DE10024870A1 - Verfahren und Einrichtung zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiterindustrie - Google Patents

Verfahren und Einrichtung zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiterindustrie

Info

Publication number
DE10024870A1
DE10024870A1 DE10024870A DE10024870A DE10024870A1 DE 10024870 A1 DE10024870 A1 DE 10024870A1 DE 10024870 A DE10024870 A DE 10024870A DE 10024870 A DE10024870 A DE 10024870A DE 10024870 A1 DE10024870 A1 DE 10024870A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
washroom
wash liquor
wash
washing
tools
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE10024870A
Other languages
English (en)
Inventor
Kari Lang
Pertti Maentylae
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KOJAIR TECH VILPPULA Oy
Original Assignee
KOJAIR TECH VILPPULA Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KOJAIR TECH VILPPULA Oy filed Critical KOJAIR TECH VILPPULA Oy
Publication of DE10024870A1 publication Critical patent/DE10024870A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiterindustrie mit einer feuer- und/oder explosionsempfindlichen Waschlauge. Die nach dem Verfahren zu waschenden Arbeitsgeräte werden in einem wesentlich gasdicht schließbaren Waschraum (2) angebracht, wobei die darin befindliche Luft dadurch entfernt wird, dass dazu ein inertes Gas oder ein inertes Gasgemisch geführt wird, während das im Waschraum befindliche Gasgemisch mit Luft aus dem Waschraum abgelassen wird. Die Arbeitsgeräte (3) werden dadurch gewaschen, dass sie mit einer Waschlauge gespritzt werden. Nach dem Waschen wird die Waschlauge aus dem Waschraum entfernt, und das in den Waschraum entstandene Gasgemisch mit Waschlaugedampf wird dadurch entfernt, dass dem Waschraum ein inertes Gas/ein inertes Gasgemisch zugeführt wird und das Gasgemisch mit Waschlaugedampf gleichzeitig aus dem Waschraum abgeführt wird. DOLLAR A Weiter bezieht sich die Erfindung auf eine Einrichtung, die einen wesentlich dicht schließbaren Waschraum (2) aufweist, in den die zu waschenden Arbeitsgeräte (3) für deren Waschen eingesetzt werden. Weiter weist die Einrichtung Mittel (4), (7) zum Spritzen einer Waschlauge auf die Oberfläche der Arbeitsgeräte, einen Kanal (5) zum Entfernen der in den Waschraum gespritzten Waschlauge sowie Mittel (10-12) zum Zuführen eines inerten Gases oder eines inerten Gasgemisches dem Waschraum auf. Die Einrichtung weist weiter Mittel zum Entfernen eines gasförmigen Gemisches aus dem ...

