CN218365991U - 一种硅胶成型一次硫化烤炉 - Google Patents

Abstract

本实用新型为一种硅胶成型一次硫化烤炉，包括机架，安装于机架上的输送装置、加热装置和鼓风装置，所述机架左右横向设置，所述机架的上端横跨有炉壁，所述炉壁和机架构成硫化空间，所述输送装置包括传送带和传送电机，所述传送带位于机架和炉壁之间并与传送电机相连接，传送电机传动传送带将待一次硫化的硅胶从机架的右端经硫化空间传送至机架的左端；所述加热装置包括加热管，所述加热管前后设置于硫化空间中，包括两组，分别设置于传送带的上下两端；所述鼓风装置安装于炉壁的上端右侧，包括鼓风机，所述鼓风机用于向硫化空间内鼓风。本实用新型结构简单、控温稳定、输送稳定性高、硫化效果好、实用性强。

Description

一种硅胶成型一次硫化烤炉

技术领域

本实用新型涉及硅胶硫化技术领域，具体涉及一种硅胶成型一次硫化烤炉。

背景技术

除热塑性硅胶外，天然橡胶和合成硅橡胶制品是需要使用硫化剂来硫化，硅橡胶制品之所以需要硫化，是因为硅橡胶经过硫化后才有较高的应用价值，力学性能大大提高，具有不变粘，不易断裂，弹性大，耐高温，抗拉强度大，在有机溶剂中不溶于水等特点。

硅橡胶硫化分两个阶段：第一阶段分为生胶、补强剂、添加剂、硫化剂和结构控制剂进行原材料混炼，得到硅橡胶原材料，将原料调配为半成材料，此过程是使得硅胶压延后发泡成型；第二阶段在将材料与成品材质放入五金模压之中受热模压，挤出，挤压，注射等工艺，以机台受力以及产品催化固话，硅橡胶制品经过模压高温成型，此过程是定型的作用。

一次硫化是一个连续的生产过程，硫化效果很大程度上取决于硫化炉内部温度控制以及输送装置控制胶料的速度，目前市场上的硫化炉硫化空间温度控制不稳定且成本较高，且输送装置输送不平稳，导致不良品率较高，是本领域技术人员亟待解决的问题。

综上，市场亟需一种控温稳定、输送稳定性高、硫化效果好、实用性强的硅胶成型一次硫化烤炉。

实用新型内容

为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种解决现有技术中硫化炉硫化空间温度控制不稳定且成本较高，输送装置输送不平稳，导致不良品率较高等缺陷，且结构简单、控温稳定、输送稳定性高、硫化效果好、实用性强的硅胶成型一次硫化烤炉。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅胶成型一次硫化烤炉，包括机架，安装于机架上的输送装置、加热装置和鼓风装置，所述机架左右横向设置，所述机架的上端横跨有炉壁，所述炉壁和机架构成硫化空间，所述输送装置包括传送带和传送电机，所述传送带位于机架和炉壁之间并与传送电机相连接，传送电机传动传送带将待一次硫化的硅胶从机架的右端经硫化空间传送至机架的左端；所述加热装置包括加热管，所述加热管前后设置于硫化空间中，包括两组，分别设置于传送带的上下两端，用于对传送带上待一次硫化的硅胶加热；所述鼓风装置安装于炉壁的上端右侧，包括鼓风机，所述鼓风机用于向硫化空间内鼓风，以使硫化空间内受热均匀，加速硅胶硫化成型。

作为本技术方案的进一步阐述：

优选地，所述输送装置还包括传送转轴，所述传送转轴包括位于机架右端前后设置的第一传送转轴和位于机架左端前后设置的第二传送转轴，第一传送转轴和第二传送转轴均可相对于机架转动，所述传送带水平环绕于第一传送转轴和第二传送转轴的外周，所述传送电机安装于机架的左端，与第二传送转轴相连接，并传动第二传送转轴转动带动传送带承载和传送待一次硫化的硅胶从机架的右端输送至机架的左端。

