dicke
Schicht aus Metall, beispielsweise Chrom oder Wolfram, aufgedampft
werden. Es kann so beispielsweise eine Widerstandsschicht von reproduzierbar
fünf Kiloohm,
in anderen Fällen
auch von 50 Kiloohm, hergestellt werden. Diese Schichten werden
endseitig über
einen elektrisch leitenden Lack kontaktiert, wie es in
1 dargestellt
ist.
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Die
aufgedampfte Metalldünnschicht
zieht sich dabei an den Stirnflächen
auch über
das Glas, so dass hier Anschlussstifte (4, 5, 6, 7, 12, 13, 14) über einen
leitfähigen
Lack mit der Metalldünnschicht auf
den Elektroden (2, 3) verbunden werden können. Für einen
Spannungsabfall von fünf
Volt fließt
bei einem Widerstand von 5 Kiloohm ein Strom von einem Milliampère bei
fünf Milliwatt
Leistungsverlust. Ein Spannungsabfall von fünf Volt ist für die meisten
Anwendungsfälle
ausreichend; in der Regel wird weniger Spannungsabfall gebraucht.
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Statt
der Dünnschicht
aus Chrom oder Wolfram kann auch eine Widerstandsschicht aus einem anderen
Metall oder anderem Leiter aufgebracht werden. Der Längswiderstand
einer solchen Widerstandsschicht sollte hundert Kiloohm nicht überschreiten.
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Die
Widerstandsschicht kann auch an einer definierten Stelle durch eine
Lücke in
der Isolierschicht mit der darunterliegenden Längselektrode verbunden sein,
wie es in 1 und 4 dargestellt
ist. Die Lücke
kann über
den ganzen Querschnitt der Widerstandsschicht reichen, oder aber nur über Teilbereiche
des Querschnitts. Geht die Lücke
in der Isolierschicht nicht über
den ganzen Querschnitt der Längselektroden,
so wird kein scharf geknickter Verlauf der Potentialgradienten erzeugt,
sondern ein rundlich verschmierter. Es lassen sich mit Hilfe dieser
Durchkon taktierungen Abschnitte des Quadrupolsystems mit verschieden
großen
und sogar verschieden gerichteten Potentialgradienten herstellen.
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Eine
dritte Ausführungsform
ist in 3 dargestellt. Hier werden einzelne hyperbolische
Elektroden (21, 22, 23, 24)
aus Aluminium gefertigt und anschließend stark eloxiert. Auf die
Eloxalschicht der Hyperbelseite werden dann die Metalldünnschichten (25, 26, 27, 28)
aufgedampft. Die Elektroden werden mit Gewinden versehen und in
einen isolierenden Halter (20) eingeschraubt, der beispielsweise
ein im KPG-Verfahren hergestellter Glaskörper sein kann (KPG = kalibriertes
Präzisions-Glas).
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Es
ist jedem Fachmann bekannt, dass für die Längselektroden der Quadrupolsysteme
auch andere Elektrodenmaterialien verwendet werden können, die
sich mit einer isolierenden Oxidschicht versehen lassen, und natürlich kann
auch hier ein Isolierlack oder eine andere Art der Isolierbeschichtung
verwendet werden. Auch können
andersartige isolierende Halterahmen wie beispielsweise geschliffene
Keramikringe zum Halten der Längselektroden
verwendet werden. Es ist dem Fachmann auch bekannt, dass für Präzisionsquadrupolsysteme
besondere Maßnahmen
wie beispielsweise wiederholte Entspannungsglühungen vorgenommen werden müssen.
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Dem
Fachmann sind darüberhinaus
noch weitere Arten von Präzisionsquadrupolsystemen
mit zylindrischen oder hyperbolischen Oberflächen ihrer Elektroden und weitere
Herstellungsverfahren bekannt. Die so hergestellten Quadrupolelektroden können dann
leicht auf ihrer Oberfläche
mit den erfindungsgemäßen Isolier-
und Widerstandsschichten versehen werden.
