CN212451694U - 一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,涉及电镀装置领域;包括放料卷、收料卷以及镀液池,放料卷和收料卷分别位于多个镀液池的两侧;镀液池内设置有第一镀液池入液导电辊、第一镀液池入液压辊、第二镀液池入液导电辊、第二镀液池入液压辊、上钛篮以及下钛篮,第一镀液池入液压辊贴在第一镀液池入液导电辊上,第二镀液池入液压辊贴在第二镀液池入液导电辊上,上钛篮和下钛篮沿竖直方向并排,薄膜基材在镀液池内的行进路线为直线;本实用新型的有益效果是:薄膜基材在镀液池内沿直线行进,不易出现褶皱或变形,提高了导电薄膜产品的良品率。
Description
技术领域
本实用新型涉及电镀装置领域,更具体的说,本实用新型涉及一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备。
背景技术
随着现代工业技术的发展,柔性薄膜基材表面镀膜需求越来越大,广泛应用于高性能汽车贴膜、等离子电视平板显示、触摸屏、太阳能电池、柔性印刷线路板(FPC)、覆晶薄膜(COF)等领域。工业生产中通常使用水电镀设备对柔性薄膜基材电镀,即针对各种本体和镀层的需要,配置水镀液,使柔性薄膜基材通过水镀液在较短的时间内即可完成。现有技术中的电镀设备,通常设有多个用于供给电镀液的电镀槽,槽内部与发挥阴极功能地电镀面相对向地设置了阳极;并具有向各电镀槽供电的供电部和柔性薄膜基材的连续输送机构,通过控制每个电镀槽的通电量,可以连续地形成均匀良好的电镀膜。
然而由于现有的薄膜电镀设备在设计上的不足,使薄膜上下V形前进,走向复杂,容易导致张力控制困难、柔性薄膜易褶皱或变形等问题,从而大幅降低了导电薄膜产品的良品率,严重影响企业整体生产效率。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型提供一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,该设备使薄膜基材在镀液池内沿直线行进,不易出现褶皱或变形,提高了导电薄膜产品的良品率。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其改进之处在于:包括放料卷、收料卷以及多个并排的镀液池,所述放料卷和收料卷分别位于多个镀液池的两侧;
所述的镀液池内设置有第一镀液池入液导电辊、第一镀液池入液压辊、第二镀液池入液导电辊、第二镀液池入液压辊、上钛篮以及下钛篮,第一镀液池入液压辊贴在第一镀液池入液导电辊上,第二镀液池入液压辊贴在第二镀液池入液导电辊上,且第一镀液池入液压辊和第二镀液池入液压辊分别位于第一镀液池入液导电辊和第二镀液池入液导电辊连线的两侧;
所述的上钛篮和下钛篮沿竖直方向并排,薄膜基材依次从第一镀液池入液压辊和第一镀液池入液导电辊之间、第二镀液池入液压辊和第二镀液池入液导电辊之间以及上钛篮与下钛篮之间穿过,且薄膜基材在镀液池内的行进路线为直线。
在上述的结构中,所述上钛篮的两侧分别设置有前挡液上辊和后挡液上辊,所述下钛篮的两侧分别设置有前挡液下辊和后挡液下辊;
所述前挡液上辊贴在前挡液下辊上,后挡液上辊贴在后挡液下辊上,薄膜基材依次从前挡液上辊与前挡液下辊之间以及从后挡液上辊与后挡液下辊之间穿过。
在上述的结构中,所述的镀液池的后方设置有一水洗池,该水洗池内设置有水洗池入液上压辊、水洗池入液下压辊、水洗池出液上压辊、水洗池出液下压辊以及水洗池液下辊;
所述水洗池入液上压辊贴紧在水洗池入液下压辊表面,所述水洗池出液上压辊贴紧在水洗池出液下压辊表面,所述薄膜基材从水洗池入液上压辊和水洗池入液下压辊之间穿过,经过水洗池液下辊后,从水洗池出液上压辊和水洗池出液下压辊之间穿出。
在上述的结构中,所述的水洗池内还设置有水洗池进液管和水洗池出液管,水洗池下方设置有一纯水存储池,纯水存储池通过管道与水洗池进液管相连通。
在上述的结构中,所述的水洗池后方还设置有一抗氧化池,该抗氧化池内设置有抗氧化池入液上压辊、抗氧化池入液下压辊、抗氧化池出液上压辊、抗氧化池出液下压辊以及抗氧化池液下辊;
