CN214725126U - 一种薄砖施釉*** - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及瓷砖施釉技术领域，尤其涉及一种薄砖施釉***，其包括传送设备和至少两组施釉烘干模块，传送设备形成薄砖传送路径，每组施釉烘干模块均包括沿薄砖传送路径前后设置的滚釉设备和烘干箱，在薄砖传送路径上，至少两组施釉烘干模块依次排列。实用新型所提供的薄砖施釉***，能够在保证施釉量的同时，又能避免水分过渡渗入薄砖而影响后续工序或成品质量。

Description

一种薄砖施釉***

技术领域

本实用新型涉及瓷砖施釉技术领域，尤其涉及一种薄砖施釉***。

背景技术

瓷砖施釉是指把釉料施到瓷砖的表面，一般包括施放釉料和烘干固化等工序。

目前，常规的施釉方法有浸釉、荡釉、喷釉和压釉等，经过长期的发展，上述的施釉方法也已较为成熟。不过，随着瓷砖制造技术的不断发展以及对瓷砖质量要求的不断提高，现有的施釉方法仍有改善的必要。

如对于目前市面上的厚度为3mm-9mm的薄砖的施釉，使用常规的施釉方法进行施釉的话，施釉质量达不到要求，很多情况下是因为薄砖较薄，釉料厚度比例较高，釉料里面的水分过多渗入到薄砖内，薄砖内的水分超标，导致影响后续的工序或最后得到的薄砖质量达不到要求。

为此，需要针对现有技术中存在的问题提出改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种薄砖施釉***，旨在解决现有技术中对薄砖施釉时容易出现水分超标的问题。

为了达到上述的目的，本实用新型提供了一种薄砖施釉***，其包括传送设备和至少两组施釉烘干模块，所述传送设备形成薄砖传送路径，每组所述施釉烘干模块均包括沿所述薄砖传送路径前后设置的滚釉设备和烘干箱，在所述薄砖传送路径上，所述至少两组施釉烘干模块依次排列。

进一步地，所述滚釉设备和烘干箱均架设在所述传送设备之上。

进一步地，所述薄砖施釉***还包括烘干传送装置、加热装置和抽湿风装置，所述烘干箱设置有连通其内腔的入口和出口，所述烘干传送装置设置在所述烘干箱内，所述烘干传送装置的传送路径从所述入口向所述出口延伸，所述加热装置设置在所述烘干传送装置的上方，所述抽湿风装置设置在所述烘干箱内。

进一步地，所述烘干传送装置包括多条辊轴，所述烘干箱的两侧的侧壁均设置有通孔，所述辊轴穿过所述通孔，所述辊轴的伸出所述烘干箱的第一端与动力源连接，所述辊轴的伸出所述烘干箱的另一端被支撑轮承托，所述支撑轮可转动地安装在所述烘干箱。

进一步地，还包括热风循环管道，所述热风循环管道的两端分别连通所述烘干箱的顶部和底部，所述热风循环管道上连接有风机。

进一步地，所述烘干箱的底部设置有排气孔，所述排气孔的上方设置有集气罩，所述集气罩设置有开口，所述开口朝向所述烘干箱的入口或出口，所述集气罩内设置有导气板。

进一步地，所述导气板包括中板和两块侧板，所述两块侧板对称设置在所述中板的两侧，所述两块侧板分别与所述中板连接并与所述中板形成夹角，所述中板与两块侧板的连接点位于所述排气孔的上方。

本实用新型所提供的一种薄砖施釉***，相比于现有技术，其通过辊筒涂釉的方式进行施釉，基于辊筒涂釉的方式，每次涂釉的厚度可以控制得较薄，且薄于常规的施釉方法，较薄的釉料能够减少釉料中的水分渗入到薄砖内，在进行完每一次涂釉后均会进行烘干工序，这样能使该次涂釉的釉料先被烘干，先被烘干的釉料也能够阻隔后续涂上的釉料的水分进入到薄砖内，以此使最终进入薄砖的水分达标；在进行完一次施釉后，再进行下一次，根据施釉量的要求，把常规的施釉方法一次施釉的量分成两次以上，经过叠加，使最终的釉层厚度达到要求；因此，使用该种薄砖施釉***对薄砖进行施釉，能够在保证施釉量的同时，又能避免水分过渡渗入薄砖而影响后续工序或成品质量。

附图说明

图1是本实用新型的薄砖施釉***的实施例1的结构示意图；

图2是在烘干箱上安装有传送装置、加热装置和热风循环管道时的结构示意图；

图3是集气罩的结构示意图；

图4是导气板的结构示意图。

【附图标记说明】

1-传送设备；

2-滚釉设备；

3-烘干箱、32-烘干传送装置、33-加热装置、341-集气罩、342-排气孔、343-导气板、3431-中板、3432-侧板；

4-热风循环管道、41-风机、42-排气管道、43-调节阀。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本实用新型作详细说明。

在本实用新型中，当出现方位词时，对于方位词，是为了便于叙述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作，不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。在本实用新型中，除另有明确规定和限定，当出现术语如“设置在”、“相连”、“连接”时，这些术语应作广义去理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；也可以是机械连接；可以是直接相连，也可以是通过中间媒介相连，可以是两个元件内部相连通。对于本领域技术人员而言，可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。

