CN221242731U - 地刷组件、清洁装置、以及清洁*** - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种地刷组件、清洁装置、以及清洁***，该地刷组件包括地刷本体、高压喷液结构以及光线发射装置，高压喷液结构设于所述地刷本体，所述高压喷液结构包括喷头，所述喷头倾斜朝下设置，以在待清洁面形成喷射区域，光线发射装置设于所述地刷本体，所述光线发射装置倾斜朝下发射光束，发射的光束射在待清洁面的光照区域；其中，所述喷头的喷液方向朝向所述光照区域。

Description

地刷组件、清洁装置、以及清洁***

技术领域

本实用新型属于清洁装置技术领域，具体涉及一种地刷组件、清洁装置、以及清洁***。

背景技术

随着科技的发展，人们生活水平的提高，清洁设备也越来越多地应用于各个领域，例如清洁设备(扫地机器人、洗地机等等)等等，将人们从繁杂的清洁工作中释放出来，既能保持家居、办公等环境的洁净，又能让人们享有更多的空闲时间，而被人们所青睐。

以洗地机为例进行说明，洗地机是一种用于清洗地面的设备，洗地机的工作原理通常是清水箱向滚刷提供清水，滚刷持续转动对地面进行清洗，在清洗的同时通过主风机将地面的污水吸入洗地机内的污水箱内，从而完成清洗过程。

然而现有技术中的洗地机，清洁能力不足，特别是对于顽固污渍(例如粘在地上的米粒、风干的番茄酱、酱油等顽固污渍效果差)难以清理的问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种地刷组件、清洁装置、以及清洁***，以解决现有技术中的洗地机，清洁能力不足，特别是对于顽固污渍难以清理的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种地刷组件，该地刷组件包括：

地刷本体；

高压喷液结构，设于所述地刷本体，所述高压喷液结构包括喷头，所述喷头倾斜朝下设置，以在待清洁面形成喷射区域；以及，

光线发射装置，设于所述地刷本体，所述光线发射装置倾斜朝下发射光束，发射的光束射在待清洁面的光照区域；

其中，所述喷头的喷液方向朝向所述光照区域。

优选地，在所述地刷组件中，所述喷射区域完全覆盖住所述光照区域；或者，

所述喷射区域至少部分覆盖住所述光照区域；或者，

所述喷射区域与所述光照区域在所述待清洁面上间距预设距离。

优选地，在所述地刷组件中，所述高压喷液结构还包括设于所述地刷本体的水泵，所述水泵与所述喷头连接。

优选地，在所述地刷组件中，所述水泵邻近所述喷头设置。

优选地，在所述地刷组件中，所述喷头与所述激光发射装置固定在一起，以限制所述喷头与所述激光发射装置发生相对移动，所述喷头的喷液方向与所述激光发射装置发射的激光束的方向相同。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种清洁装置，该清洁装置包括：

机身；以及，

如上述的地刷组件，所述地刷组件与所述机身连接。

优选地，在所述清洁装置中，所述清洁装置还包括开关结构，所述开关结构分别与所述高压喷液结构、光线发射装置连接，用于分别控制所述高压喷液结构、光线发射装置的开闭。

优选地，在所述清洁装置中，所述开关结构包括：

底座结构，安装在所述机身；

按键结构，具有露设于机身外的上表面以及与所述上表面相反的下表面，所述上表面设有第一按压部，所述下表面与所述底座结构弹性抵接设置，且具有与所述底座结构分离的断开位置以及与所述底座结构抵接的连接位置；

其中，所述下表面在所述断开位置时，所述高压喷液结构关闭；在所述述下表面在所述连接位置时，所述高压喷液结构开启；和/或，

所述开关结构还包括第二按压部，第二按压部与所述光线发射装置电性连接。

优选地，在所述清洁装置中，所述开关结构还包括弹簧，所述弹簧设于所述底座结构和所述按键结构之间。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种清洁***，包括上述清洁装置。

本实用新型提供的技术方案，具有以下优点：

本实用新型通过使用高压喷液结构喷射高压液体，可以对需要清洗的区域强力清洗，同时考虑到高压喷液结构喷射的高压液体的喷射区域会比较小而不容易对准，设置光线发射装置，结合光线发射装置对准需要清洗的区域，如此解决了清理顽固污渍难以清理的问题的同时，使冲洗水流便于瞄准。