优选地，两组所述加热管均包括10根～20根，多根加热管前后均匀分布于传送带上下两端的硫化空间内，对硫化空间进行加热，加热区间为常温至150℃。

优选地，所述鼓风装置还包括排气口，所述排气口呈向上延伸的锥形，起到对硫化空间进行自然排气，又防止灰尘进入硫化空间内的作用。

优选地，所述炉壁包括位于外层的烤漆冷板层，位于内层的不锈钢板层，以及位于外层和内层之间的保温棉层，所述炉壁包括1节～15节，所述输送装置的传送带从多节炉壁的右端延伸至左端，所述加热装置和鼓风装置均与多节炉壁相匹配。

优选地，所述炉壁内周的宽度为1200mm～1400mm，炉壁外周的宽度为1400mm～1600mm，炉壁的高度为400mm～500mm，所述传送带离地的高度为1100mm～1200mm，所述炉壁右端至传送带右端末侧的长度为450mm～550mm，所述炉壁左端至传送带左端末侧的长度为650mm～750mm。

优选地，所述炉壁内周的宽度为1220mm～1380mm，炉壁外周的宽度为1430mm～1570mm，炉壁的高度为410mm～490mm，所述传送带离地的高度为1130mm～1180mm，所述炉壁右端至传送带右端末侧的长度为460mm～530mm，所述炉壁左端至传送带左端末侧的长度为670mm～730mm。

优选地，每节炉壁下端机架的下端的四周均设有万向轮和伸缩支撑脚，所述万向轮用于对机架进行移动，所述伸缩支撑脚用于向上伸缩以方便机架移动或向下伸缩以支撑固定机架。

优选地，还包括控制装置，所述控制装置分别与输送装置、加热装置和鼓风装置电性连接，并控制其运转。

优选地，所述传送带为铁氟龙传送带。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

其一、本实用新型包括机架，安装于机架上的输送装置、加热装置和鼓风装置，所述机架的上端横跨有炉壁，所述炉壁和机架构成硫化空间，所述输送装置包括传送带和传送电机，所述传送带位于机架和炉壁之间并与传送电机相连接，传送电机传动传送带将待一次硫化的硅胶从机架的右端经硫化空间传送至机架的左端，输送装置还包括传送转轴，所述传送转轴包括位于机架右端前后设置的第一传送转轴和位于机架左端前后设置的第二传送转轴，第一传送转轴和第二传送转轴均可相对于机架转动，所述传送带水平环绕于第一传送转轴和第二传送转轴的外周，所述传送电机安装于机架的左端，与第二传送转轴相连接，并传动第二传送转轴转动带动传送带承载和传送待一次硫化的硅胶从机架的右端输送至机架的左端，传送带为铁氟龙传送带，以上设计保证了输送过程平稳，且输送稳定性高，保证硫化效果好。

其二、本实用新型加热装置包括加热管，所述加热管前后设置于硫化空间中，包括两组，分别设置于传送带的上下两端，用于对传送带上待一次硫化的硅胶加热，两组所述加热管均包括10根～20根，多根加热管前后均匀分布于传送带上下两端的硫化空间内，对硫化空间进行加热，加热区间为常温至150℃，加热管均匀设置保证加热均匀，且温度可控，保证硫化空间温度控制稳定。

其三、本实用新型鼓风装置安装于炉壁的上端右侧，包括鼓风机，所述鼓风机用于向硫化空间内鼓风，以使硫化空间内受热均匀，加速硅胶硫化成型，鼓风装置还包括排气口，所述排气口呈向上延伸的锥形，起到对硫化空间进行自然排气，又防止灰尘进入硫化空间内的作用，此种设计保证硫化空间内受热均匀，硫化空间温度控制稳定性进一步得到提高。