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Die
dünne Isolierschicht
sollte im Allgemeinen nicht dicker als etwa 10 Mikrometer sein,
um eine gute kapazitive Ankopplung der Metalldünnschicht an die Längselektrode
zu erreichen. Die Durchschlagsfestigkeit der dünnen Isolierschicht kann trotzdem
durchaus sehr hoch sein. So ist es für bestimmte Anwendungen möglich, trotz
der geringen Schichtdicke auch Gleichspannungsdifferenzen von einigen
Hundert Volt zwischen Metalldünnschicht und
Längselektroden
anzulegen.
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Eine
günstige
Ausführungsform
für eine Spannungsversorgung
ist in 4 schematisch gezeigt. Es wird für die Spannungsversorgung
ein Transformator verwendet, der eine Primärwicklung (30) und
drei Sekundärwicklungen
(32, 35), (33, 36) und (34, 37),
je mit Mittelabgriff, verwendet. Die Sekundärwicklungen sind (anders als
in der schematischen Zeichnung, die sich der in der Elektrotechnik üblichen
Form bedient) alle auf demselben Kern gewickelt mit derselben Ankopplung
an die Primärwicklung
(30). Es kann sich dabei um einen Lufttransformator oder
einen Transformator mit Magnetkern, beispielsweise einen Ferritkern,
handeln. Die heißen Enden
der Sekundärwicklung
(33, 36) versorgen die vier hyberbolischen Elektrodenbleche
in der üblichen Weise,
jeweils gegenüberstehende
Elektroden (40, 41) mit der gleichen Phase (die
beiden anderen Elektroden und ihre Versorgung sind hier nicht gezeigt). Zwischen
den Mittelabgriffen der beiden anderen Sekundärwicklungen (32, 35)
und (34, 37) und der eben genannten Sekundärwicklung
(33, 36) werden zwei unabhängig voneinander regelbare
Gleichspannungen (38) und (39) eingespeist. Die
Enden (32) und (34) dieser Wicklungen werden je
mit den Enden der isoliert auf den Längselektroden (40, 41)
aufgebrachten Metalldünnschichten
(42, 43) verbunden, in einer Weise, dass durch
die Wicklungen und die Metalldünnschicht
ein Gleichstrom fließt
und in der Metalldünnschicht
einen Spannungsabfall erzeugt, gleichzeitig aber auch an beiden
Enden Hochfrequenzwechselspannung anliegt. An der Stelle (44)
sind die Metalldünnschichten
(42, 43) mit den darunterliegenden Hyperbelelektroden
verbunden, daher lassen sich in den Abschnitten (45, 44)
und (44, 46) des Quadrupolsystems zwei voneinander
unabhängige Spannungsabfälle erzeugen.
Die Hochfrequenzwechselspannung dieser Zuleitungen braucht dabei nicht
die gesamte Metalldünnschichten
(42, 43) mit Hochfrequenzspannung zu versorgen,
da die Hochfrequenzspannung hauptsächlich durch die Isolierschicht
hindurch von den Hyperbolelektroden (40, 41) her
kapazitiv versorgt wird. Diese einfache Schaltung vermeidet Kondensatoren,
Widerstände
oder Drosseln zur Beschaltung der heißen Seite der Transformatorwindungen.
Es kann dabei beispielsweise eine Litze aus drei geflochtenen Strängen für die drei
Wicklungen verwendet werden.
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Da
die elektrisch leitenden Oberflächenschichten
(42) und (43), die je eine von den Hyperbelelektroden
(40) und (41) isolierte Metalldünnschicht bilden,
an der Stelle (44) mit den darunterliegenden Hyperbolelektroden
(40) und (41) verbunden sind, lässt sich
der Spannungsabfall in den zwei Teilabschnitten (45, 44)
und (44, 46) getrennt formen. Bei Anwendung von
je vier oder mehr Sekundärwicklungen
würden
sich auch drei oder mehr Teilabschnitte des Spannungsabfalls formen
lassen, wenn die Widerstandsschichten entsprechend zugängliche
Abgriffe haben. Dadurch könnten
Sammelbecken verschiedener Form für die Ionen hergestellt werden,
die durch eine Umschaltung der Gleichspannungen entleert werden
können.
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Eine
erste Anwendung solcher Quadrupolsysteme bezieht sich auf ein Präzisions-Quadrupolmassenfilter,
das eine hohe Ionentransmission bietet und mit Vorteil bei höherem Bremsgasdruck
betrieben werden kann.
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In
einem Hochfrequenz-Quadrupolfeld besteht ein Pseudopotential, das
die Ionen radial zur Achse rücktreibt.