进一步地，在使用时，先通过光线发射装置发射光束到待清洁面的光照区域，待确定光照区域即为需要清洗的区域时，开启高压喷液结构对准需要清洗的区域进行冲洗，由于喷头的喷液方向朝向所述光照区域，如此，高压喷液结构可以准确对准待清洁面上需要清洗的区域，并进行强力清洗，解决现有技术中的洗地机，清洁能力不足，特别是对于顽固污渍难以清理的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的清洁装置的示意图；

图2为图1中地刷组件一实施例的示意图；

图3为图1中开关结构一实施例的示意图；

图4为图1中开关结构另一实施例的示意图；

图5为本实用新型提供的清洁装置的控制方法在第一实施方式的流程图；

图6为本实用新型提供的清洁装置的控制方法在第二实施方式的流程图；

图7为清洁装置一实施例的示意图。

本实用新型的附图标记如下：

序号	名称	序号	名称
				100	清洁装置	32	按键结构
1	地刷组件	321	上表面
				11	地刷本体	322	下表面
12	滚刷	33	弹簧
				2	高压喷液结构	4	电池包
21	喷头	5	负压产生装置
				22	水泵	6	污水箱
3	开关结构	7	光线发射装置
				31	底座结构	8	机身

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

本实用新型实施例中术语“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

需要说明的是，本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。

本实用新型实施例中术语“多个”是指两个或两个以上，其它量词与之类似。

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型的各实施例进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本实用新型各实施例中，为了使读者更好地理解本实用新型而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施例的种种变化和修改，也可以实现本实用新型所要求保护的技术方案。以下各个实施例的划分是为了描述方便，不应对本实用新型的具体实现方式构成任何限定，各个实施例在不矛盾的前提下可以相互结合相互引用。

清洁设备以洗地机为例，现有技术中的洗地机，清洁能力不足，特别是对于顽固污渍(例如粘在地上的米粒、风干的番茄酱、酱油等顽固污渍效果差)难以清理，若采用高压冲洗水流对顽固污渍进行冲洗，虽然可以有效去除顽固污渍，但是高压冲洗水流受限受到体积和功率限制，同时为了保证冲击力，水流面积较小，难以瞄准。

对此，本实用新型提供一种地刷组件，请参阅图1和图2，该地刷组件1包括地刷本体11、高压喷液结构2以及光线发射装置7，高压喷液结构2设于所述地刷本体11，所述高压喷液结构2包括喷头21，所述喷头21倾斜朝下设置，以在待清洁面形成喷射区域，光线发射装置7设于所述地刷本体11，所述光线发射装置7倾斜朝下发射光束，发射的光束射在待清洁面的光照区域；其中，所述喷头21的喷液方向朝向所述光照区域。

另外，需要说明的是，光线发射装置7并不局限设于地刷本体11上，还可以是设置在清洁装置的机身8、手柄等，在此不一一列举。

在使用时，先通过光线发射装置7发射光束到待清洁面的光照区域，待确定光照区域即为需要清洗的区域时，开启高压喷液结构2对准需要清洗的区域进行冲洗，所述喷头21的喷液方向朝向所述光照区域，如此，高压喷液结构2可以准确对准待清洁面上需要清洗的区域，并进行强力清洗。

需要说明的是，所述喷射区域可以是完全覆盖住所述光照区域；也可以是所述喷射区域至少部分覆盖住所述光照区域；还可以是所述喷射区域与所述光照区域在所述待清洁面上间距预设距离。其中，预设距离可以根据需求进行设定。

本实用新型通过使用高压喷液结构2喷射高压液体，可以对需要清洗的区域强力清洗，同时考虑到高压喷液结构2喷射的高压液体的喷射区域会比较小而不容易对准，设置光线发射装置7，结合光线发射装置7对准需要清洗的区域，如此解决了清理顽固污渍难以清理的问题的同时，使冲洗水流便于瞄准。

其中，喷头21的喷液方向可以是与光线发射装置7发射的光束的方向相同，也可以是不同，只要所述喷头21的喷液方向朝向所述光照区域，如此光线发射装置7发射的光束射在待清洁面的光照区域，与喷头21的喷液在待清洁面形成喷射区域的位置大致相同即可。在本实施例中，所述喷头21的喷液方向与所述光线发射装置7发射的光束的方向相同，如此喷头21的喷液方向瞄准的更为准确，便于安装控制，此时可以将所述喷头21与所述光线发射装置7固定在一起，以限制所述喷头21与所述光线发射装置7发生相对移动，避免转动后光线发射装置7发射的光束射在待清洁面的光照区域无法与喷头21的喷液在待清洁面形成喷射区域的位置大致相同的情况发生。在其他实施例中，所述喷液的喷液方向与所述光线发射装置7发射的光束的方向呈预设夹角设置，此时喷液的喷液方向与所述光线发射装置7发射的光束分别倾斜朝下并在光照区域大致汇聚即可。预设夹角可以是60°或者其他夹角，具体根据光线发射装置7与高压喷液结构2的喷头21之间的间距以及高度(相对于待清洁面的高度)进行设置。