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Waschen von Ar­ beitsgeräten der Halbleiterindustrie mit einer feuer- und/oder explosionsemp­ findlichen Waschlauge.
Weiter bezieht sich die Erfindung auf eine Einrichtung zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiterindustrie mit einer feuer- und/oder explosionsempfindlichen Waschlauge.
In der Halbleiterindustrie werden lichtempfindliche Mittel, d. h. sog. Resists, bei verschiedenen Fabrikationsprozessen verwendet. In einigen Pro­ zessen werden verschiedene Arbeitsgeräte wie sog. Resistbecher und ent­ sprechende Vorrichtungsteile sowie andere Arbeitsgeräte zur Behandlung die­ ser Mittel verwendet, wobei diese Mittel auf der Oberfläche der Arbeitsgeräte bleiben. Damit die Arbeitsgeräte wieder verwendet werden könnten, sollen sie vorher von Materialresten gereinigt werden. Die Reinigung geschieht heutzu­ tage dadurch, dass sie mit einem geeigneten Lösungsmittel in einem allge­ mein verwendeten Schutzschrank gewaschen werden, in dem entstehende Lösungsmitteldämpfe mittels eines Saugers abgesogen werden. Ein auf eine entsprechende Weise verwendetes flüssiges Lösungsmittel wird zurückge­ wonnen. Ein Problem dieses jetzigen Verfahrens besteht darin, dass die mit der Entfernung der Lösungsmitteldämpfe verbundene Akklimatisation ziemlich schwierig und teuer ist. Das Ablassen der Lösungsmitteldämpfe in die umge­ bende Atmosphäre verursacht Umweltprobleme. Ein weiteres Problem ist die große Konsumtion des als Waschlauge verwendeten Lösungsmittels pro zu waschende Einheit.
Dieser Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und ei­ ne Einrichtung zustande zu bringen, mittels deren das Waschen der Arbeits­ geräte dieser Art automatisch sowie leicht und sicher gemacht werden kann. Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass die zu waschenden Arbeitsgeräte in einem wesentlich gasdicht schließbaren Wasch­ raum angebracht werden, dass die im geschlossenen Waschraum befindliche Luft aus dem Waschraum dadurch entfernt wird, dass dazu ein inertes Gas oder ein inertes Gasgemisch geführt wird, während das im Waschraum be­ findliche Gasgemisch mit Luft aus dem Waschraum abgelassen wird, dass die Arbeitsgeräte dadurch gewaschen werden, dass sie mit einer Waschlauge gespritzt werden, wobei die in den Waschraum zu spritzende Waschlauge aus dem Waschraum entfernt wird, und dass das in den Waschraum entstandene Gasgemisch mit Waschlaugedampf nach dem Waschen aus dem Waschraum dadurch entfernt wird, dass dem Waschraum ein inertes Gas/ein inertes Gas­ gemisch zugeführt wird und das Gasgemisch mit Waschlaugedampf gleichzei­ tig aus dem Waschraum abgeführt wird.
Weiter ist die erfindungsgemäße Einrichtung dadurch gekennzeich­ net, dass die Einrichtung einen wesentlich dicht schließbaren Waschraum, in den die zu waschenden Arbeitsgeräte fürs Waschen eingesetzt werden, Mittel zum Spritzen einer Waschlauge auf die Oberfläche der Arbeitsgeräte, einen Kanal zum Entfernen der in den Waschraum gespritzten Waschlauge, Mittel zum Zuführen eines inerten Gases oder eines inerten Gasgemisches dem Waschraum, Mittel zum Entfernen eines im Waschraum befindlichen gasför­ migen Gemisches aus dem Waschraum und Steuermittel zum Steuern der Einrichtung aufweist.
Eine wesentliche Idee der Erfindung liegt darin, dass die zu waschenden Arbeitsgeräte mit einer automatischen Wascheinrichtung in ei­ nem dazu gehörenden, wesentlich dicht schließbaren Waschraum gewaschen werden, wobei die Wascheinrichtung die zu waschenden Arbeitsgeräte mit einer erforderlichen Lösung rein spült. Eine weitere wesentliche Idee der Er­ findung liegt darin, dass vor dem Waschen, nachdem die zu waschenden Ein­ heiten im betreffenden Waschraum angebracht worden sind, der geschlossen ist, die im Raum befindliche Luft daraus dadurch entfernt wird, dass dem Raum ein inertes Gas oder ein inertes Gasgemisch, vorzugsweise Stickstoff, zugeführt wird, wobei die Feuer- oder Explosionsgefahr beseitigt wird. Eine weitere wesentliche Idee der Erfindung liegt darin, dass die im betreffenden Waschraum befindlichen Lösungsmitteldämpfe nach dem Waschen daraus dadurch entfernt werden, dass dem Waschraum wieder ein inertes Gas oder ein inertes Gasgemisch zugeführt wird, wobei die Lösungsmittelemissionen für die Weiterbehandlung zurückgewonnen werden können.