In ihm können
die Ionen Oszillationen ausführen.
Das Pseudopotential ist aber nicht für alle Ionen gleich: für leichte
Ionen ist der parabelförmige
Potentialtrog schmal, die Oszillationen sind schnell; für schwere
Ionen ist der Potentialtrog sehr breit, die rücktreibenden Pseudokräfte sind
weitaus schwächer
und die Oszillationen langsamer. Für sehr leichte Ionen sind die
Oszillationen so schnell, dass sie in einer Halbwelle der Hochfrequenzspannung auf
die andere Seite des Pseudopotentialtrogs geworfen werden und hier
eine Beschleunigung auf die Elektrode zu erfahren. Sie erfahren
eine Synchronisation mit der Hochfrequenz und werden aus dem System
herausbeschleunigt. Man spricht hier von der unteren Massengrenze
des Quadrupolsystems.
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Ein
Massenfilter wird mit einer überlagerten Gleichspannung
betrieben, und zwar so, dass einer Phase der Hochfrequenzspannung
ein positives Gleichspannungspotential, der anderen Phase ein negatives
Gleichspannungspotential überlagert
wird. Eine Gleichspannung einer Polarität befindet sich stets am selben
Paar von Längselektroden.
Es wird dadurch im Inneren des Quadrupolsystems dem rücktreibenden
Pseudopotential der Hochfrequenzspannung ein sattelförmiges Gleichspannungspotential überlagert,
das sich allen Ionen gleich darstellt. Positive Ionen werden zu
den Längselektroden
mit negativem Gleichspannungspo tential gezogen. Für schwere
Ionen ist aber das rücktreibende
Pseudopotential schwach, diese Ionen werden auf die negativen Elektroden
aufschlagen, sich entladen und aus dem Prozess ausscheiden. Es entsteht
eine obere Massengrenze des Quadrupolsystems.
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Betragen
die Gleichspannungspotentiale, absolut gesehen, etwa ein Sechstel
der effektiven Hochfrequenzspannung, so nähern sich untere Massengrenze
und obere Massengrenze so weit einander an, dass nur noch Ionen
eines einzigen Verhältnisses
von Masse zu Ladung stabil im Quadrupolsystem verbleiben können. Diese
Ionen sind im Inneren nur noch sehr schwach stabil gehalten, da
sich abstoßendes
Pseudopotential und anziehendes Gleichspannungspotential fast die
Waage halten. Eingeschossene Ionen werden, selbst wenn sie das richtige
Verhältnis
von Masse zu Ladung haben, sehr leicht an die Elektroden befördert, wenn
sie einen ganz leicht falschen Einschusswinkel haben. Man spricht
von einer geringen Phasenraum-Akzeptanz, wobei der Phasenraum als
sechsdimensionale Raum aus Orts- und Impulskoordinaten definiert
ist.
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Es
ist bekannt, dass die Akzeptanz durch eine Rampe der Gleichspannungspotentiale
bei gleichbleibender Hochfrequenzamplitude vergrößert werden kann, zumal wenn
durch einen höheren Bremsgasdruck
die Oszillation der Ionen schnell ausgebremst wird. Solche Rampen
konnten bisher nur durch einzelne vorgeschaltete Quadrupolsysteme stufenweise
erzeugt werden („Vorfilter"), da bisher kein
Verfahren bekannt war, mit dem eine kontinuierliche Rampe hergestellt
werden kann. In der Praxis wurde nur ein einziges, nur mit Hochfrequenzspannung
vorgeschaltertes Vorfilter benutzt. Die Rampe der Gleichspannungspotentiale
braucht dabei nicht bei Null zu beginnen; es genügt vielmehr, bei etwa 80 bis
95% der Gleichspannungspotentiale zu beginnen.
