CN213925074U - 一种除油清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种除油清洗装置，包括清洗线，所述清洗线包括两条平行设置的喷流主管道，所述喷流主管道之间预留有供电镀基板通过的清洗通道，在每个所述喷流主管道上间隔设置有多个喷杆，所述喷杆上设置有朝向清洗通道方向设置的喷嘴，在所述清洗通道的两侧均设置有导条支架，在每侧的导条支架上设置有多根导条，两侧导条支架上的导条位置对应设置形成导条导向通道，所述电镀基板从导条导向通道中经过。本实用新型对电镀基板的两侧同时清洗，在清洗过程中，通过导条导向通道对电镀基板起到导向限定的作用，防止电镀基板在喷嘴喷射力的作用下左右搬动，防止电镀基板在除油清洗的过程中刮伤。
Description
技术领域
本实用新型涉及电镀设备领域，具体涉及一种除油清洗装置
背景技术
电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。
电镀基板在生产完成后，为了防止其表面氧化，都需要在其表面进行涂油保存，在实际使用时，需要将表面的油清洗干净，现有的除油清洗装置，采用清洗槽，在清洗槽的两侧设置高压喷头，电镀基板经过清洗槽，对其进行清洗，但是高压喷头喷射的过程中会推动电镀基板移动，容易将电镀基板刮伤，并且因高压喷头的距离主管道的位置不同，其喷射出的水量也不同，造成电镀基板清洗不均匀。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种除油清洗装置，通过导条对电镀基板进行导向，使电镀基板稳定的从清洗通道中通过，实现对电镀基板两面的快速除油清洗。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种除油清洗装置，包括清洗线，所述清洗线包括两条平行设置的喷流主管道，所述喷流主管道之间预留有供电镀基板通过的清洗通道，在每个所述喷流主管道上间隔设置有多个喷杆，所述喷杆上设置有朝向清洗通道方向设置的喷嘴，在所述清洗通道的两侧均设置有导条支架，在每侧的导条支架上设置有多根导条，两侧导条支架上的导条位置对应设置形成导条导向通道，所述电镀基板从导条导向通道中经过。
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括沿所述清洗通道间隔设置有多个导条支架，所述导条固定在相邻两个导条支架之间，沿清洗通道设置有多根分段的导条。
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述导条倾斜设置，所述导条沿电镀基板移动的方向，从上向下倾斜设置。
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述导条的两端向外弯折形成八字形开口。
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述导条导向通道的宽度大于电镀基板厚度0.5～1.0mm。
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述导条支架上还设置有挡水板。
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述喷流主管道下方设置有进水孔，所述进水口通过导管与水泵连通。
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述喷杆上靠近进水口处的喷嘴间隔设置，所述喷杆上远离进水口处的喷嘴紧密靠近设置。
本实用新型的有益效果：
本实用新型在平行设置两条喷流主管道的之间预留清洗通道，使电镀基板通过清洗通道时，对电镀基板的两侧同时清洗，并且在清洗通道中设置有导条支架固定的导条，形成导条导向通道，使电镀基板从导条导向通道中经过，在清洗过程中，导条导向通道对电镀基板起到导向限定的作用，防止电镀基板在喷嘴喷射力的作用下左右搬动，防止电镀基板在除油清洗的过程中刮伤。
附图说明
图1是本实用新型的除油清洗装置的整体结构示意图；
图2是本实用新型的除油清洗装置的侧面结构示意图。
图中标号说明：1、喷流主管道；2、清洗通道；3、喷杆；4、喷嘴；5、导条支架；6、导条；7、导条导向通道；8、八字形开口；9、挡水板；10、进水孔。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本实用新型并能予以实施，但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
参照图1所示，本实用新型的除油清洗装置的一实施例，包括清洗线，所述清洗线包括两条平行设置的喷流主管道1，所述喷流主管道1之间预留有供电镀基板通过的清洗通道2，在每个所述喷流主管道1上间隔设置有多个喷杆3，所述喷杆3上设置有朝向清洗通道方向设置的喷嘴4，当电镀基板从清洗通道2经过时，两侧的喷嘴4同时向电镀基板上喷射清洗液，对电镀基板的两侧同时清洗；在所述清洗通道2的两侧均设置有导条支架5，在每侧的导条支架5上设置有多根导条6，两侧导条支架5上的导条6位置对应设置形成导条导向通道7，所述导条导向通道7的宽度不宜过大，所述导条导向通道7的宽度大于电镀基板厚度0.5～1.0mm，保证电镀基板能够从导条导向通道7通过的同时，防止电镀基板过渡的左右摆动；所述电镀基板从导条导向通道7中经过，导条导向通道7对电镀基板起到导向限定的作用，防止电镀基板在喷嘴喷射力的作用下左右搬动，防止电镀基板在除油清洗的过程中刮伤。