Ein Vorteil der Erfindung liegt darin, dass auf diese Weise die Feu­ er- und Explosionsgefahr vermieden werden kann, weil im Waschraum kein Sauerstoff vorhanden ist, was zum Hervorbringen einer Feuer oder einer Ex­ plosion notwendig wäre. Weiter sind die Lösungsmitteldampfemissionen im Ganzen pro ein Waschmal klein, weil sie nur in dem Maß vorhanden sind, wie sie unter Berücksichtigung der Verhältnisse in den Waschraum verdampfen können. Ein weiterer Vorteil liegt darin, dass, wenn die Lösungsmitteldämpfe aus dem Waschraum für die Rückgewinnung dadurch entfernt werden, dass dem Waschraum ein inertes Gas zugeführt wird, der Waschraum danach si­ cher geöffnet werden kann, ohne dass in die Atmosphäre schädliche Dämpfe oder Gase kommen.
Die Erfindung wird in der beigefügten Zeichnung näher erläutert, in der eine erfindungsgemäße Einrichtung schematisch dargestellt ist.
Die Figur stellt eine erfindungsgemäße Einrichtung schematisch dar. Die Einrichtung weist einen eigentlichen Waschapparat 1 auf, in dem ein Waschraum 2 zum Waschen von Arbeitsgeräten 3 vorgesehen ist. Die zu waschenden Arbeitsgeräte können im Waschraum 2 entweder in separaten Körben oder auf einem im Waschraum 2 befindlichen Gitter oder auf einem anderen geeigneten Halter angebracht werden. Weiter sind im Waschraum 2 Düsen 4 vorgesehen, aus denen das als Waschmittel zu verwendende Lö­ sungsmittel oder dergleichen auf die Oberfläche der zu waschenden Arbeits­ geräte für deren Waschen gespritzt wird. Der Boden des Waschraums 2 bildet ein Becken, in das sich die gespritzte Waschlauge sammelt, und von dem Bo­ den des Beckens geht ein Kanal 5 aus, welchen entlang die Waschlauge in einen Zirkulationsbehälter 6 geführt werden kann. Weiter weist die Einrichtung eine Pumpe 7 auf, mit der die Waschlauge in die Düsen 4 gepumpt wird. Weiter weist die Einrichtung einen Zufuhrbehälter 8 auf, in dem eine neue, ungebrauchte Waschlauge aufbewahrt wird und aus dem sie der Pumpe 7 zugeführt werden kann. Je nach der Waschphase wird zur Pumpe 7 entweder eine früher verwendete Waschlauge aus dem Zirkulationsbehälter 6 oder eine reine Waschlauge aus dem Zufuhrbehälter 8 dadurch geführt, dass mit einem Ventil 9 ein Einlasskanal der Waschlauge für die Pumpe 7 gewählt wird. Die Figur zeigt den Waschlaugebehälter 6 und 8 als offene Fässer, was nur ver­ anschaulichkeitshalber gemacht wird. In der Praxis kann das Aufbewahren einer feuer- und explosionsempfindlichen Waschlauge natürlich nur in dichten Behältern geschehen, so dass daraus keine Waschlauge in die umgebende Luft verdampfen kann.
Die Einrichtung kann einen Gasbehälter 10 wie eine Gasflasche oder dergleichen aufweisen, die mit dem Waschraum 2 durch einen Gaszu­ fuhrkanal 11 mittels eines darin befindlichen Ventils 12 zu verbinden ist. Statt des obigen Gasbehälters kann Gas aus einem mit Strichlinie 11' bezeichneten festen Gasnetz einer Fabrik oder eines Laboratoriums zugeführt werden, falls ein solches vorhanden ist. Entsprechend führt von dem Waschraum 2 dem Gaszufuhrkanal 11 gegenüber von der entgegengesetzten Seite des Wasch­ raums ein Gasauslasskanal 13, der alternativ mittels eines Ventils 14 zum Beispiel mit einem Auslasskanal von organischen Mitteln einer Fabrik oder eines Laboratoriums oder mit einer Rückgewinnungsvorrichtung 15 gekoppelt werden kann. Der Gasbehälter 10 enthält ein inertes Gas oder ein inertes Gasgemisch, von denen ein der vorteilhaftesten der gewöhnliche Stickstoff ist. Weiter weist die Einrichtung Steuermittel wie eine Steuereinheit 16 auf, die die Pumpe und die Ventile sowie die anderen Funktionen der Einrichtung nach dem Vorausgestellten steuert.
Das Waschen der mit der Einrichtung zu waschenden Einheiten 3 geschieht nach dem folgenden Verfahren. Die zu waschenden Einheiten 3 werden in den Waschraum 2 in eine solche Stellung gesetzt, dass die Waschlauge von ihnen auf den Boden des Waschraums 2 abfließen kann. Eine Klappe 2a des Waschraums 2, die sich an oder auf dem Waschraum be­ finden kann, in diesem Fall beispielartig an dem Waschraum, wird dicht ge­ schlossen, so dass ein dichter, geschlossener Waschraum entsteht. Dem Waschraum 2 wird aus dem Gasbehälter 10 ein darin befindliches inertes Gas wie Stickstoff zugeführt, wobei das Gas beim Einströmen in den Waschraum die darin befindliche gewöhnliche Luft ausschiebt. In dieser Situation kann das Gasauslassrohr 13 mit der Atmosphäre verbunden sein, weil all das daraus herauskommende Gas ohne Störungen und Schäden direkt in die Atmosphäre geführt werden kann.
