DE10045958A1 - Vorrichtung zum Leiten eines gasförmigen Mediums in eine und/oder aus einer Prozesskammer - Google Patents
Vorrichtung zum Leiten eines gasförmigen Mediums in eine und/oder aus einer ProzesskammerInfo
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Abstract
Bei einer Vorrichtung zum Leiten eines gasförmigen Mediums in eine und/oder aus einer Prozeßkammer, insbesondere einer Plasmaanlage, mit mindestens einem Anschluß für eine Quelle oder Senke des Mediums und mit Mündungen in der Prozeßkammer, sind die Mündungen mit dem Anschluß über Leitungen derart verbunden, daß zwischen dem Anschluß und jeweils einer Mündung im wesentlichen gleiche Strömungswiderstände vorliegen.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Leiten eines
gasförmigen Mediums in eine und/oder aus einer Prozeßkammer,
insbesondere einer Plasmaanlage mit mindestens einem
Anschluß für eine Quelle oder Senke des Mediums und mit
Mündungen in der Prozeßkammer.
Insbesondere bei der Plasmabehandlung von großen
Behandlungsgütern oder bei der Behandlung von vielen
kleineren auf einem Fließband angeordneten Behandlungsgütern
ist eine homogene Verteilung der Prozeßbedingungen
erforderlich. Dazu sind durch DE 195 03 205 C1
Plasmaerzeuger in Rohren, welche die ganze Breite der
Prozeßkammer umfassen, bekanntgeworden. Zur Einhaltung
homogener Behandlungsbedingungen ist außer einer homogenen
Mikrowellenanregung auch eine gleichmäßige Verteilung der
zur Reaktion dienenden gasförmigen Medien erforderlich.
Durch DE 198 41 777 C1 ist eine Vorrichtung zur
plasmatechnischen Abscheidung von polykristallinem Diamant
bekanntgeworden, bei welchem Gaszuleitungs- und
Gasableitungsrohre mit Austritts- und Abzugsöffnungen
vorgesehen sind, die mit Gaszuleitungs- und Gasabzugsrohren
verbunden sind, die keine homogene Verteilung des Gases
gewährleisten.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die Zuführung von
gasförmigen Medien in die Prozeßkammer und soweit
erforderlich auch das Entfernen von Gasen aus der
Prozeßkammer homogen verteilt durchzuführen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Mündungen mit dem Anschluß über Leitungen derart verbunden
sind, daß zwischen dem Anschluß und jeweils einer Mündung im
wesentlichen gleiche Strömungswiderstände vorliegen.
Vorzugsweise ist dabei vorgesehen, daß die Leitungen eine
Baumstruktur aufweisen.
Insbesondere lassen sich die gleichen Strömungswiderstände
dadurch erzielen, daß die Leitungen zwischen dem Anschluß
und der jeweiligen Mündung gleich lang sind und gleiche
Querschnitte aufweisen, wobei vorzugsweise vorgesehen ist,
daß die Leitungen zwischen dem Anschluß und der jeweiligen
Mündung eine gleiche Anzahl von Umlenkungen aufweisen.
Eine einfache und sich leicht an die jeweiligen Verhältnisse
anpaßbare Vorrichtung ist gemäß einer vorteilhaften
Ausgestaltung der Erfindung dadurch gegeben, daß die
Leitungen aus Rohren gebildet sind.
Eine andere vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung besteht
darin, daß die Leitungen in einer Platte angeordnet sind,
wobei vorzugsweise die Leitungen als Nuten in einer Platte
vorliegen, die von einer weiteren Platte abgedeckt sind.
Diese Ausgestaltung zeichnet sich durch ihre Robustheit aus,
wobei zur Zuführung von mehreren Gasen oder zur Ableitung
von Gasen vorgesehen sein kann, daß mehrere Platten mit
Leitungen und Mündungen aufeinander angeordnet sind.
Diese Ausgestaltung kann an sich an geeigneter Stelle in
einer Prozeßkammer angeordnet sein. Es ist jedoch häufig
vorteilhaft, wenn gemäß einer Weiterbildung die Platte als
Deckel der Prozeßkammer ausgebildet ist.
Eine weitere vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung
besteht darin, daß die Leitungen in einem rohrförmigen
Träger angeordnet sind. Diese Weiterbildung kann
insbesondere dann in einfacher Weise hergestellt werden,
wenn die Leitungen als Nuten in dem rohrförmigen Träger
vorliegen und von einem weiteren Rohr abgedeckt sind.