需要说明的是，高压喷液结构2的压力通常指的是压力≥2bar，具体设置高压喷液结构2的压力值的大小可以根据作业环境而定，例如对于污渍较难清洗的工厂的地面，高压喷液结构2的压力往往比家庭地面时的压力大一些。高压喷液结构2的压力还可以是根据污渍类型、污渍清洗的难以程度进行调节。对于难清洗的污渍，需要设置的压力往往大于较易清洗的污渍需要的清洗压力。更具体地，所述高压喷液结构2还包括设于所述地刷本体11的水泵22，所述水泵22与所述喷头21连接，且邻近所述喷头21设置，如此可以减少损耗。

本实用新型还提供一种清洁装置，请参阅图1和图2，该清洁装置100包括机身8、以及上述地刷组件1，所述地刷组件1与所述机身8连接。

需要说明的是，该清洁装置100的实施例包括上述地刷组件1的实施例，上述地刷组件1的有益效果也同样适用于该清洁装置100。

清洁装置100可以为洗地机、拖地机或者扫拖一体机等等，在此不一一举例。机身8上还设有清水箱、污水箱6、电池包4、负压产生装置5(例如主风机)等等，地刷本体11上还设有滚刷12等等，在此不一一详述。

为了便于说明，以清洁装置100为洗地机为例进行说明，但并不表示清洁装置100仅限于洗地机。

洗地机包括两个滚刷12、以及驱动电机，驱动电机驱动两个滚刷12旋转，清水箱的水通过清水水路向两个滚刷12供水，两个滚刷12由驱动电机驱动旋转，在清洗时，负压产生装置5将清洁地面的污水通过污水水路吸入洗地机内的污水箱6内，从而完成清洗过程。

为了便于控制，所述清洁装置100还包括开关结构3，所述开关结构3分别与所述高压喷液结构2、光线发射装置7连接，用于分别控制所述高压喷液结构2、光线发射装置7的开闭。在需要清洁污渍(特别是顽固污渍)时，开启光线发射装置7，光线发射装置7发射光束，通过光束对准污渍，再开启高压喷液结构2对污渍进行强力冲洗，达到清洁顽固污渍的效果。

开关结构3的设置形式有多种，可以是控制光线发射装置7的开关与控制高压喷液结构2的开关分别设置，也可以是设置在一起，请参阅图3和图4，在本实施例中，为了便于用户操作，可以是将控制光线发射装置7的开关与控制高压喷液结构2的开关设置在一起，具体地，所述开关结构3包括底座结构31、以及按键结构32，底座结构31安装在所述机身8，按键结构32具有露设于机身8外的上表面321以及与所述上表面321相反的下表面322，所述上表面321设有第一按压部，所述下表面322与所述底座结构31弹性抵接设置，且具有与所述底座结构31分离的断开位置以及与所述底座结构31抵接的连接位置；其中，请参阅图3，所述下表面322在所述断开位置时，所述高压喷液结构2关闭；请参阅图4，在所述述下表面322在所述连接位置时，所述高压喷液结构2开启。所述开关结构3还包括第二按压部，第二按压部与所述光线发射装置7电性连接。在本实施例中，第一按压部和第二按压部可以为设置在一起，也可以是设置为同一结构；还可以是第一按压部和第二按压部分开设置，各自独立按压控制。其中，第二按压部可以是触摸式按键，也可以是按压式按键，在此不做具体限制。

在需要清洁污渍(特别是顽固污渍)时，用户手指按压第二按压部，光线发射装置7开启并发射光束，待瞄准后，用户可以继续按下第一按压部，使按键结构32的下表面322与底座结构31接触到达连接位置时高压喷液结构2开启，如此便于用户操作。下表面322与所述底座结构31弹性抵接设置可以通过下表面322与所述底座结构31设置有弹性件，还可以是所述开关结构3还包括弹簧33，所述弹簧33设于所述底座结构31和所述按键结构32之间。在用户按压第一按压部至与底座结构31接触时，弹簧33处于压缩状态；在用户松开第一按压部时，第一按压部在弹簧33的弹性复位力的作用下弹性复位，此时第一按压部与底座结构31分开，高压喷液结构2关闭。