薄砖施釉***实施例1

本实施例提供了一种薄砖施釉***，如图1所示，其包括传送设备1和至少两组施釉烘干模块，传送设备1形成薄砖传送路径，每组施釉烘干模块均包括沿薄砖传送路径前后设置的滚釉设备2和烘干箱3，在薄砖传送路径上，至少两组施釉烘干模块依次排列。

本申请中所指的薄砖的厚度为3mm-9mm。

本实施例中所提及的滚釉设备2和烘干箱3为现有技术，滚釉设备2可采用现有技术中能够实现把流体状的涂料涂在板材上的辊轴涂料设备即可实现，在本申请中不再赘述。

本实用新型所提供的薄砖施釉***，瓷砖被传送设备1传送，在传送的过程中，瓷砖依次进行辊筒施釉、烘干、辊筒施釉、烘干的工序。在实际使用时，可以根据生产需要加长该薄砖施釉***，也即配置两组或更多组的施釉烘干模块，以实现更多次的辊筒施釉和烘干工序，适应不同的生产需求。

在本实施例中，滚釉设备2和烘干箱3均架设在所述传送设备1之上。在同一组施釉烘干模块内，滚釉设备2和烘干箱3共用一条传送带，能够使得整个***结构紧凑，且制造成本较低。优选地，传送设备1包括至少两条传送带，在相邻的传送带之间的下方均设置有接料斗。通过设置接料斗来接住下漏的釉料，使生产环境更加整洁。

在实际使用中，烘干箱3内可以设置有热源，用于对烘干箱3内的空气进行加热，也可以通过外接热风传送管道使外部的热风输送到烘干箱内，以对薄砖进行烘干。优选地，在烘干箱3内还设置有抽湿风装置，用于降低烘干箱3内的空气湿度。优选地，在烘干箱3内还设置有使热风在烘干箱3内循环运动的热风循环装置。上述方案均落入本实用新型的保护范围之内。

薄砖施釉***实施例2

在本实施例中，除了烘干箱3的结构不同于薄砖施釉***实施例1以外，其他同薄砖施釉***实施例1。在本实施例中，如图2至图4所示，薄砖施釉***还包括烘干传送装置32和加热装置33，烘干箱3设置有连通其内腔的入口和出口，烘干传送装置32设置在烘干箱3内，烘干传送装置32的传送路径从入口向出口延伸，加热装置33设置在烘干传送装置32的上方。优选地，加热装置33为天然气红外加热管。通过上述的结构，实现对瓷砖在烘干箱3内的边传送边烘干。

在本实施例中，烘干传送装置32包括多条辊轴，烘干箱3的两侧的侧壁均设置有通孔，辊轴穿过通孔，辊轴的伸出烘干箱3的第一端与动力源连接，辊轴的伸出烘干箱3的另一端被支撑轮承托，支撑轮可转动地安装在烘干箱3。通过上述的结构，采用辊轴进行传送的话使用寿命较长，且辊轴间的间隙能够实现通风，使热风在烘干箱3内的流通更顺畅。另外，使辊轴的两端都设置在烘干箱3外，与辊轴的两端连接的传动机构和承托轮均设置在烘干箱3外，能够增加传动机构和承托轮的使用寿命。

在本实施例中，还包括热风循环管道4，热风循环管道4的两端分别连通烘干箱3的顶部和底部，热风循环管道4上连接有风机41。通过设置热风循环管道4，使烘干箱3内的热气能够循环利用，并且使烘干箱3内的热气均匀分布，提高烘干质量。优选地，热风循环管道4还连通有排气管道42，排气管道42设置有调节阀43。通过设置排气管道42，并配置调节阀43，可以适当排出部分烘干箱内热气并为烘干箱3内注入新的空气，以降低烘干箱3内空气的湿度。

在本实施例中，烘干箱3的底部设置有排气孔342，排气孔342的上方设置有集气罩341，集气罩341设置有开口，开口朝向烘干箱3的入口或出口，集气罩341内设置有导气板343。优选地，导气板343包括中板3431和两块侧板3432，两块侧板3432对称设置在中板3431的两侧，两块侧板3432分别与中板3431连接并与中板3431形成夹角，中板3431与两块侧板3432的连接点位于排气孔342的上方。通过设置集气罩341和在集气罩341内设置上述结构的导气板343，能够让烘干箱3内更大范围的热气被吸进入口，且被吸入的效果更均匀，使烘干箱3内的更大比例的空气参与循环，提高烘干质量。

薄砖施釉方法

本实用新型提供了一种薄砖施釉方法，该种薄砖施釉方法包括对薄砖进行两次以上施釉，每次施釉均包括前后进行的辊筒施釉工序和烘干工序，辊筒施釉工序采用辊筒涂釉的方式进行施釉。

