DD272483A1 - Verfahren zur zuechtung von oxidischen kristallen nach der czochralski-methode - Google Patents

Verfahren zur zuechtung von oxidischen kristallen nach der czochralski-methode Download PDF

Info

Publication number
DD272483A1
DD272483A1 DD31636988A DD31636988A DD272483A1 DD 272483 A1 DD272483 A1 DD 272483A1 DD 31636988 A DD31636988 A DD 31636988A DD 31636988 A DD31636988 A DD 31636988A DD 272483 A1 DD272483 A1 DD 272483A1
Authority
DD
German Democratic Republic
Prior art keywords
growth
crystal
broadening
melt
rotation
Prior art date
Application number
DD31636988A
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Stuendl
Frank Rosenberg
Doris Damm
Original Assignee
Elektronische Bauelemente Veb
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elektronische Bauelemente Veb filed Critical Elektronische Bauelemente Veb
Priority to DD31636988A priority Critical patent/DD272483A1/de
Publication of DD272483A1 publication Critical patent/DD272483A1/de

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Kristallzuechtung und wird insbesondere bei der Zuechtung oxidischer Kristalle spezieller kristallographischer Richtungen mit ausgepraegtem Facettenwachstum angewendet. Erfindungsgemaess wird der Kristallkeim mit einem Hub 0 mm/h bei einer Rotation 3 min 1 und einer radialen Wachstumsgeschwindigkeit 2 cm/h waehrend der Verbreiterung zeitweise in die Schmelze hineinbewegt. Das komplexe Zusammenwirken von Hub, Rotation und Wachstumsgeschwindigkeit waehrend der Verbreiterung stellt solche Wachstumsbedingungen ein, dass die Bildung von Polykristallen auf den Kristallfacetten verhindert wird.