Nachdem der Waschraum 2 von der sauerstoffhaltigen Luft leer ge­ spült worden ist und er nur ein ihm zugeführtes inertes Gas enthält, werden die Gaszufuhr- und Gasauslasskanäle 11 und 13 geschlossen. Danach wird die Pumpe 7 geschaltet, die schon früher verwendete Waschlauge aus dem Zirkulationsbehälter 6 durch die Düsen 4 auf die Oberfläche der zu waschen­ den Arbeitsgeräte zum Ausführen einer Vorwäsche, d. h. zum Auflösen und Entfernen des Materials von den Arbeitsgeräten, zu pumpen. Gewünschten­ falls können auch mehrere Zirkulationsbehälter zum Sammeln von mehr oder weniger schmutzig gewordenen Waschlaugen verschiedener Waschphasen verwendet werden, wobei das Waschen so geschieht, dass zuerst die schmutzigste Lösung verwendet wird und danach in der nächsten Waschpha­ se zu einer weniger schmutzigen Waschlauge übergegangen werden kann usw. Ein wesentlicher Umstand der Sache liegt darin, dass das Lösungsver­ mögen der früher von einem Resist oder entsprechenden Materialien schmut­ zig gewordenen Lösung jedoch übrig ist, weshalb sie unbesorgt zum Auflösen und Entfernen des Materials verwendet werden kann, so dass auf der Ober­ fläche der zu waschenden Arbeitsgeräte kein festes Material bleibt. In der letzten Waschphase wird die Pumpe 7 mittels des Ventils 9 mit dem Zufuhrbe­ hälter 8 der reinen Waschlauge gekoppelt, so dass das letzte Spülen mit einer völlig ungebrauchten, neuen Waschlauge zum Entfernen auch der letzten Re­ ste von den zu waschenden Arbeitsgeräten ausgeführt wird. Diese neue Waschlauge wird im Spülen im Allgemeinen nicht zirkuliert, sondern sie wird in den Zirkulationsbehälter 6 aufgesammelt. Statt dessen kann diese neue Waschlauge zum Beispiel durch Röhrenwerke, Ventile und eine Pumpe zirku­ liert werden, so dass diese von verschiedenen Resten möglichst gut gereinigt werden können. Die neue Waschlauge kann statt des vorigen Behälters natür­ lich auch direkt aus einem Waschlaugenetz genommen werden, falls ein sol­ ches im Laboratorium oder in der Fabrik vorhanden ist, wobei der Zufuhrbe­ hälter 8 der Zufuhrbehälter für die reine Waschlauge dieses ganzen Netzes ist.
Nachdem das Waschen durchgeführt worden ist und das Zuführen der Waschlauge aus den Düsen aufgehört hat, wird der Gaszufuhrkanal 11 zum Zuführen eines inerten Gases dem Waschraum wieder mit dem Ventil 12 geöffnet. Weil der Waschraum ein von der verdampften Waschlauge entstan­ denes Gemisch des Waschlaugedampfes und des inerten Gases enthält, wird der Gasauslasskanal 13 mittels des Ventils 14 zum Beispiel mit der Rückge­ winnungsvorrichtung 15 gekoppelt. Wenn ein inertes Gas oder ein inertes Gasgemisch dem Waschraum zugeführt wird, schiebt es wieder das vor ihm im Waschraum 2 befindliche Gemisch mit Waschlaugedampf in den Kanal 13 und daraus weiter in die Rückgewinnungsvorrichtung 15. Wenn der Wasch­ raum wieder voll von nur inertem Gas oder inertem Gasgemisch ist, werden die Gaszufuhr- und Gasauslasskanäle 11 und 13 wieder geschlossen, wonach die Klappe 2a des Waschraums 2 geöffnet werden kann und die gewasche­ nen Arbeitsgeräte von dem Waschapparat abgenommen werden können.
Die Rückgewinnungsvorrichtung 15 des Gases kann entweder ein bloßer Behälter sein oder sie kann zum Beispiel einen Kompressor oder ande­ re Geräte zum Zusammenpressen des aus dem Waschraum entfernten Gases aufweisen usw. Die Lösungsmitteldämpfe können auch auf viele andere an sich bekannte Weisen aus dem Gas entfernt werden und der zurückge­ wonnene Lösungsmitteldampf kann verflüssigt und zurückgeführt werden, um wieder verwendet zu werden. Es ist wesentlich, dass das aus dem Wasch­ raum 2 entfernte Gemisch mit Waschlaugedampf zurückgewonnen wird und nicht in die Atmosphäre abgelassen wird, wobei zum Beispiel das in geeigne­ ten Zeitabständen zurückgewonnene Gemisch auf eine geeignete Weise zum Beispiel dadurch weiterbehandelt werden kann, dass die Waschlaugedämpfe zu einer Lösung kondensiert und zur Verwendung zurückgeführt werden.
Die Erfindung ist oben in der Beschreibung und in der Zeichnung nur beispielartig dargestellt und sie ist auf keine Weise darauf beschränkt. Es ist wesentlich, dass das Waschen beim Verwenden von eine Feuer- und/oder Explosionsgefahr hervorrufenden Waschlaugen in einem geschlossenen Raum geschieht, aus dem zuerst das Gasgemisch mit Sauerstoff zum Verhin­ dern der Gefahr mit einem inerten Gas oder mit einem inerten Gasgemisch gespült wird, und das Gemisch mit Waschlaugedampf nach dem Waschen fürs Zurückgewinnen gespült wird, so dass der Waschraum nach dem Wa­ schen, wenn das darin befindliche inerte Gas oder inerte Gasgemisch geöffnet wird, ohne Störungen und Schäden mit der umgebenden Luft gemischt wer­ den kann.