当然，光线发射装置7与高压喷液结构2的控制还可以是自动化控制，例如检测到有顽固污渍时，触发光线发射装置7发射光束，在检测到光线发射装置7发射的光束的光照区域与污渍的区域重合时，控制开启高压喷液结构2。其中，检测顽固污渍、以及光线发射装置7发射的光束的光照区域与污渍的区域是否重合，均可以是采用常规的图像处理技术即可，在此不再详述。

本实用新型提供一种清洁***，该清洁***包括上述清洁装置100。该清洁***的实施例包括上述清洁装置100的实施例，上述清洁装置100的有益效果也同样适用于该清洁***。

清洁***还可以包括清洁基站或者用于充电的底座等等，在此不做具体限制。

本实用新型提供一种上述清洁装置的控制方法，该清洁装置100包括上述实施例的结构，上述实施例的有益效果也可以应用于本实施例。

下面对本实用新型第一实施方式的清洁装置100的控制方法的实现细节进行说明，以下内容仅为方便理解而提供的实现细节，并非实施本方案的必须。

本实施方式的具体流程如图5所示，具体包括：

步骤S210，响应于清洁指令，控制光线发射装置7对准待清洁污渍；

应该理解的是，本实用新型提供的清洁装置100的控制方法的执行主体为清洁装置，清洁装置可以但不限于为洗地机、洗拖一体机等等。清洁指令可以是用户输入的清洁指令(例如用户按下顽固污渍清洁的相应按钮或触屏等等)，也可以是清洁装置100在清洁过程中检测到顽固污渍时发送的清洁指令。控制光线发射装置7对准待清洁污渍，可以通过图像识别技术来判断光线发射装置7发射的光束在待清洁面的光照区域是否到达待清洁污渍对应的区域，假设未到达，则控制清洁装置100旋转或者光线发射装置7旋转，直至光线发射装置7发射的光束在待清洁面的光照区域到达待清洁污渍对应的区域。

步骤S220，当所述光线发射装置7对准待清洁污渍，控制高压喷液结构2喷液。

应该理解的是，由于发射的光束射在待清洁面的光照区域和喷液结构的喷射区域的位置大致相同，如此，当所述光线发射装置7对准待清洁污渍时，高压喷液结构2喷液的方向也对准了需要清洗的区域，可以进行强力清洗。

本实用新型先控制光线发射装置7发射光束到待清洁面的光照区域到达待清洁污渍，待光束到待清洁面的光照区域到达待清洁污渍时，高压喷液结构2喷液的方向也对准了需要清洗的区域，此时开启高压喷液结构2对准需要清洗的区域进行冲洗，如此，高压喷液结构2可以准确对准待清洁面上需要清洗的区域，并进行强力清洗污渍，可以有效去除顽固污渍。

另外，地刷本体11包括壳体以及滚刷12，所述滚刷12可转动地安装在所述壳体；所述清洁装置100包括设于所述机身8和/或地刷本体11上的负压产生装置5，所述负压产生装置5用于吸取滚刷12上的脏污；

相应地，所述步骤S220之后，所述控制方法包括：

步骤S230，控制增大负压产生装置5的功率以及滚刷12的转速。

应该理解的是，在冲洗时，通过增大负压产生装置5的功率以及滚刷12的转速可以加大污渍清理能力。其中负压产生装置5的功率的增大可以相较正常使用时负压产生装置5的功率值加上一预设功率值，例如正常使用时负压产生装置5的功率值为90W，控制增大负压产生装置5的功率时增大到120W；同样地，滚刷12的转速的增大可以相较正常使用时滚刷12的转速值加上一预设转速值，例如正常使用时滚刷12的转速值为450r/min，控制增大滚刷12的转速时增大到600r/min。

如图6所示，第二实施方式涉及的清洁装置100的控制方法，所述步骤S220之前，所述步骤S210之后，所述控制方法包括：

步骤S231，获取当前待清洁污渍的脏污度；

应该理解的是，获取当前待清洁污渍的脏污度可以是根据图像识别技术获取，还可以是通过脏污传感器进行检测获取，其中脏污传感器可以是设置在清洁装置100回收污水的管道，例如以清洁装置100为洗地机为例，脏污传感器设置在洗地机的吸口与污水箱6之间的管道。