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Eine
kontinuierliche Rampe kann nun durch ein Quadrupolsystem nach dieser
Erfindung erstmals hergestellt werden. Wird die Oberflächen-Widerstandsschicht
nach etwa einem Viertel der Länge
des Quadrupolsystems durch einen schmalen Kratzer quer durch die
Isolierschicht hindurch mit den darunterliegenden Längselektroden
verbunden (siehe beispielsweise 1), so kann
im ersten Viertel durch geeignete Wahl der angelegten Potentiale
eine solche Rampe erzeugt werden. Es ist auch möglich, die isoliert aufgebrachte
Widerstandsschicht überhaupt nur
im ersten Viertel des Quadrupolsystems aufzubringen. Die Rampe soll
dabei sowohl das negative Potential des einen Längselektrodenpaars wie auch das
positive Potential des anderen Längselektrodenpaars
im Ioneneingang abschwächen,
so dass hier durch eine tiefere Pseudopotentialmulde in der Achse
eine bessere Akzeptanz für
eingeschossene Ionen erreicht wird. Es handelt sich also um gegenläufige Spannungsabfälle auf
benachbarten Widerstandsschichten. Die Rampe erlaubt zuerst den
Eintritt von Ionen eines recht breiten Massenbereichs (genauer:
Verhältnis
von Masse zu Ladung), verengt aber längs der Rampe den stabilen
Massenbereich kontinuierlich, wobei zunehmend weitere unerwünschte Ionen
entfernt werden, die erwünschten
Ionen aber zunehmend in ihren Oszillationen durch das Bremsgas gedämpft werden
und so günstig
in den streng selektierenden Mittelabschnitt des Massenfilters eintreten
können.
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Übrigens
kann man im ausgangsseitigen Viertel des Massenfilters durch eine
analoge Maßnahme
mit einem entsprechend positionierten Kratzer (oder einer nur hier
aufgebrachten Widerstandsschicht) und einer entsprechenden Potentialversorgung
erreichen, dass sich durch eine gegenläufige Rampe die Ionen vor dem
Ausgang besser in der Achse des Systems sammeln; es wird dadurch
ein besseres Ausschussverhalten erzeugt.
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Ein
solches erfindungsgemäßes Massenfilter
mit Eingangsrampe und Ausgangsrampe hat eine viel höhere Transmission
für die
selektierten Ionen, und ein sehr viel besseres Verhalten in Bezug
auf nachfolgende Ionensysteme, welcher Art auch immer. Es ist insbesondere
bei viel höheren
Bremsgasdrucken zu betreiben; es ist sogar so, dass es bei höheren Bremsgasdrucken
besser arbeitet als bei „gutem" Vakuum.
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Für die Spannungsversorgung
dieses neuartigen Quadrupolfilters ist es zweckmäßig, drei Sekundärwicklungen
zu verwenden, und notwendig, die Sekundärwicklungen in der Mitte zu
teilen, um für
die beiden Phasen der Hochfrequenzspannung getrennte Gleichspannungen
verschiedener Polarität
einspeisen zu können.
Mit drei Sekundärwicklungen lässt sich
erreichen, dass die einlaufende Rampe und die auslaufende Rampe
leicht verschieden mit Gleichspannungspotentialen beschickt werden
können,
beispielsweise um durch eine nicht vollständige Kompensation der Rampenspannungen
einen Restpotentialgradienten in der Achse des Quadrupolsystems
zu erzeugen, wobei der Restpotentialgradient die Ionen vom Eingang
zum selektierenden Mittelteil und von dort zum Ausgang treibt.
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In
einer weiteren Ausführungsform
kann das Präzisionsmassenfilter
vom Kratzer im ersten Viertel des Quadrupolsystems ab ein leichtes
Potentialgefälle
bis zum Ende des Massenfilters hin so erhalten, dass es Ionen zum
Ausgang transportiert. Dieses Quadrupolsystem lässt sich so bei noch höheren Bremsgasdrucken
betreiben und trotzdem mit Ionen sehr geringer kinetischer Energien
beschicken, ohne dass die im Quadrupolsystem abgebremsten Ionen im
Quadrupolysystem steckenblieben und den Ausgang nicht erreichten.
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Eine
weitere Anwendung des erfindungsgemäßen Quadrupolsystems bezieht
sich auf eine Stoßzelle
für die
Fragmentierung von Ionen. Die Stoßzelle wird dabei vorteilhaft
als hyperbolisches Quadrupolsystem ausgebildet, da nur dann die
Ionenverluste durch seitliches Entweichen oder durch nichtlineare
Resonanzen minimiert werden können.
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Ein
Glasquadrupolsystem nach 2 eignet sich hervorragend für die Füllung mit
Stoßgas.