本实施例中，沿所述清洗通道2间隔设置有多个导条支架5，所述导条6固定在相邻两个导条支架5之间，沿清洗通道设置有多根分段的导条6，导条6分段设置，当导条6损坏时，方便拆卸维修。
本实施例中，所述导条6的两端向外弯折形成八字形开口8，通过八字形开口8引导电镀基板进入到导条导向通道7中，由于导条6由切割制成，在导条6的端部容易形成毛刺，将导条6的两端向外弯折防止毛刺对电镀基板造成刮伤。
具体地，所述导条支架5上还设置有挡水板9，所述挡水板9设置在导条支架5外侧，并向外延伸设置，防止清洗水流从侧面流出清洗线。
参照图2所示，所述导条6倾斜设置，所述导条6沿电镀基板移动的方向，从上向下倾斜设置，电镀基板在长期存放的时候，容易出现边缘打卷的情况，所述导条6倾斜设置，在电镀基板的移动过程中，能够对＝打卷处进行整形处理，将打卷处碾平。
具体地，所述喷流主管道1下方设置有进水孔10，所述进水口10通过导管与水泵连通，水泵通过导管向进水口10处供水，由于喷杆3上的喷嘴4距离喷流主管道1的远近不同，所以不同位置的喷嘴4喷出的水流量也不相同，喷杆3上靠近进水口10处的喷嘴4喷出的水多，远离进水口10处的喷嘴4喷出的水流较小，因此设置所述喷杆3上靠近进水口10处的喷嘴4间隔设置，所述喷杆3上远离进水口10处的喷嘴4紧密靠近设置，本实施例中，所述喷流主管道1设置在喷杆3下方，所以位于喷杆3上方的喷嘴4紧密设置，相邻两个喷嘴4之间没有间隙，位于喷杆3下方的喷嘴4间隔设置，这样通过不规则的喷嘴4设置，保证对电镀基板上下位置上的清洗状态相同。
以上所述实施例仅是为充分说明本实用新型而所举的较佳的实施例，本实用新型的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本实用新型基础上所作的等同替代或变换，均在本实用新型的保护范围之内。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。
Claims (8)
1.一种除油清洗装置，包括清洗线，其特征在于，所述清洗线包括两条平行设置的喷流主管道，所述喷流主管道之间预留有供电镀基板通过的清洗通道，在每个所述喷流主管道上间隔设置有多个喷杆，所述喷杆上设置有朝向清洗通道方向设置的喷嘴，在所述清洗通道的两侧均设置有导条支架，在每侧的导条支架上设置有多根导条，两侧导条支架上的导条位置对应设置形成导条导向通道，所述电镀基板从导条导向通道中经过。
2.如权利要求1所述的除油清洗装置，其特征在于，沿所述清洗通道间隔设置有多个导条支架，所述导条固定在相邻两个导条支架之间，沿清洗通道设置有多根分段的导条。
3.如权利要求1所述的除油清洗装置，其特征在于，所述导条倾斜设置，所述导条沿电镀基板移动的方向，从上向下倾斜设置。
4.如权利要求1所述的除油清洗装置，其特征在于，所述导条的两端向外弯折形成八字形开口。
5.如权利要求1所述的除油清洗装置，其特征在于，所述导条导向通道的宽度大于电镀基板厚度0.5～1.0mm。
6.如权利要求1所述的除油清洗装置，其特征在于，所述导条支架上还设置有挡水板。
7.如权利要求1所述的除油清洗装置，其特征在于，所述喷流主管道下方设置有进水孔，所述进水孔通过导管与水泵连通。
8.如权利要求7所述的除油清洗装置，其特征在于，所述喷杆上靠近进水口处的喷嘴间隔设置，所述喷杆上远离进水口处的喷嘴紧密靠近设置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202022727856.2U CN213925074U (zh) | 2020-11-23 | 2020-11-23 | 一种除油清洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN213925074U true CN213925074U (zh) | 2021-08-10 |
Family
ID=77171602
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202022727856.2U Active CN213925074U (zh) | 2020-11-23 | 2020-11-23 | 一种除油清洗装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN213925074U (zh) |
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2020
- 2020-11-23 CN CN202022727856.2U patent/CN213925074U/zh active Active
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