所述抗氧化池入液上压辊贴紧在抗氧化池入液下压辊表面,所述抗氧化池出液上压辊贴紧在抗氧化池出液下压辊表面,所述薄膜基材从抗氧化池入液上压辊与抗氧化池入液下压辊之间穿过,经过抗氧化池液下辊后,从抗氧化池出液上压辊与抗氧化池出液下压辊之间穿出。
在上述的结构中,所述的抗氧化池内还设置有抗氧化液进液管和抗氧化液出液管,抗氧化池下方设置有一抗氧化液存储池,抗氧化液存储池与抗氧化液进液管及抗氧化液出液管相连通。
在上述的结构中,所述的抗氧化池后方还设置有烘箱、展平辊以及在线测厚装置,薄膜基材依次经过抗氧化池、展平辊、烘箱以及在线测厚装置。
在上述的结构中,所述的在线测厚装置与收料卷之间设置有张力检测辊和张力摆辊,薄膜基材依次经过张力检测辊和张力摆辊,并通过收料卷对薄膜基材进行收集。
在上述的结构中,所述的镀液池下方设置有镀液存储池,镀液池内部设置有与镀液存储池相连通的冷却液喷管;所述上钛篮的两侧设置有的进液管,所述下钛篮的两侧设置回液管。
在上述的结构中,所述的放料卷与镀液池之间设置有张力摆辊、张力检测辊以及展平辊,薄膜基材依次通过张力摆辊、张力检测辊和展平辊,进入镀液池内。
本实用新型的有益效果是:薄膜基材在镀液池内平移时,其行进路线为直线,对薄膜基材的张力控制较为简单,省去了复杂的张力控制结构,柔性的薄膜基材不会出现褶皱、变形的情况,从而提高了导电薄膜产品的良品率,避免影响产品整体的生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备的具体实施例图。
图2为本实用新型的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备的镀液池的实施例图。
图3为本实用新型的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备的水洗池和抗氧化池的实施例图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述,以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然,所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例,而不是全部实施例,基于本实用新型的实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例,均属于本实用新型保护的范围。另外,专利中涉及到的所有联接/连接关系,并非单指构件直接相接,而是指可根据具体实施情况,通过添加或减少联接辅件,来组成更优的联接结构。本实用新型创造中的各个技术特征,在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
本实用新型揭示了一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,通过该设备实现对薄膜基材000的电镀,在薄膜基材000的外表面上形成导电金属层,导电金属层包括导电铜层、导电铝层、导电镍层等,可以根据实际需要进行选择和调整。参照图1、图2所示,该水电镀设备包括放料卷001、收料卷010以及多个并排的镀液池005,镀液池005的数量根据实际需要进行增减,所述放料卷001和收料卷010分别位于多个镀液池005的两侧,放料卷001上缠绕着待电镀的薄膜基材000,收料卷010则用于收集经镀液池005电镀后的薄膜基材000。如图2所示,所述的镀液池005内设置有第一镀液池入液导电辊100、第一镀液池入液压辊115、第二镀液池入液导电辊114、第二镀液池入液压辊102、上钛篮105以及下钛篮110,第一镀液池入液压辊115与第一镀液池入液导电辊100相互紧贴配合,第二镀液池入液压辊102与第二镀液池入液导电辊114相互紧贴配合,且第一镀液池入液压辊115和第二镀液池入液压辊102分别位于第一镀液池入液导电辊100和第二镀液池入液导电辊114连线的两侧;所述的上钛篮105和下钛篮110沿竖直方向并排对齐设置,薄膜基材000依次从第一镀液池入液压辊115和第一镀液池入液导电辊100之间、第二镀液池入液压辊102和第二镀液池入液导电辊114之间以及上钛篮105与下钛篮110之间穿过,且薄膜基材000在所述水电镀装置的长度方向上的行进路线约为直线。第一镀液池入液压辊115和第二镀液池入液压辊102均为橡胶弹性压辊,压辊可将薄膜基材000上粘带的镀液大部分挤出,并保证薄膜基材000与导电辊紧密接触;第一镀液池入液压辊115和第二镀液池入液压辊102的外部均包裹有一层包膜,所述包膜的材质为三元乙丙橡胶,硬度为邵氏硬度40至60,优选为45。