Es kann dafür
sauberer Stickstoff verwendet werden, die Verorgung mit teurem Helium
ist hier nicht notwendig, da hier Stoßkaskaden mit zufällig seitlicher
Ablenkung auch bei Stoßgasen
höherer
Molekulargewichte nicht sofort zu Ionenverlusten führen. Der
Stickstoff als Stoßgas
hat eine höhere
Fragmentierungsausbeute. Es kann sogar Argon als Stoßgas verwendet
werden, mit noch höherer
Fragmentierungsausbeute. Es ist zweckmäßig, die Einschuss- und Ausschuss-Öffnungen
möglichst
fein zu machen, um den Druck in der Stoßzelle hoch halten zu können, ohne das
Vakuum in den umliegenden Massenspektrometern über ein erträgliches
Maß hinaus
mit Stoßgas anzufüllen.
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Mischgase,
beispielsweise Helium und Argon, können ein Gleichgewicht zwischen
Thermalisierung und Fragmentierung herstellen. Das Helium ist dabei
hauptsächlich
für die
Thermalisierung, das Argon für
die Fragmentierung zuständig.
Durch die Mischung kann ein gewünschtes
Verhältnis
von Fragmentierung zu Kühlung
hergestellt werden.
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Das
hyberbolische Quadrupolsystem wird als Stoßzelle beidseitig mit Lochblendensystemen verschlossen.
Das eingangsseitige Lochblendensystem beschleunigt die Ionen beim
Einschuss und gibt ihnen genügend
Energie für
die nachfolgende Fragmentierung mit, das ausgangsseitige Lochblendensystem
bietet nur ein feines Potentialminimum in der Achse zum Ausfließen thermalisierter
Ionen an, ist aber sonst ionenabstoßend. Die mit Energien zwischen
30 und 200 Elektronenvolt eingeschossenen Ionen werden zunächst die
Stoßzelle
mit einigen Hundert Stößen durchqueren
und an dem ausgangsseitigen Blendensystem reflektiert. Bei Rückkehr zum
eingangsseitigen Blendensystem werden sie wieder reflektiert; auf
diese Weise pendeln sie im hyperbolischen Quadrupolsystem, bis sie
thermalisiert sind. Ein Teil der Ionen wird dabei fragmentiert,
dieser Teil hängt
von der Stoßdichte
und Stoßhärte ab. Die
Stoßdichte
ist durch die Anzahl, die Stoßhärte durch
die Masse der Stoßgasmoleküle gegeben.
Ein erfindunggemäß hergestellter
schwacher Potentialgradient längs
des Quadrupolsystems lässt
die thermalisierten Ionen zum Ausgang vor dem Blendensystem hin
fließen,
wo sie sich in einem „Ionenteich" sammeln. Das Potential
des Ausflusslochs in der Achse des Blendensystems ist zweckmäßigerweise so
gehalten, dass erst eine gewisse Menge an thermalisierten Ionen
den Ionenteich mit einem gewissen „Überlaufdruck" füllen muss,
bevor die Ionen über
die leichte Potentialschwelle im Austrittsloch austreten können. Der Überlaufdruck
wird durch die Coulombsche Abstoßung der Ionen im Ionenteich
gebildet. Dieses Überlaufen
aus einem Ionenteich liefert außerordentlich
energiehomogene („monoenergetische") Ionen.
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Aus
den ausfließenden
monoenergetischen Ionen lässt
sich ein Ionenstrahl formen, der beispielsweise für ein Flugzeitmassenspektrometer
mit orthogonalem Einschuss hervorragend geeignet ist, aber auch
für andere
Massenspektrometer, die der Analyse der Fragmentionen dienen. Die
Menge der Ionen im Ionenteich, die das Ausfließen bewirkt, ist vom Gleichspannungsprofil
längs des
Quadrupolsystems abhängig.
Dieses Profil kann, wie oben geschildert, durch drei oder mehr Wicklungen
des Hochfrequenztransformators und entsprechende Abgriffe an der Widerstandsschicht
erzeugt werden. Eine Steuerung des Spannungsabfalls vor dem ausgangsseitigen Lochblendensystem
erlaubt es, den Teich zum Ende der Messung eines Tochterionenspektrums
langsam und vollständig
zu leeren.