CN221159661U - 一种陶瓷部件的平面磨削装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种陶瓷部件的平面磨削装置，包括机架，机架的下端设有工作台，工作台上设有磨削台，磨削台上开设有若干真空吸附孔，工作台内设有与真空吸附孔连通的真空腔，工作台的一侧设有真空发生器，真空腔与真空发生器连接，磨削台上固定设有一环形的橡胶垫圈，若干真空吸附孔位于橡胶垫圈内侧，磨削台的上方设有打磨盘，打磨盘转动安装于支撑架上并且通过第一旋转电机驱动转动，支撑架安装于移动架上竖向滑动且通过升降机构驱动滑动，移动架通过X向移动机构以及Y向移动机构安装在机架上，机架上还安装有朝向磨削台的喷水管，由于橡胶垫圈的阻挡，积水不会进入到橡胶垫圈的内侧而流入真空吸附空中，保持了真空吸附孔内的干燥。

Description

一种陶瓷部件的平面磨削装置

技术领域

本实用新型涉及陶瓷部件加工技术领域，具体涉及到一种陶瓷部件的平面磨削装置。

背景技术

现有技术中氧化铝陶瓷圆盘是将成型后的素坯经过烧结制得，烧结完成后的圆盘需要对其的平面进行磨削加工，现有的磨削装置，是将圆盘放在操作台上，通过真空吸附使其固定，然后用打磨盘对其平面进行来回打磨，由于需要避免打磨出的粉尘在圆盘的表面堆积，因此通常在打磨的过程中需要利用到喷水管喷水对圆盘的表面进行冲洗。在上述的方式中，由于操作台上会有积水，将打磨后的圆盘移开之后，积水容易进入到真空吸附空中，难以进行清理。

实用新型内容

为了解决上述现有技术中的不足之处，本实用新型提出一种陶瓷部件的平面磨削装置。

为了实现上述技术效果，本实用新型采用如下方案：

一种陶瓷部件的平面磨削装置，包括机架，所述机架的下端固定设有工作台，所述工作台上设有磨削台，所述磨削台的上表面水平设置，所述磨削台上开设有若干真空吸附孔，所述工作台内设有真空腔，所述真空吸附孔与真空腔密闭连通，所述工作台的一侧设有真空发生器，所述真空腔与真空发生器连接，所述磨削台上固定设有一环形的橡胶垫圈，若干真空吸附孔位于橡胶垫圈内侧，所述磨削台的上方设有打磨盘，所述打磨盘转动安装于支撑架上并且通过第一旋转电机驱动转动，所述支撑架安装于移动架上竖向滑动且通过升降机构驱动滑动，所述移动架通过X向移动机构以及Y向移动机构安装在机架上，所述机架上还安装有朝向磨削台的喷水管。

优选的技术方案，所述工作台上设有一向下凹陷的凹槽，所述磨削台固定设于凹槽底部的中心处，所述凹槽的底部倾斜设置，所述凹槽底部高度最低的位置设有排水口，所述排水口连接排水管。

优选的技术方案，所述升降机构包括升降气缸以及竖直导轨，所述竖直导轨竖向安装于移动架的一侧，所述支撑架的一侧配合滑动安装于竖直导轨上，所述升降气缸竖直安装于移动架上，所述升降气缸的伸缩杆朝下与支撑架固定连接。

优选的技术方案，所述X向移动机构包括水平安装于机架上的横向导轨，所述移动架配合安装于横向导轨上滑动，所述移动架上沿着其长度方向贯穿设有横向丝孔，所述横向丝孔内穿设有一横向丝杆，所述横向丝杆的两端转动安装于横向导轨上，所述横向丝杆的一端连接第二旋转电机的输出轴，所述横向导轨的两端分别通过一Y向移动机构滑动安装于机架上，所述Y向机构包括水平设于机架上的纵向导轨，所述横向导轨的端部配合安装于纵向导轨上滑动，所述纵向导轨上沿着其长度方向贯穿设有一纵向丝孔，所述纵向丝孔内穿设有一条纵向丝杆，所述纵向丝杆的两端转动安装于纵向导轨上，所述纵向丝杆的一端连接第三旋转电机的输出轴。