Claims (6)

1. Verfahren zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiter­ industrie mit einer feuer- und/oder explosionsempfindlichen Waschlauge, da­ durch gekennzeichnet, dass die zu waschenden Arbeitsgeräte in einem wesentlich gasdicht schließbaren Waschraum (2) angebracht werden, dass die im geschlossenen Waschraum (2) befindliche Luft aus dem Wasch­ raum (2) dadurch entfernt wird, dass dazu ein inertes Gas oder ein inertes Gasgemisch geführt wird, während das im Waschraum befindliche Gasge­ misch mit Luft aus dem Waschraum abgelassen wird, dass die Arbeitsgeräte (3) dadurch gewaschen werden, dass sie mit einer Waschlauge gespritzt wer­ den, wobei die in den Waschraum (2) zu spritzende Waschlauge aus dem Waschraum entfernt wird, und dass das in den Waschraum (2) entstandene Gasgemisch mit Waschlaugedampf nach dem Waschen aus dem Waschraum dadurch entfernt wird, dass dem Waschraum ein inertes Gas/ein inertes Gas­ gemisch zugeführt wird und das Gasgemisch mit Waschlaugedampf gleichzei­ tig aus dem Waschraum (2) abgeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Arbeitsgeräte (3) zuerst mit einer früher verwendeten Waschlauge gewaschen werden und dass die Arbeitsgeräte (3) zum Schluss mit einer rei­ nen Waschlauge gespült werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn­ zeichnet, dass als Gas Stickstoff verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge­ kennzeichnet, dass das aus dem Waschraum zu entfernende Gasge­ misch mit Waschlaugedämpfen aus dem Waschraum in eine Rückgewin­ nungsvorrichtung (15) zum Zurückgewinnen der Dämpfe geführt wird.
5. Einrichtung zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiter­ industrie mit einer feuer- und/oder explosionsempfindlichen Waschlauge, da­ durch gekennzeichnet, dass die Einrichtung einen wesentlich dicht schließbaren Waschraum (2), in den die zu waschenden Arbeitsgeräte (3) fürs Waschen eingesetzt werden, Mittel (4, 7) zum Spritzen einer Waschlauge auf die Oberfläche der Arbeitsgeräte (3), einen Kanal (5) zum Entfernen der in den Waschraum gespritzten Waschlauge, Mittel (10-12) zum Zuführen eines inerten Gases oder eines inerten Gasgemisches dem Waschraum (2), Mittel zum Entfernen eines im Waschraum befindlichen gasförmigen Gemisches aus dem Waschraum (2) und Steuermittel (16) zum Steuern der Einrichtung auf­ weist.
6. Einrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass sie einen Zirkulationsbehälter (6) zum Zurückgewinnen und Zirkulieren der verwendeten Waschlauge aufweist, um diese mittels einer Pumpe (7) wie­ der in den Waschraum (2) zu spritzen.
DE10024870A 1999-05-21 2000-05-19 Verfahren und Einrichtung zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiterindustrie Ceased DE10024870A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI991160A FI113750B (fi) 1999-05-21 1999-05-21 Menetelmä ja laitteisto puolijohdeteollisuuden työvälineiden pesemiseksi