Diese weitere Ausgestaltung kann parallel zu rohrförmigen
Plasmaerzeugern in der Prozeßkammer angeordnet und mit einer
geeigneten Anzahl von Mündungen versehen werden, aus denen
das gasförmige Medium ausströmt.
Eine Weiterbildung der Erfindung besteht darin, daß die
Enden der von Nuten gebildeten Leitungen zum Einsetzen von
die Mündungen bildenden Rohren ausgebildet sind. Diese
können beispielsweise mit einem Gewinde versehen sein, so
daß sie je nach Erfordernissen des jeweiligen Prozesses oder
der Prozeßkammer gegen längere oder kürzere ausgetauscht
werden können.
Zur Erzielung einer besonders homogenen Gasverteilung ist
bei der plattenförmigen Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung vorzugsweise vorgesehen, daß die Mündungen
rasterförmig angeordnet sind, wobei vorzugsweise das
Rastermaß an den Abstand von rohrförmigen Plasmaerzeugern
angepaßt ist.
Eine besonders homogene Plasmaverteilung ergibt sich wenn
gemäß einer anderen vorteilhaften Ausgestaltung die Länge
der Rohre derart gewählt ist, daß zum Einleiten des
gasförmigen Mediums dienende Mündungen zwischen den
Plasmaerzeugern liegen.
Die Restgase werden besonders homogen abgeleitet, wenn dabei
zum Ableiten der Restgase dienende Mündungen zwischen einer
von den Plasmaerzeugern gebildeten Ebene und dem in der
Prozeßkammer vorhandenen Behandlungsgut angeordnet sind.
Eine andere Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrichtung
besteht darin, daß weitere Mündungen über weitere Leitungen
mit einem weiteren Anschluß verbunden sind. Damit können
gegebenenfalls erforderliche Abweichungen der Gasmenge in
Teilbereichen eingestellt werden. Es ist jedoch auch
möglich, die durch eine vorgegebene Struktur der Mündungen
und Leitungen gebildete Fläche einer homogenen Gasverteilung
zu erweitern.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung
anhand mehrerer Figuren dargestellt und in der nachfolgenden
Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 ein aus einzelnen Rohrabschnitten und Winkelstücken
aufgebautes Ausführungsbeispiel,
Fig. 2 ein Ausführungsbeispiel mit in Platten eingebrachten
Kanälen,
Fig. 3 ein weiteres Ausführungsbeispiel dieser Art,
Fig. 4 ein rohrförmiges Ausführungsbeispiel und
Fig. 5 ein Ausführungsbeispiel in Verbindung mit einer
Prozeßkammer.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 wird das gasförmige
Medium von einer nicht dargestellten Quelle über ein
Zuführungsrohr 1, ein Umlenkstück 2 und ein Rohrstück 3
einer Verzweigung 4 zugeführt, an die zwei Rohre 5 und 6
angeschlossen sind, die sich nach Umlenkstücken 7, 8 wieder
bei 9, 10 verzweigen. Die dort angeschlossenen Rohre
verzweigen sich bei 11 bis 14 nochmals, so daß schließlich
acht Rohre 21 bis 28 mit Mündungen 31 bis 38 zur Einbringung
des Gases in die Prozeßkammer zur Verfügung stehen. Wie
leicht erkennbar, sind von dem Zuführungsrohr 1 zu jeder der
Mündungen 31 bis 38 gleiche Wege vom Gas zurückzulegen, so
daß das Gas an allen Mündungen 31 bis 38 mit gleicher Menge
austritt.
Das in Fig. 2 dargestellte plattenförmige
Ausführungsbeispiel weist den Vorteil auf, daß es
- abgesehen von der Robustheit - für die Verteilung selbst
eine geringe Bauhöhe benötigt, so daß es leicht oberhalb der
Plasmaerzeuger angeordnet werden kann, wobei sich Rohre zum
Zu- und/oder Ableiten von Gasen in den unteren Bereich
erstrecken. Dieses Ausführungsbeispiel besteht aus drei
Platten 41, 42 und 43, wobei die Platte 41 in Fig. 2a, die
Platte 42 in Fig. 2e sowie Querschnitte der Platten jeweils
in den Fig. 2b, 2c und 2d dargestellt sind. Als Werkstoff
für die Platten sind Stahl oder Aluminium geeignet.