其四、本实用新型炉壁包括位于外层的烤漆冷板层，位于内层的不锈钢板层，以及位于外层和内层之间的保温棉层，具有较好的保温效果，保证了温度可控，所述炉壁包括1节～15节，所述输送装置的传送带从多节炉壁的右端延伸至左端，所述加热装置和鼓风装置均与多节炉壁相匹配，硫化时间过程可调，适合不同的硅胶制品一次硫化，实用性强，其整体上解决现有技术中硫化炉硫化空间温度控制不稳定且成本较高，输送装置输送不平稳，导致不良品率较高等缺陷，且结构简单、控温稳定、输送稳定性高、硫化效果好、实用性强。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型整体结构前视示意图；

图2为本实用新型整体结构俯视示意图；

图3为本实用新型整体结构左视示意图;

图4为图1中A部分的放大结构示意图。

图中：1、机架；2、炉壁；3、传送带；4、传送电机；5、加热管；6、鼓风机；7、第一传送转轴；8、第二传送转轴；9、排气口；10、保温棉层；11、万向轮；12、伸缩支撑脚；13、控制装置。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1～图4所示，本实用新型为一种硅胶成型一次硫化烤炉，包括机架1，安装于机架1上的输送装置、加热装置和鼓风装置，所述机架1左右横向设置，所述机架1的上端横跨有炉壁2，所述炉壁2和机架1构成硫化空间，所述输送装置包括传送带3和传送电机4，所述传送带3位于机架1和炉壁2之间并与传送电机4相连接，传送电机4传动传送带3将待一次硫化的硅胶从机架1的右端经硫化空间传送至机架1的左端；所述加热装置包括加热管5，所述加热管5前后设置于硫化空间中，包括两组，分别设置于传送带3的上下两端，用于对传送带3上待一次硫化的硅胶加热；所述鼓风装置安装于炉壁2的上端右侧，包括鼓风机6，所述鼓风机6用于向硫化空间内鼓风，以使硫化空间内受热均匀，加速硅胶硫化成型。

如图1、图4所示，所述输送装置还包括传送转轴，所述传送转轴包括位于机架1右端前后设置的第一传送转轴7和位于机架1左端前后设置的第二传送转轴8，第一传送转轴7和第二传送转轴8均可相对于机架1转动，所述传送带3水平环绕于第一传送转轴7和第二传送转轴8的外周，所述传送电机4安装于机架1的左端，与第二传送转轴8相连接，并传动第二传送转轴8转动带动传送带3承载和传送待一次硫化的硅胶从机架1的右端输送至机架1的左端，本实施例中，所述传送带3为铁氟龙传送带3。

如图1、图4所示，两组所述加热管5均包括10根～20根，多根加热管5前后均匀分布于传送带3上下两端的硫化空间内，对硫化空间进行加热，加热区间为常温至150℃。本实施例中，两组所述加热管5均包括15根，硫化空间的使用温度为50℃～80℃。

如图1～图2、图4所示，所述鼓风装置还包括排气口9，所述排气口9呈向上延伸的锥形，起到对硫化空间进行自然排气，又防止灰尘进入硫化空间内的作用。

如图3所示，所述炉壁2包括位于外层的烤漆冷板层，位于内层的不锈钢板层，以及位于外层和内层之间的保温棉层10，所述炉壁2包括1节～15节，所述输送装置的传送带3从多节炉壁2的右端延伸至左端，所述加热装置和鼓风装置均与多节炉壁2相匹配。本实施例中，炉壁2包括10节。

进一步地，所述炉壁2内周的宽度为1200mm～1400mm，炉壁2外周的宽度为1400mm～1600mm，炉壁2的高度为400mm～500mm，所述传送带3离地的高度为1100mm～1200mm，所述炉壁2右端至传送带3右端末侧的长度为450mm～550mm，所述炉壁2左端至传送带3左端末侧的长度为650mm～750mm。优选地，所述炉壁2内周的宽度为1220mm～1380mm，炉壁2外周的宽度为1430mm～1570mm，炉壁2的高度为410mm～490mm，所述传送带3离地的高度为1130mm～1180mm，所述炉壁2右端至传送带3右端末侧的长度为460mm～530mm，所述炉壁2左端至传送带3左端末侧的长度为670mm～730mm。本实施例中，所述炉壁2内周的宽度为1300mm，炉壁2外周的宽度为1500mm，炉壁2的高度为450mm，所述传送带3离地的高度为1150mm，所述炉壁2右端至传送带3右端末侧的长度为500mm，所述炉壁2左端至传送带3左端末侧的长度为700mm。