优选的技术方案，所述真空发生器为真空泵。

与现有技术相比，有益效果为：

本实用新型结构简单，使用方便，通过在磨削台上设置环形的橡胶垫圈，真空吸附孔位于橡胶垫圈内侧，将需要打磨的圆盘放置在橡胶垫圈的上端经过打磨盘进行打磨，喷淋的水从圆盘的边沿流下到橡胶垫圈的外侧，因此将圆盘取下之后，由于橡胶垫圈的阻挡，积水不会进入到橡胶垫圈的内侧而流入真空吸附空中，保持了真空吸附孔内的干燥。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

附图标记：1、机架；2、工作台；3、凹槽；4、磨削台；5、真空吸附孔；6、真空腔；7、真空发生器；8、橡胶垫圈；9、打磨盘；10、支撑架；11、第一旋转电机；12、竖直导轨；13、升降气缸；14、横向导轨；15、横向丝杆；16、第二旋转电机；17、纵向导轨；18、纵向丝孔；19、喷水管；20、排水管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

一种陶瓷部件的平面磨削装置，包括机架1，所述机架1的下端固定设有工作台2，所述工作台2上设有磨削台4，圆盘形的陶瓷部件放置在磨削台4上进行磨削，所述磨削台4的上表面水平设置，所述磨削台4上开设有若干真空吸附孔5，所述工作台2内设有真空腔6，所述真空吸附孔5与真空腔6密闭连通，所述工作台2的一侧设有真空发生器7，所述真空腔6与真空发生器7连接，所述磨削台4上固定设有一环形的橡胶垫圈8，若干真空吸附孔5位于橡胶垫圈8内侧，将需要打磨的圆盘形陶瓷部件放置在橡胶垫圈8上盖住橡胶垫圈8，启动真空发生器7在橡胶垫圈8内形成负压腔，从而将陶瓷部件固定在橡胶垫圈8上端；

所述磨削台4的上方设有打磨盘9，所述打磨盘9转动安装于支撑架10上并且通过第一旋转电机11驱动转动，所述支撑架10安装于移动架上竖向滑动且通过升降机构驱动滑动，支撑架10带动打磨盘9下降与陶瓷部件的表面接触进行打磨，所述移动架通过X向移动机构以及Y向移动机构安装在机架1上，X向移动机构以及Y向移动机构带动打磨盘9在陶瓷部件的表面进行来回移动，所述机架1上还安装有朝向磨削台4的喷水管19，喷水管19喷水，将陶瓷部件表面磨削出的粉尘冲洗掉。

通过在磨削台4上设置环形的橡胶垫圈8，真空吸附孔5位于橡胶垫圈8内侧，将需要打磨的圆盘放置在橡胶垫圈8的上端经过打磨盘9进行打磨，喷淋的水从圆盘的边沿流下到橡胶垫圈8的外侧，因此将圆盘取下之后，由于橡胶垫圈8的阻挡，积水不会进入到橡胶垫圈8的内侧而流入真空吸附空中，保持了真空吸附孔5内的干燥。

优选的技术方案，所述工作台2上设有一向下凹陷的凹槽3，所述磨削台4固定设于凹槽3底部的中心处，所述凹槽3的底部倾斜设置，所述凹槽3底部高度最低的位置设有排水口，所述排水口连接排水管20。

冲洗后的废水在凹槽3内并集聚在位置最低处，便于排水口排水。

优选的技术方案，所述升降机构包括升降气缸13以及竖直导轨12，所述竖直导轨12竖向安装于移动架的一侧，所述支撑架10的一侧配合滑动安装于竖直导轨12上，所述升降气缸13竖直安装于移动架上，所述升降气缸13的伸缩杆朝下与支撑架10固定连接。