本实施例中,第一镀液池入液压辊115和第二镀液池入液压辊102分别位于第一镀液池入液导电辊100和第二镀液池入液导电辊114连线的两侧,通过导电辊与压辊的安装位置保证了薄膜基材000穿过第一镀液池入液导电辊100和第二镀液池入液导电辊114的包角相同,进而保证接触面积一致,提高了薄膜基材000上镀层的均匀性。同时,通过上钛篮105和下钛篮110的结构设计,薄膜基材000在镀液池005内平移时,其行进路线为直线,因此对薄膜基材000的张力控制较为简单,薄膜基材000经过所有的导电辊、过辊所经过的包角总和接近0,过辊包角为0,因而省去了复杂的张力控制结构,柔性的薄膜基材000不会出现褶皱、变形的情况,从而提高了导电薄膜产品的良品率,避免影响产品整体的生产效率。
另外,所述的放料卷001与镀液池005之间设置有张力摆辊002、张力检测辊003以及展平辊004,薄膜基材000依次通过张力摆辊002、张力检测辊003和展平辊004,然后进入镀液池005内;张力检测辊003检测对应位置的薄膜基材000的张力并反馈至控制***,控制***调节根据该反馈值调节该位置的薄膜基材000张力;在线测厚机构与控制***连接,控制***控制镀液池005的电流密度和镀液铜离子浓度。
进一步的,如图2所示,在上述的实施例中,所述上钛篮105的两侧分别设置有前挡液上辊103和后挡液上辊107,所述下钛篮110的两侧分别设置有前挡液下辊112和后挡液下辊108;所述前挡液上辊103与前挡液下辊112相互紧贴配合,后挡液上辊107与后挡液下辊108相互紧贴配合,薄膜基材000依次从前挡液上辊103与前挡液下辊112之间以及从后挡液上辊107与后挡液下辊108之间穿过。薄膜基材000依次绕过第一镀液池入液导电辊100、第二镀液池入液导电辊114、镀液池过辊113、前挡液上辊103和前挡液下辊112,从上钛篮105底部一定距离穿出后再从后挡液上辊107和后挡液下辊108之间穿出。本实施例中,可通过调节流经钛篮的镀液流量,进而调节镀液池005内的镀液浓度。前挡液上辊103与前挡液下辊112通过辊缝配合实现薄膜基材000入液位置的液体隔断,后挡液上辊107与后挡液下辊108通过辊缝配合实现薄膜基材000出液位置的液体隔断,从而实现将镀液限制在钛篮的最小区域,并保证镀液液位能够在液位调节***的控制下最高达到不低于钛篮上沿的位置,且在实现液位控制的同时最大限度缩小镀液池005的容积,减少镀液消耗。
另外,所述的镀液池005下方设置有镀液存储池011,镀液池005内部设置有与镀液存储池011相连通的冷却液喷管101;所述上钛篮105的两侧设置有的进液管104、106,进液管104、106上分布有若干喷孔,所述下钛篮110的两侧设置回液管109、111。镀液经由进液管104、106流入并经由喷孔喷出,反应后的镀液经由回液管109、111进入位于机架下方的镀液存储池011,镀液存储池011中的镀液经过隔膜泵进入过滤器,并被泵入的进液管,进而实现镀液的循环。进液管与调节电流密度的电镀电源连接,电镀电源与控制***通讯,控制***通过控制电镀电源的电流大小,进而控制镀液池005的电流密度。
镀液池005数量设计为多段,优选为12段,通过增减镀液池005数量与每段镀液池005电流密度的梯度配置实现整台酸镀设备的生产速度的设计控制。一般的,所需速度越高,镀液池005数量应越多。