Description

Charakteristik de« bekannten Standes dor Technik
Es Ist bekannt, daß bei der Kristallzüchtung aus der Schmelze nach dem Czochralski-Verfahren die Verbreiterung des Kristalls nach dem Anschmelzen des Keimes in Form eines Kegel- oder Schulterkopfes erfolgt. Dabei wird der Kristall unter Rotation mit einem Hub unterschiedlicher Geschwindigkeit aus der Schmelze gezogen.
Die axiale Wachstumsgeschwindigkeit des Kristalls resultiert aus der Hubbewegung und dem Absinken der Schmelzoberfläche.
Neben den geometrischen Verhältnissen von Tiegel und Kristall ist das Absinken der Schmelzoberfläche auch vom Dichteunterschied zwischen Festkörper und Schmelze abhängig.
Bei der Züchtung von oxidischen Kristallen mit speziellen kristallographischen Richtungen ist ein stark ausgeprägtes Facettenwachstum zu beobachten. Die Facetten sind Austritte singulärer Kristallflächen aus der Oberfläche dos Kristalls (N.Wiizeki, T. Yamada, H.Toyoda, Japanes Journal of Applied Physics Vol. β, No. 3, March 1967,318-327).
Singuläre Flächen erfordern zum Wachstum eine starke Unterkühlung, welche zu einer parasitären Keimbiidung neigt. Das wiederum führt zur Entstehung von Polykristallinen.
Insbesondere während der Verbreiterung können die Facetten mehrere Millimeter aus der Kristalloberfliiche hervorstehen. Die Höhe ist vor allen Dingen abhängig von der Größe der ausgebildeten singulären Fläche, deren Winkel zur Kristalloberfläche und dem Benetzungsverhalten der Schmelze. Durch das Hervorstehen der singulären Flächen wird der Moniskus der Schmelzt- an diesen Stellen angehoben. Die Schwerkraft der angehobenen Schmelze und die durch Rotation verursachte Fliehkraft bewirken eine starke Tendenz zum Abgleiten des Schmelimeniskus von den singulären Flächen. Diese Tendenz tritt besonders bei kritischen Winkeln zwischen singulärer Fläche und Krlstalloberflächo auf.
Das Abgleiten des Schmelzmeniskus führt ebenfalls zur parasitären Keimbildung.
Die Größe der ausgebildeten slngulären Flächen läßt sich durch die thermischen Gradienten bee'nflussen. Bekannt sind dazu Verfahren, bei denen mit extrem steilen thermischen Gradienten die singulären Flächen kleingehaiten werden. Das Züchten unter steilen thermischen Gradienten führt jedoch zu einer Erhöhung der Fehlerzahl in der Kristallstruktur. Einen Kompromiß stellt die Anordnung nach PS-OD 215340 dar, bei der während der Verbreiterung ein steilerer thermischer Gradient eingestellt wird als während der Züchtung im zylindrischen Teil des Kristalls. Des weiteren sind nach PS-DE 3005492 Vorrichtungen bekannt, bei denen mit Hilfe beweglicher Strahlungsreflektoren ein ähnlicher Effekt erzielt wird. Jedoch ist die technische Realisierung zu aufwendig.
In PS-DD 235 890 wird ein Verfahren beschrieben, bei dem durch Anlegen eines elektrischen Feldes das Benetzungsverhalten der Schmelze an den Facetten so beeinflußt wird, daß deren Ausbildung reduziert oder ganz verhindert werden kann. Es ist jedoch
bekannt, daß durch das elektrische Feld Effekte, wie Elektrolyse der Schmelze, Änderung des Fremdioneneinbaus, Stöchiometrieänderungen u.a. hervorgerufen werden können (A.Räuber, Mat. Res. Bull., Vol.11,1976 und K.Wassau u.a.
J.Phys.Chem. Solids, 1966, Vol.27, S.989-996).
Diese Effekte wirken sich häufig nachteilig auf den Züchtungsprozeß und die Qualität der Kristalle aus. Zum Beispiel weisen die nach dieser Methode hergestellten Lithiumniobatkristalle in dem mit elektrischem Feld gezüchteten Teil Stöchiometrieänderungen auf. Das führt zu starken Eigenspannungen und letztendlich zum Zerspringen der Kristalle.
Ziel der Erfindung
Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Züchtung von Kristallen spezieller kristallographischer Richtungen nach der Czochraleki-Methode zu entwickeln, welches die Bildung von Polykristallen auf den singulären Flächen stark reduziert oder ganz verhindert, ohne dabei die Kristallqualität negativ zu beeinflussen. Das Verfahren muß technisch bei geringem Aufwand gut realisierbar sein.
Darlegung des Wesens der Erfindung
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, die Wachstumsbedingungen bei der Züchtung von Kristallen spezieller krtetallographischer Richtungen nach der Czochralski-Methode so zu gestalten, daß durch ein günstiges Verhältnis von Hub, Rotation und Wachstumsgeschwindigkeit die Bildung von Polykristallen an Kristallen mit stark ausgeprägter Facettenbildiing während der Verbreiterung vermieden wird.
Erf indungsgemaß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß der Keim während der Verbreiterung bei einem geringen oder negativen Hub, das heißt bei einem Hub £ Omm/h und einer geringen Rotation ä 3min'1 und einer relativ hohen radialenWachstumsgeschwindigkeit s 2cm/h in die Schmelze zeitweise hineinbewegt wird. Die radiale Wachstumsgeschwindigkeit ist dabei mindestens zweimal so groß wie die übliche axiale Wachstumsgeschwindigkeit für das betroffende Material. Das komplexe Zusammenwirken von Hub, Rotation und Wachstumsgeschwindigkeit während der Verbreiterung verhindert die Bildung von Polykristallen auf den Kristallfacetten, da das Herausheben der singulären Flächen übor das Niveau der Schmelze weitestgehend verhindert wird. Damit ist eine ständige Benetzung dieser Flächen gewährleistet und die Schwerkraft des Schmelzmeniskus reduziert. Die Verringerung der Rotation bewirkt eine Reduzierung der Fliehkraft und wirkt damit der Tendenz des Abgleitens des Schmelzmeniskus von den singulären Flächen entgegen. Die hohe radiale Wachstumsgeschwindigkeit führt zu einer verringerten Ausbildung der Facetten. Gleichzeitig wird dadurch das Wachstum unter besonders kritischen Winkeln zwischen singulärer Flüche und Kristalloberlläche schnell überwunden. Durch die komplex angewendeten Maßnahmen wird die Bildung von Polykristallen an Kristallen mit stark ausgeprägter Facettenbildung in der Verbreiterung voi hindert.
Ausführungsbnlsplel Die Erfindung wird an der Züchtung von Uthiumniobatkristallen in y-Rlchtung nach der Czochralski-Methode erläutert. Bei der Züchtung dieser Kristalle ist elno starke Tendenz zur Polykristallblldung zu beobachten und somit die Herstellung großer Kristalle nicht möglich. Die Polykristallbildung wird durch parasitäre Keimbildung, insbesondere auf den stark ausgeprägten singulären Flächen der Form {1012} begünstigt. Die kritischen Winkel zwischen singulärer Fläche und Kristalloberfläche treten bei beginnender Verbreiterung auf. Nach der Verjüngung des Keimes am Ende des Anscbmelzens wird die Schmelze durch schnelle Verringerung der Energiezufuhr
soweit abgekühlt, daß der Kristall mit einer radialen Geschwindigkeit von 3-5cm/h am Beginn der Verbreiterung wächst, wobeisich gleichzeitig der Keim mit einer Hubgeschwindigkeit von 2 mm/h in Richtung Schmelze bewegt. Gleichzeitig erfolgt eine
Verringerung der Rotation von anfangs 15min'1 auf 1-2min"'. Bei einem Durchmesser der Verbreiterung von etwa 10mm wird der Hub auf 0-1 mm/h Aufwärtsbewegung umgeschaltet. Unter
diesen Bedingungen wächst der Kristall bis zum Ende der Verbreiterung. Am Ende der Verbreiterung werden allmählich die fürdas Wachstum des zylindrischen Teils optimalen Werte von Hub 2 mm/h und Rotation 15mln"1 eingestellt. Das radiale
Wachstum wird durch Erhöhung der Energiezufuhr beim Erreichen des gewünschten Durchmes iers beendet.