优选的技术方案，所述X向移动机构包括水平安装于机架1上的横向导轨14，所述移动架配合安装于横向导轨14上滑动，所述移动架上沿着其长度方向贯穿设有横向丝孔，所述横向丝孔内穿设有一横向丝杆15，所述横向丝杆15的两端转动安装于横向导轨14上，所述横向丝杆15的一端连接第二旋转电机16的输出轴，所述横向导轨14的两端分别通过一Y向移动机构滑动安装于机架1上，所述Y向机构包括水平设于机架1上的纵向导轨17，所述横向导轨14的端部配合安装于纵向导轨17上滑动，所述纵向导轨17上沿着其长度方向贯穿设有一纵向丝孔18，所述纵向丝孔18内穿设有一条纵向丝杆，所述纵向丝杆的两端转动安装于纵向导轨17上，所述纵向丝杆的一端连接第三旋转电机的输出轴。

优选的技术方案，所述真空发生器7为真空泵。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

Claims (5)

1.一种陶瓷部件的平面磨削装置，其特征在于，包括机架(1)，所述机架(1)的下端固定设有工作台(2)，所述工作台(2)上设有磨削台(4)，所述磨削台(4)的上表面水平设置，所述磨削台(4)上开设有若干真空吸附孔(5)，所述工作台(2)内设有真空腔(6)，所述真空吸附孔(5)与真空腔(6)密闭连通，所述工作台(2)的一侧设有真空发生器(7)，所述真空腔(6)与真空发生器(7)连接，所述磨削台(4)上固定设有一环形的橡胶垫圈(8)，若干真空吸附孔(5)位于橡胶垫圈(8)内侧，所述磨削台(4)的上方设有打磨盘(9)，所述打磨盘(9)转动安装于支撑架(10)上并且通过第一旋转电机(11)驱动转动，所述支撑架(10)安装于移动架上竖向滑动且通过升降机构驱动滑动，所述移动架通过X向移动机构以及Y向移动机构安装在机架(1)上。

2.如权利要求1所述的陶瓷部件的平面磨削装置，其特征在于，所述工作台(2)上设有一向下凹陷的凹槽(3)，所述磨削台(4)固定设于凹槽(3)底部的中心处，所述凹槽(3)的底部倾斜设置，所述凹槽(3)底部高度最低的位置设有排水口，所述排水口连接排水管(20)。

3.如权利要求1所述的陶瓷部件的平面磨削装置，其特征在于，所述升降机构包括升降气缸(13)以及竖直导轨(12)，所述竖直导轨(12)竖向安装于移动架的一侧，所述支撑架(10)的一侧配合滑动安装于竖直导轨(12)上，所述升降气缸(13)竖直安装于移动架上，所述升降气缸(13)的伸缩杆朝下与支撑架(10)固定连接。

4.如权利要求1所述的陶瓷部件的平面磨削装置，其特征在于，所述X向移动机构包括水平安装于机架(1)上的横向导轨(14)，所述移动架配合安装于横向导轨(14)上滑动，所述移动架上沿着其长度方向贯穿设有横向丝孔，所述横向丝孔内穿设有一横向丝杆(15)，所述横向丝杆(15)的两端转动安装于横向导轨(14)上，所述横向丝杆(15)的一端连接第二旋转电机(16)的输出轴，所述横向导轨(14)的两端分别通过一Y向移动机构滑动安装于机架(1)上，所述Y向机构包括水平设于机架(1)上的纵向导轨(17)，所述横向导轨(14)的端部配合安装于纵向导轨(17)上滑动，所述纵向导轨(17)上沿着其长度方向贯穿设有一纵向丝孔(18)，所述纵向丝孔(18)内穿设有一条纵向丝杆，所述纵向丝杆的两端转动安装于纵向导轨(17)上，所述纵向丝杆的一端连接第三旋转电机的输出轴。

5.如权利要求1所述的陶瓷部件的平面磨削装置，其特征在于，所述真空发生器(7)为真空泵。