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10024870A1 true DE10024870A1 (de) 2000-12-07

Family

ID=8554708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10024870A Ceased DE10024870A1 (de) 1999-05-21 2000-05-19 Verfahren und Einrichtung zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiterindustrie

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6620258B1 (de)
DE (1) DE10024870A1 (de)
FI (1) FI113750B (de)
GB (1) GB2351436B (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7819981B2 (en) 2004-10-26 2010-10-26 Advanced Technology Materials, Inc. Methods for cleaning ion implanter components

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE235548C (de)
DE3145815C2 (de) 1981-11-19 1984-08-09 AGA Gas GmbH, 2102 Hamburg Verfahren zum Entfernen von ablösungsfähigen Materialschichten von beschichteten Gegenständen,
DE3804694A1 (de) 1987-06-23 1989-01-05 Taiyo Sanso Co Ltd Verfahren zur oberflaechenbearbeitung fuer halbleiter-wafer und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
US5168886A (en) * 1988-05-25 1992-12-08 Semitool, Inc. Single wafer processor
CA2003859A1 (en) * 1989-02-01 1990-08-01 David Alan Dickinson Technique for cleaning an object with a combustible cleaning solvent
CA2011397C (en) * 1989-03-06 1994-07-12 Michael T. Mittag Method and apparatus for cleaning electronic and other devices
US5027841A (en) * 1990-04-24 1991-07-02 Electronic Controls Design, Inc. Apparatus to clean printed circuit boards
US5593507A (en) 1990-08-22 1997-01-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Cleaning method and cleaning apparatus
US5201960A (en) 1991-02-04 1993-04-13 Applied Photonics Research, Inc. Method for removing photoresist and other adherent materials from substrates
FI97920C (fi) 1991-02-27 1997-03-10 Okmetic Oy Tapa puhdistaa puolijohdevalmiste
US5486235A (en) 1993-08-09 1996-01-23 Applied Materials, Inc. Plasma dry cleaning of semiconductor processing chambers
US5863348A (en) * 1993-12-22 1999-01-26 International Business Machines Corporation Programmable method for cleaning semiconductor elements
US5599743A (en) 1994-04-07 1997-02-04 Matsushita Electronics Corporation Method of manufacturing a semiconductor device
US5454390A (en) 1994-05-16 1995-10-03 International Business Machines Corporation Vapor rinse-vapor dry process tool
US5711821A (en) * 1995-04-13 1998-01-27 Texas Instruments Incorporated Cleansing process for wafer handling implements
US5839455A (en) * 1995-04-13 1998-11-24 Texas Instruments Incorporated Enhanced high pressure cleansing system for wafer handling implements
US5715612A (en) 1995-08-17 1998-02-10 Schwenkler; Robert S. Method for precision drying surfaces