如图1、图3～图4所示，每节炉壁2下端机架1的下端的四周均设有万向轮11和伸缩支撑脚12，所述万向轮11用于对机架1进行移动，所述伸缩支撑脚12用于向上伸缩以方便机架1移动或向下伸缩以支撑固定机架1。

如图2所示，还包括控制装置13，所述控制装置13分别与输送装置、加热装置和鼓风装置电性连接，并控制其运转。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：包括机架，安装于机架上的输送装置、加热装置和鼓风装置，所述机架左右横向设置，所述机架的上端横跨有炉壁，所述炉壁和机架构成硫化空间，所述输送装置包括传送带和传送电机，所述传送带位于机架和炉壁之间并与传送电机相连接，传送电机传动传送带将待一次硫化的硅胶从机架的右端经硫化空间传送至机架的左端；所述加热装置包括加热管，所述加热管前后设置于硫化空间中，包括两组，分别设置于传送带的上下两端，用于对传送带上待一次硫化的硅胶加热；所述鼓风装置安装于炉壁的上端右侧，包括鼓风机，所述鼓风机用于向硫化空间内鼓风，以使硫化空间内受热均匀，加速硅胶硫化成型。

2.根据权利要求1所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：所述输送装置还包括传送转轴，所述传送转轴包括位于机架右端前后设置的第一传送转轴和位于机架左端前后设置的第二传送转轴，第一传送转轴和第二传送转轴均可相对于机架转动，所述传送带水平环绕于第一传送转轴和第二传送转轴的外周，所述传送电机安装于机架的左端，与第二传送转轴相连接，并传动第二传送转轴转动带动传送带承载和传送待一次硫化的硅胶从机架的右端输送至机架的左端。

3.根据权利要求2所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：两组所述加热管均包括10根～20根，多根加热管前后均匀分布于传送带上下两端的硫化空间内，对硫化空间进行加热，加热区间为常温至150℃。

4.根据权利要求3所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：所述鼓风装置还包括排气口，所述排气口呈向上延伸的锥形，起到对硫化空间进行自然排气，又防止灰尘进入硫化空间内的作用。

5.根据权利要求4所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：所述炉壁包括位于外层的烤漆冷板层，位于内层的不锈钢板层，以及位于外层和内层之间的保温棉层，所述炉壁包括1节～15节，所述输送装置的传送带从多节炉壁的右端延伸至左端，所述加热装置和鼓风装置均与多节炉壁相匹配。

6.根据权利要求5所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：所述炉壁内周的宽度为1200mm～1400mm，炉壁外周的宽度为1400mm～1600mm，炉壁的高度为400mm～500mm，所述传送带离地的高度为1100mm～1200mm，所述炉壁右端至传送带右端末侧的长度为450mm～550mm，所述炉壁左端至传送带左端末侧的长度为650mm～750mm。

7.根据权利要求6所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：所述炉壁内周的宽度为1220mm～1380mm，炉壁外周的宽度为1430mm～1570mm，炉壁的高度为410mm～490mm，所述传送带离地的高度为1130mm～1180mm，所述炉壁右端至传送带右端末侧的长度为460mm～530mm，所述炉壁左端至传送带左端末侧的长度为670mm～730mm。

8.根据权利要求7所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：每节炉壁下端机架的下端的四周均设有万向轮和伸缩支撑脚，所述万向轮用于对机架进行移动，所述伸缩支撑脚用于向上伸缩以方便机架移动或向下伸缩以支撑固定机架。

9.根据权利要求8所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：还包括控制装置，所述控制装置分别与输送装置、加热装置和鼓风装置电性连接，并控制其运转。

10.根据权利要求1～9任意一项所述的硅胶成型一次硫化烤炉，其特征在于：所述传送带为铁氟龙传送带。

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