本实用新型所提供的薄砖施釉方法，其通过辊筒涂釉的方式进行施釉，基于辊筒涂釉的方式，每次涂釉的厚度可以控制得较薄，且薄于常规的施釉方法，较薄的釉料能够减少釉料中的水分渗入到薄砖内，在进行完每一次涂釉后均会进行烘干工序，这样能使该次涂釉的釉料先被烘干，先被烘干的釉料也能够阻隔后续涂上的釉料的水分进入到薄砖内，以此使最终进入薄砖的水分达标；在进行完一次施釉后，再进行下一次，根据施釉量的要求，把常规的施釉方法一次施釉的量分成两次以上，经过叠加，使最终的釉层厚度达到要求。

优选地，在后一次的施釉量大于或等于在先一次的施釉量，在后一次的烘干温度高于或等于在先一次的烘干温度，在后一次的烘干时间短于或等于在先一次的烘干时间。由于有第一次施釉的釉层对瓷砖的保护作用，因此后续的施釉工序中可以增加施釉量，同时为了提高生产效率，可对应提高烘干温度及缩短烘干时间。当然，每次施釉的参数部分一致、都一致、依次减少或依次增加，也是可以的。在本实用新型的方法原理指导下，技术人员可根据实际生产情况调节上述参数。

优选地，采用热风烘干或热红外烘干的方式进行烘干，在烘干的过程中对烘干箱内的空气进行除湿处理。

薄砖施釉方法实施例1

在本实施例中，共进行两次施釉，每次施釉均采用以下参数：施釉量为5g/m²，烘干温度为60℃，烘干时薄砖的传送速度为32m/min，烘干长度为1.6m。在相邻的两次施釉之间，设置有冷却工序，在冷却工序中，薄砖的温度降至40℃。该实施例适用厚度为3-5mm的特薄的砖。

薄砖施釉方法实施例2

在本实施例中，共进行三次施釉，第一次施釉量为10g/m²，烘干温度为80℃，烘干时薄砖的传送速度为10m/min，烘干长度为2.5m；第二次施釉量为12g/m²，烘干温度为100℃，烘干长度为2.5m；第三施釉量为12g/m²，烘干温度为120℃，烘干长度为2.5m。在相邻的两次施釉之间，设置有冷却工序，在冷却工序中，薄砖的温度降至60℃。该实施例适用中度厚度的薄砖，适用厚度为4-7mm。

薄砖施釉方法实施例3

在本实施例中，共进行三次施釉，第一次施釉量为25g/m²，烘干温度为120℃，烘干时薄砖的传送速度为30m/min，烘干长度为3.5m；第二次施釉量为25g/m²，烘干温度为120℃，烘干长度为3.5m；第三施釉量为30g/m²，烘干温度为120℃，烘干长度为3.5m。在相邻的两次施釉之间，设置有冷却工序，在冷却工序中，薄砖的温度降至80℃。该实施例适用较大厚度的薄砖，适用厚度为6-9mm。

综上，本实用新型所提供的薄砖施釉***及基于该***的薄砖施釉方法，能够在保证施釉量的同时，又能避免水分过渡渗入薄砖而影响后续工序或成品质量。

在不冲突的情况下，上述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

Claims (7)

1.一种薄砖施釉***，其特征在于：包括传送设备和至少两组施釉烘干模块，所述传送设备形成薄砖传送路径，每组所述施釉烘干模块均包括沿所述薄砖传送路径前后设置的滚釉设备和烘干箱，在所述薄砖传送路径上，所述至少两组施釉烘干模块依次排列。

2.根据权利要求1所述的薄砖施釉***，其特征在于：所述滚釉设备和烘干箱均架设在所述传送设备之上。

3.根据权利要求1所述的薄砖施釉***，其特征在于：所述薄砖施釉***还包括烘干传送装置、加热装置和抽湿风装置，所述烘干箱设置有连通其内腔的入口和出口，所述烘干传送装置设置在所述烘干箱内，所述烘干传送装置的传送路径从所述入口向所述出口延伸，所述加热装置设置在所述烘干传送装置的上方，所述抽湿风装置设置在所述烘干箱内。

4.根据权利要求3所述的薄砖施釉***，其特征在于：所述烘干传送装置包括多条辊轴，所述烘干箱的两侧的侧壁均设置有通孔，所述辊轴穿过所述通孔，所述辊轴的伸出所述烘干箱的第一端与动力源连接，所述辊轴的伸出所述烘干箱的另一端被支撑轮承托，所述支撑轮可转动地安装在所述烘干箱。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的薄砖施釉***，其特征在于：还包括热风循环管道，所述热风循环管道的两端分别连通所述烘干箱的顶部和底部，所述热风循环管道上连接有风机。

6.根据权利要求5所述的薄砖施釉***，其特征在于：所述烘干箱的底部设置有排气孔，所述排气孔的上方设置有集气罩，所述集气罩设置有开口，所述开口朝向所述烘干箱的入口或出口，所述集气罩内设置有导气板。

7.根据权利要求6所述的薄砖施釉***，其特征在于：所述导气板包括中板和两块侧板，所述两块侧板对称设置在所述中板的两侧，所述两块侧板分别与所述中板连接并与所述中板形成夹角，所述中板与两块侧板的连接点位于所述排气孔的上方。

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