Die Leitungen sowie die Öffnungen sind in beiden Platten
gegeneinander versetzt angeordnet, so daß das in der Platte
42 verteilte Gas durch geeignete Bohrungen in der Platte 41
hindurchtreten kann. Die Platte 41 trägt ein Verteilsystem
mit einem Anschluß 44, Leitungen 45, die sich baumartig
verzweigen, und Öffnungen 46. Die Leitungen 45 sind
teilweise gekröpft, beispielsweise bei 47, um Platz für
Durchleitungsöffnungen 48 für das auf der Platte 42
angeordnete Verteilsystem zu schaffen.
Dieses weist ebenfalls einen Anschluß 49, Leitungen 50 und
Öffnungen 51 auf. In die Öffnungen sind Rohre einschraubbar,
von denen in Fig. 2b zwei Rohre 52 und 53 dargestellt sind.
Die Leitungen der Platte 42 sind mit einer weiteren Platte
43 (Fig. 2d) abgedeckt. Verschiedene Bohrungen 54 dienen zur
Verschraubung der Platten untereinander, was bei 55
angedeutet ist. Außerdem befinden sich in den Platten
Bohrungen 56 zur Befestigung der Platten, gegebenenfalls als
Deckel auf der Prozeßkammer.
Die Fig. 3a und 3b zeigen ein Ausführungsbeispiel in zwei
Ansichten, das ebenfalls plattenförmig ausgebildet ist,
jedoch anstelle von acht Reihen bei dem Ausführungsbeispiel
nach Fig. 2 neun Reihen von Öffnungen aufweist. Die untere
Reihe 61 mit Mündungen 67 und Leitungen 68 ist nicht an das
symmetrische Verteilsystem angeschlossen, sondern ist
ebenfalls symmetrisch mit einem eigenen Anschluß 62
verbunden. Wegen der später im Zusammenhang mit Fig. 5
erläuterten Anordnung der Plasmaerzeuger kann eine nur
schwer für eine symmetrische Anordnung zugängliche Zahl von
Reihen erforderlich sein. Die Öffnungen der Reihe 61 können
jedoch dadurch, daß ein einstellbares Ventil zusätzlich in
eine nicht dargestellte Zuleitung zum Anschluß 62 angeordnet
ist, auf gleiche Gasmenge eingestellt werden. Dies erfordert
jedoch ein gewisses Maß an Bedienungsaufwand, ist jedoch
wesentlich günstiger als ein Abgleich bei einer nicht
symmetrischen Verteilung des Gases ohne die
erfindungsgemäßen Maßnahmen. Zusätzlich kann das
Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 noch verwendet werden, um
bewußt einen Randbereich mit mehr oder weniger Gas zu
versorgen.
In Fig. 3b, welche die Platten 63, 64, 65 zeigt, wurde der
Übersichtlichkeit halber nur das Verteilsystem in der Platte
64 mit Rohren versehen. Zur Sichtbarmachung einiger Details
ist die Platte 65 teilweise geschnitten dargestellt. Je nach
Erfordernissen im einzelnen können jedoch beide
Verteilsysteme mit Rohren versehen sein. Außerdem können
beide Verteilsysteme zur Gaszufuhr oder eines zur Zufuhr und
eines zum Ableiten benutzt werden. Im übrigen können im
Rahmen der Erfindung mehr als zwei Verteilsysteme in
entsprechend vielen Ebenen angeordnet werden.
Fig. 4 zeigt ein rohrförmiges Ausführungsbeispiel im
Längsschnitt (Fig. 4a) und Teile davon persepktivisch (Fig.
4b). Soweit der Übersichtlichkeit halber in Fig. 4 keine
Einzelheiten dargestellt sind, wird auf die
Ausführungsbeispiele nach den Fig. 2 und 3 hingewiesen,
von denen man zu dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 4 durch
ein Aufwickeln der ebenen Darstellung gelangt. Bei dem
Ausführungsbeispiel nach Fig. 4 ist ein inneres Rohr 71 mit
Leitungen 72, 73 versehen. An in Fig. 4 nicht sichtbaren
Enden der Leitungen 72 sind in einem äußeren Rohr 74
Öffnungen 75 vorgesehen. Wie in Fig. 4 angedeutet, können
entsprechend den Ausführungsbeispielen nach den Fig. 2
und 3 mehrere der Rohre nach Fig. 4b ineinander angeordnet
werden, was in Fig. 4a angedeutet ist.