如图1、图3所示,所述的镀液池005的后方设置有一水洗池006,该水洗池006内设置有水洗池入液上压辊201、水洗池入液下压辊209、水洗池出液上压辊205、水洗池出液下压辊206以及水洗池液下辊203;所述水洗池入液上压辊201贴紧在水洗池入液下压辊209表面,所述水洗池出液上压辊205贴紧在水洗池出液下压辊206表面,所述薄膜基材000从水洗池入液上压辊201和水洗池入液下压辊209之间穿过,经过水洗池液下辊203后,从水洗池出液上压辊205和水洗池出液下压辊206之间穿出;水洗池入液上压辊201与水洗池入液下压辊209通过间隙配合,对从水洗池中穿入的薄膜基材000进行切液,避免前端的镀液进入水洗池。水洗池出液上压辊205与水洗池出液下压辊206通过间隙配合,对从水洗池中穿出的薄膜基材000进行切液,同时避免纯水进入后端抗氧化池中。所述的水洗池内还设置有水洗池进液管202、204和水洗池出液管207、208,水洗池下方设置有一纯水存储池012,纯水存储池012通过管道与水洗池进液管相连通。因此,通过水洗池入液上压辊201、水洗池入液下压辊209、水洗池出液上压辊205以及水洗池出液下压辊206一起配合使得水洗池内的纯水在水洗池与纯水存储池012内循环,并不被前端的镀液池005中的镀液和后端抗氧化池中的抗氧化液相互混合。
如图1、图3所示,所述的水洗池后方还设置有一抗氧化池007,该抗氧化池007内设置有抗氧化池入液上压辊300、抗氧化池入液下压辊306、抗氧化池出液上压辊303、抗氧化池出液下压辊304以及抗氧化池液下辊301;所述抗氧化池入液上压辊300贴紧在抗氧化池入液下压辊306表面,所述抗氧化池出液上压辊303贴紧在抗氧化池出液下压辊304表面,所述薄膜基材000从抗氧化池入液上压辊300与抗氧化池入液下压辊306之间穿过,经过抗氧化池液下辊301后,从抗氧化池出液上压辊303与抗氧化池出液下压辊304之间穿出。抗氧化池入液上压辊300与抗氧化池入液下压辊306通过间隙配合对从的抗氧化池中穿入的薄膜基材000进行切液;抗氧化池出液上压辊303与抗氧化池出液下压辊304通过间隙配合,对从抗氧化池中穿出的薄膜基材000进行切液。所述的抗氧化池内还设置有抗氧化液进液管和抗氧化液储液罐,抗氧化池下方设置有一抗氧化液存储池013,抗氧化液存储池013与抗氧化液进液管相连通。通过抗氧化池入液上压辊300、抗氧化池入液下压辊306、抗氧化池出液上压辊303以及抗氧化池出液下压辊304一起配合使得抗氧化池内的抗氧化液在抗氧化池与抗氧化液存储池013内循环,并不被前端的纯水池中的纯水相互混合。另外,抗氧化池007的内部还设有抗氧化池进液管302与抗氧化池出液管305。
在上述的实施例中,所述的抗氧化池后方还设置有烘箱009、展平辊004以及在线测厚装置014,薄膜基材000依次经过抗氧化池、展平辊004、烘箱009以及在线测厚装置014。所述的在线测厚装置014与收料卷010之间设置有张力检测辊015和张力摆辊002,薄膜基材000依次经过张力检测辊015和张力摆辊002,并通过收料卷010对薄膜基材000进行收集。
本实施例中,镀液池005、水洗池以及抗氧化池均固定在单层机架上,镀液池005、水洗池、抗氧化池内的滚轮均安装在池边缘基座上。机架采用SUS304不锈钢焊接结构,镀液池005、水洗池以及抗氧化池均采用一定厚度的PVC板加工。设备内部的压辊、导电辊出液管、入液管安装基座均设计在各池两侧的PVC板上,且安装轴承采用陶瓷轴承。位于烘箱009后端的展平辊004出口处设有切边器,薄膜基材000两侧切边后端废料经过废料卷进行收卷。
以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明,但本实用新型创造并不限于所述实施例,熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换,这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (10)
1.一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:包括放料卷、收料卷以及多个并排的镀液池,所述放料卷和收料卷分别位于多个镀液池的两侧;
所述的镀液池内设置有第一镀液池入液导电辊、第一镀液池入液压辊、第二镀液池入液导电辊、第二镀液池入液压辊、上钛篮以及下钛篮,第一镀液池入液压辊与第一镀液池入液导电辊相互紧贴配合,第二镀液池入液压辊与第二镀液池入液导电辊相互紧贴配合,且第一镀液池入液压辊和第二镀液池入液压辊分别位于第一镀液池入液导电辊和第二镀液池入液导电辊连线的两侧;