Claims (1)

  1. Verfahren zur Züchtung von oxidischen Kristallen nach der Czochralskl-Methode, bei dem durch ausgeprägtes Facettenwachstum in der Verbreiterung eine starke Neigung zur Bildung von Polykristallen auftritt, gekennzeichnet dadurch, daß durch ein komplexes Zusammenwirken der Wachstumsbedingungen während der Verbreiterung der Keim bei einem Hub £ Omm/h, einer Rotation £ 3min~' und einer radialen Wachstumsgeschwindigkeit a 2cm/h zeitweise in Richtung der Schmelze bewegt wird.
    Anwendungsgebiet der Erfindung
    Öle Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Kristallzüchtung, insbesondere auf die Züchtung oxidischer Kristalle spezieller kristallographischer Richtungen mit ausgeprägtem Facettenwachstum nach der Czochralski-Methode.
DD31636988A 1988-06-03 1988-06-03 Verfahren zur zuechtung von oxidischen kristallen nach der czochralski-methode DD272483A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD31636988A DD272483A1 (de) 1988-06-03 1988-06-03 Verfahren zur zuechtung von oxidischen kristallen nach der czochralski-methode

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD31636988A DD272483A1 (de) 1988-06-03 1988-06-03 Verfahren zur zuechtung von oxidischen kristallen nach der czochralski-methode

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DD272483A1 true DD272483A1 (de) 1989-10-11

Family

ID=5599724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DD31636988A DD272483A1 (de) 1988-06-03 1988-06-03 Verfahren zur zuechtung von oxidischen kristallen nach der czochralski-methode

Country Status (1)

Country Link
DD (1) DD272483A1 (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19806045B4 (de) Verfahren zum Herstellen von einkristallinen Siliziumstäben unter Steuern desZiehgeschwindigkeitsverlaufs in einem Heißzonenofen
DE3872745T2 (de) Einkristallstab, verfahren und vorrichtung zu seiner ziehung aus einer schmelze.
DE69615094T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Einkristallstabes mit gleichmässiger Verteilung Gitterdefekten und Verwendung einer Vorrichtung dafür
EP1866466B1 (de) Verfahren zur herstellung einer einkristallinen si-scheibe mit annähernd polygonalem querschnitt
DE69801381T2 (de) Verfahren und Impfkristall zur Herstellung eines Silicium Einkristalles
DE112013005434B4 (de) Verfahren zum Herstellen von Silicium-Einkristallen
DE2059713A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Halbleiter-Einkristallen nach der Czochralski-Methode
EP1158075B1 (de) Einkristallstab und Verfahren zur Herstellung desselben
DE69610021T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen durch die Czochralski-Technik
DE69619005T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Züchtung eines Einkristalles
DE69802864T2 (de) Silizium-Impfkristall, Verfahren zu seiner Herstellung und Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Einkristalls unter Verwendung des Silizium-Impfkristalls
DE112012004790B4 (de) Verfahren zum Herstellen eines Silizium-Einkristalls
DE19825745A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines fehlordnungsfreien Silicium-Einkristalls
DE69912484T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Einkristalles
DE69208146T2 (de) Rutil-Einkristalle sowie Verfahren zu deren Zuchtung
DE2254615A1 (de) Erzeugung eutektischer koerper durch einachsig fortschreitende erstarrung
DD272483A1 (de) Verfahren zur zuechtung von oxidischen kristallen nach der czochralski-methode
DE1519869B1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Faserstruktur in einem Koerper aus einer halbleitenden Verbindung
DE1246683B (de) Verfahren zur Herstellung eines langgestreckten, dendritischen Halbleiterkoerpers
DD275709A5 (de) Schale zur bewehrung eines quarztiegels
DE69909544T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Einkristalls mittels Czochralski-Verfahren
DE3785638T2 (de) Verfahren zur Züchtung von Kristallen aus Halbleiterverbindungen.
DE68912686T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer Halbleiter-Verbindung.
DE10207284A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines hochdotierten Einkristalls aus Silicium
DE112004001269T5 (de) InP-Einkristall, GaAs-Einkristall und Verfahren zu deren Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
RPI Change in the person, name or address of the patentee (searches according to art. 11 and 12 extension act)
ENJ Ceased due to non-payment of renewal fee