Fig. 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel, das etwa demjenigen
nach Fig. 2 entspricht und als Deckel 81 einer Prozeßkammer
82 ausgebildet ist. Durch die Prozeßkammer 82 verlaufen
Plasmaerzeuger 83, die jeweils aus einem Quarzrohr und einem
dazu koaxialen Leiter bestehen.
Zur Zuführung des Reaktionsgases sind in einer Ebene des
Deckels 81 Leitungen angeordnet, die in Rohre 84 münden,
welche in der Höhe der Plasmaerzeuger 83 Austrittsöffnungen
bilden. In einer weiteren Ebene des Deckels 81 sind Kanäle
zum Ableiten des Gases vorgesehen, an welche längere Rohre
85 angeschlossen sind, die dicht oberhalb des
Behandlungsgutes 86 enden. Dadurch wird weitgehend eine
horizontale Strömung vermieden, was wesentlich zu einer
homogenen Behandlung über die gesamte Fläche des
Behandlungsgutes 86 beiträgt.
Claims (17)
1. Vorrichtung zum Leiten eines gasförmigen Mediums in
eine und/oder aus einer Prozeßkammer, insbesondere einer
Plasmaanlage, mit mindestens einem Anschluß für eine Quelle
oder Senke des Mediums und mit Mündungen in der
Prozeßkammer, dadurch gekennzeichnet, daß die Mündungen (31
bis 38; 46; 51; 75) mit dem Anschluß (1; 44; 49) über
Leitungen (1, 5, 6; 45; 50; 72, 73) derart verbunden sind,
daß zwischen dem Anschluß (1; 44; 49) und jeweils einer
Mündung (31 bis 38; 46; 51; 75) im wesentlichen gleiche
Strömungswiderstände vorliegen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Leitungen (1, 5, 6; 45; 50; 72, 73) eine
Baumstruktur aufweisen.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Leitungen (1, 5, 6; 45; 50; 72, 73)
zwischen dem Anschluß (1; 44; 49) und der jeweiligen Mündung
(31 bis 38; 46; 51; 75) gleich lang sind und gleiche
Querschnitte aufweisen.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Leitungen (1, 5, 6; 45; 50; 72, 73) zwischen dem
Anschluß (1; 44; 49) und der jeweiligen Mündung (31 bis 38;
46; 51; 75) eine gleiche Anzahl von Umlenkungen (2, 4, 7, 8)
aufweisen.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Leitungen aus Rohren (1, 3,
5, 6, 21 bis 28) gebildet sind.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Leitungen (45; 50) in einer Platte
(41, 42; 64, 65) angeordnet sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Leitungen als Nuten (45; 50) in einer Platte (41,
42; 64, 65) vorliegen, die von einer weiteren Platte (43;
63) abgedeckt sind.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch
gekennzeichnet, daß mehrere Platten (41, 42; 64, 65) mit
Leitungen (45; 50) und Mündungen (46; 51) aufeinander
angeordnet sind.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Platte als Deckel (81) der
Prozeßkammer (82) ausgebildet ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Leitungen (72, 73) in einem
rohrförmigen Träger (71) angeordnet sind.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Leitungen als Nuten (72, 73) in dem rohrförmigen
Träger (71) vorliegen und von einem weiteren Rohr (796)
abgedeckt sind.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Enden (46; 51; 75) der von Nuten
(45; 50; 72, 73) gebildeten Leitungen zum Einsetzen von die
Mündungen bildenden Rohren (52, 53; 66) ausgebildet sind.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Mündungen rasterförmig angeordnet
sind.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,
daß das Rastermaß an den Abstand von rohrförmigen
Plasmaerzeugern (83) angepaßt ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß die Länge der Rohre (84) derart gewählt ist, daß die zum
Einleiten des gasförmigen Mediums dienenden Mündungen
zwischen den Plasmaerzeugern (83) liegen.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 oder 15,
dadurch gekennzeichnet, daß zum Ableiten der Restgase
dienende Mündungen zwischen einer von den Plasmaerzeugern
gebildeten Ebene und dem in der Prozeßkammer vorhandenen
Behandlungsgut angeordnet sind.
17. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß weitere Mündungen (67) über
weitere Leitungen (68) mit einem weiteren Anschluß (132)
verbunden sind.
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