Also Published As

Publication number Publication date
GB2351436A (en) 2001-01-03
FI113750B (fi) 2004-06-15
GB2351436B (en) 2003-07-02
IE20000384A1 (en) 2001-02-21
FI991160A0 (fi) 1999-05-21
US6620258B1 (en) 2003-09-16
FI991160A (fi) 2000-11-22
GB0012086D0 (en) 2000-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69521267T2 (de) Trockenreinigung von Kleidungstücken unter Verwendung von Gasstrahlverwirbelung
DE1419356A1 (de) Verfahren und Anlage zur Reinigung von Kleidungsstuecken und/oder Textilien
EP3228233B1 (de) Haubengeschirrspüler zur aufnahme mehrerer geschirrkörbe
DE19540958A1 (de) Dosiervorrichtung
CN105792537A (zh) 一种pcba离线清洗机
EP0289982A2 (de) Einrichtung zum Trocknen von Gegenständen in Reinigungsanlagen
DE102014104369B4 (de) Verfahren zur Rückgewinnung von Energie aus der Wärme von Spülflotte
DE102008044753A1 (de) Substratbearbeitungsvorrichtung und Verfahren
DE10024870A1 (de) Verfahren und Einrichtung zum Waschen von Arbeitsgeräten der Halbleiterindustrie
EP0087055B1 (de) Verfahren für die Lösungsmittelbehandlung von insbesondere metallischem Behandlungsgut
DE69003173T2 (de) Verfahren und Einrichtung zum automatischen und kontinuierlichen Waschen von Federn.
EP0067452A1 (de) Vorrichtung zum Reinhalten der Umgebungsluft beim Entleeren und Reinigen der Destillierblase von Trockenreinigungsvorrichtungen
EP3825285A1 (de) Verfahren zur reinigung von geschirr in einem geschirrspüler mit einer umkehrosmosevorrichtung
DE60311081T2 (de) Vorrichtung zum Schleifen von Brillengläsern
DE102014103458A1 (de) Verfahren zum Reinigen eines Innenraums eines Gargeräts und Gargerät
DE1949017A1 (de) Verfahren zum Reinigen von Kleidungsstuecken
DE102015114118B4 (de) Deckel für einen Einspülkasten für einen Waschautomaten, Einspülkasten für einen Waschautomaten, Waschautomat und Verfahren zum Überspülen eines Schauglases eines Waschautomaten
DE19737510C2 (de) Geschirrspülanlage für die Reinigung, Trocknung und Stapelung von Mehrwegkunststoffbechern
DE635151C (de) Reinigungsbehaelter fuer Lack- und Farbenflaschen bzw. Kanister
DE3012724A1 (de) Druckbeeinflusste anordnung an einer waschmaschine
DE102014100192A1 (de) Wäschetrockner
DE290119C (de)
DE2852072A1 (de) Maschine zum reinigen, desinfizieren und trocknen von laborglas und geraeten, insbesondere von anaesthesie-utensilien
DE558743C (de) Ausschliesslich durch Waerme betriebener Apparat zum Reinigen von Waesche u. dgl.
DE507409C (de) Waeschesortierstaender fuer Waeschereibetriebe

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8131 Rejection