相应地，所述步骤S220包括：

步骤S221，当所述光线发射装置7对准待清洁污渍，根据当前待清洁污渍的脏污度，确定高压喷液结构2的工作参数，所述工作参数包括水流大小和/或喷射时长；

应该理解的是，当前待清洁污渍越大，对应需要高压喷液结构2喷射的水流大小越大越好，或者喷射时长越长越好。工作参数的设置也可以根据不同脏污类型来匹配对应的水流大小和喷射时长。例如常规顽固污渍可能仅仅需要加大喷射时长即可，对于一些特殊污渍(例如比较容易残留或者粘度高的)则需要既加大水流大小，甚至加长喷射时长。

步骤S222，根据确定的水流大小和/或喷射时长，控制高压喷液结构2喷液。

为了实现上述目的，本实用新型还提供一种清洁***，如图7所示，该清洁***包括至少一个处理器301；以及，与所述至少一个处理器301通信连接的存储器302；其中，所述存储器302存储有可被所述至少一个处理器301执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器301执行，以使所述至少一个处理器301能够执行上述的清洁装置的控制方法。

其中，存储器302和处理器301采用总线方式连接，总线可以包括任意数量的互联的总线和桥，总线将一个或多个处理器301和存储器302的各种电路连接在一起。总线还可以将诸如***设备、稳压器和功率管理电路等之类的各种其他电路连接在一起，这些都是本领域所公知的，因此，本文不再对其进行进一步描述。总线接口在总线和收发机之间提供接口。收发机可以是一个元件，也可以是多个元件，比如多个接收器和发送器，提供用于在传输介质上与各种其他装置通信的单元。经处理器301处理的数据通过天线在无线介质上进行传输，进一步，天线还接收数据并将数据传送给处理器301。

处理器301负责管理总线和通常的处理，还可以提供各种功能，包括定时，***接口，电压调节、电源管理以及其他控制功能。而存储器302可以被用于存储处理器301在执行操作时所使用的数据。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述的清洁装置的控制方法。

即，本领域技术人员可以理解，实现上述实施方式方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一个设备(可以是单片机，芯片等)或处理器(processor)执行本申请各个实施方式所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM，Read-On ly Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，可以做出其它不同形式的变化或变动，都应当属于本实用新型保护的范围。

Claims (10)

1.一种地刷组件，其特征在于，包括：

地刷本体；

高压喷液结构，设于所述地刷本体，所述高压喷液结构包括喷头，所述喷头倾斜朝下设置，以在待清洁面形成喷射区域；以及，

光线发射装置，设于所述地刷本体，所述光线发射装置倾斜朝下发射光束，发射的光束射在待清洁面的光照区域；

其中，所述喷头的喷液方向朝向所述光照区域。

2.如权利要求1所述的地刷组件，其特征在于，所述喷射区域完全覆盖住所述光照区域；或者，

所述喷射区域至少部分覆盖住所述光照区域；或者，

所述喷射区域与所述光照区域在所述待清洁面上间距预设距离。

3.如权利要求1所述的地刷组件，其特征在于，所述高压喷液结构还包括设于所述地刷本体的水泵，所述水泵与所述喷头连接。

4.如权利要求3所述的地刷组件，其特征在于，所述水泵邻近所述喷头设置。

5.如权利要求1所述的地刷组件，其特征在于，所述喷头与激光发射装置固定在一起，以限制所述喷头与所述激光发射装置发生相对移动，所述喷头的喷液方向与所述激光发射装置发射的激光束的方向相同。

6.一种清洁装置，其特征在于，包括：

机身；以及，

如权利要求1至5任意一项所述的地刷组件，所述地刷组件与所述机身连接。

7.如权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括开关结构，所述开关结构分别与所述高压喷液结构、光线发射装置连接，用于分别控制所述高压喷液结构、光线发射装置的开闭。

8.如权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，所述开关结构包括：

底座结构，安装在所述机身；

按键结构，具有露设于机身外的上表面以及与所述上表面相反的下表面，所述上表面设有第一按压部，所述下表面与所述底座结构弹性抵接设置，且具有与所述底座结构分离的断开位置以及与所述底座结构抵接的连接位置；

其中，所述下表面在所述断开位置时，所述高压喷液结构关闭；在所述下表面在所述连接位置时，所述高压喷液结构开启；和/或，

所述开关结构还包括第二按压部，第二按压部与所述光线发射装置电性连接。

9.如权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述开关结构还包括弹簧，所述弹簧设于所述底座结构和所述按键结构之间。

10.一种清洁***，其特征在于，包括如权利要求6至9任意一项所述的清洁装置。