所述的上钛篮和下钛篮沿竖直方向并排对应设置,薄膜基材依次从第一镀液池入液压辊和第一镀液池入液导电辊之间、第二镀液池入液压辊和第二镀液池入液导电辊之间以及上钛篮与下钛篮之间穿过,且薄膜基材在镀液池内的行进路线为直线。
2.根据权利要求1所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述上钛篮的两侧分别设置有前挡液上辊和后挡液上辊,所述下钛篮的两侧分别设置有前挡液下辊和后挡液下辊;
所述前挡液上辊与前挡液下辊相互紧贴配合,后挡液上辊与后挡液下辊相互紧贴配合,薄膜基材依次从前挡液上辊与前挡液下辊之间以及从后挡液上辊与后挡液下辊之间穿过。
3.根据权利要求1所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的镀液池的后方设置有一水洗池,该水洗池内设置有水洗池入液上压辊、水洗池入液下压辊、水洗池出液上压辊、水洗池出液下压辊以及水洗池液下辊;
所述水洗池入液上压辊贴紧在水洗池入液下压辊表面,所述水洗池出液上压辊贴紧在水洗池出液下压辊表面,所述薄膜基材从水洗池入液上压辊和水洗池入液下压辊之间穿过,经过水洗池液下辊后,从水洗池出液上压辊和水洗池出液下压辊之间穿出。
4.根据权利要求3所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的水洗池内还设置有水洗池进液管和水洗池出液管,水洗池下方设置有一纯水存储池,纯水存储池通过管道与水洗池进液管相连通。
5.根据权利要求3所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的水洗池后方还设置有一抗氧化池,该抗氧化池内设置有抗氧化池入液上压辊、抗氧化池入液下压辊、抗氧化池出液上压辊、抗氧化池出液下压辊以及抗氧化池液下辊;
所述抗氧化池入液上压辊贴紧在抗氧化池入液下压辊表面,所述抗氧化池出液上压辊贴紧在抗氧化池出液下压辊表面,所述薄膜基材从抗氧化池入液上压辊与抗氧化池入液下压辊之间穿过,经过抗氧化池液下辊后,从抗氧化池出液上压辊与抗氧化池出液下压辊之间穿出。
6.根据权利要求5所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的抗氧化池内还设置有抗氧化液进液管和抗氧化液储液罐,抗氧化池下方设置有一抗氧化液存储池,抗氧化液存储池与抗氧化液进液管相连通。
7.根据权利要求5所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的抗氧化池后方还设置有烘箱、展平辊以及在线测厚装置,薄膜基材依次经过抗氧化池、展平辊、烘箱以及在线测厚装置。
8.根据权利要求7所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的在线测厚装置与收料卷之间设置有张力检测辊和张力摆辊,薄膜基材依次经过张力检测辊和张力摆辊,并通过收料卷对薄膜基材进行收集。
9.根据权利要求1所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的镀液池下方设置有镀液存储池,镀液池内部设置有与镀液存储池相连通的冷却液喷管;所述上钛篮的两侧设置有进液管,所述下钛篮的两侧设置回液管。
10.根据权利要求1所述的一种用于柔性薄膜基材表面电镀加工的水电镀设备,其特征在于:所述的放料卷与镀液池之间设置有张力摆辊、张力检测辊以及展平辊,薄膜基材依次通过张力摆辊、张力检测辊和展平辊,进入镀液池内。
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2020
- 2020-04-30 CN CN202020715732.XU patent/CN212451694U/zh active Active
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GR01 | Patent grant | ||
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