CN212168431U - 副炉室清洁装置及副炉室清洁*** - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种副炉室清洁装置，包括：主机架，包括由底板和围设于底板四周的侧壁形成的容纳腔体，以及盖设于容纳腔体的开口端的盖板；刷盘，设置于主机架的盖板的一侧，刷盘远离主机架的顶面和与顶面相邻的侧面上设置有毛刷；移动结构，包括位于容纳腔体内的旋转部和升降部，旋转部包括旋转驱动单元和旋转轴，旋转轴的一端与驱动单元连接，另一端穿过盖板上的通孔与刷盘连接的旋转轴；升降部包括设置于主机架的侧壁上的行走电机，侧壁上设置有通孔，行走电机的外壳外露于通孔以能够与副炉室内壁接触、以带动主机架在副炉室内移动、使得毛刷对副炉室内壁进行清洁。本实用新型还涉及一种副炉室清洁***。

Description

副炉室清洁装置及副炉室清洁***

技术领域

本实用新型涉及清洁技术领域，尤其涉及一种副炉室清洁装置及副炉室清洁***。

背景技术

多晶硅是生产太阳能光伏产品和半导体产品的主要原材料。切克劳斯基(Czochralski，简称Cz)法是单晶硅最常用的制备方法之一。传统的Cz单晶炉在完成一炉多晶硅原料拉制单晶硅棒的生产后，需要为单晶硅生长***的清理做很多繁杂的工作，热场部件取出清洗、圆顶室内部清洁、热屏清洁、主炉室外表面清洁、副炉室内部清洁等工序。这些工序费时费力，提高单晶硅棒生产的总体工时，严重制约了直拉式单晶硅的生产效率。尤其是，在单晶硅生产***设备清洁的过程中，大量涉及人工操作，清洁难度较大，清洁人员数目多且效率较低。除此以外，过多的人工操作会增加企业对相关操作人员业务培训的成本，还存在损坏单晶硅生长***相关设备的风险。另一方面，随着行业的要求不断提高，单晶硅生长***越来越复杂，传统的人工操作不再能满足需求。总而言之人工操作繁杂、效率低下、存在安全隐患以及企业人员培训成本高。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种副炉室清洁装置及副炉室清洁***，解决人工清洁效率低的问题。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种副炉室清洁装置，包括：

主机架，包括由底板和围设于所述底板四周的侧壁形成的容纳腔体，以及盖设于所述容纳腔体的开口端的盖板；

刷盘，设置于所述主机架的盖板的一侧，所述刷盘远离所述主机架的顶面和与所述顶面相邻的侧面上设置有毛刷；

移动结构，包括位于所述容纳腔体内的旋转部和升降部，所述旋转部包括旋转驱动单元和旋转轴，所述旋转轴的一端与所述驱动单元连接，另一端穿过所述盖板上的通孔与所述刷盘连接；所述升降部包括设置于所述主机架的侧壁上的行走电机，所述侧壁上设置有通孔，所述行走电机的外壳外露于所述通孔以能够与副炉室内壁接触、以带动所述主机架在所述副炉室内移动、使得所述毛刷对副炉室内壁进行清洁。

可选的，所述旋转驱动单元包括旋转驱动电机，所述旋转部还包括设置于所述旋转驱动电机和所述旋转轴之间的齿轮传动单元，所述齿轮传动单元包括与所述旋转驱动电机连接的主动齿轮和与所述旋转轴连接的从动齿轮，所述主动齿轮与所述从动齿轮啮合、以在所述驱动电机的驱动下带动所述旋转轴旋转。

可选的，所述旋转部还包括用于控制所述旋转驱动电机的状态，以调节所述旋转轴的转速的第一调节控制单元。

可选的，所述侧壁上均匀设置有多个所述通孔，所述升降部包括多个与多个所述通孔一一对应设置的行走电机组，每个所述行走电机组包括沿着所述主机架的升降方向排布的至少一个所述行走电机。

可选的，所述升降部还包括用于控制所述行走电机的状态，以调节所述主机架的升降速度的第二调节控制单元。

可选的，所述移动结构还包括水平移动部，用于控制所述行走电机沿着与所述主机架的升降方向相垂直的方向运动、以增加或减小所述行走电机外露于所述通孔的部分的面积，所述水平移动部包括与多个所述行走电机组一一对应的水平移动单元。

可选的，所述水平移动单元还包括水平移动驱动电机以及设置于所述行走电机与所述水平移动驱动电机之间的传动组件；

所述水平移动部还包括用于控制所述水平移动驱动电机的状态，以调节所述行走电机在与所述主机架的升降方向垂直的方向上的移动速度的第三调节控制单元。

可选的，所述移动结构还包括固定每个所述行走电机组中的行走电机的支架，所述支架包括连接于所述通孔相对的两侧的两个连接板，设置于两个所述连接板之间的两个相对设置的支撑杆，每个所述支撑杆上沿着所述主机架的升降方向设置有至少一个供所述行走电机的连接轴穿过的连接孔；

所述连接板上设置有延伸方向与所述主机架的升降方向相垂直的轨道，所述行走电机的连接轴穿过所述支撑杆上的连接孔移动连接于所述轨道上，两个所述支撑杆之间连接有连接杆；

所述传动组件包括设置于所述水平移动驱动电机和所述连接杆之间的丝杠，在所述水平移动驱动电机的驱动下带动相应的所述行走电机组沿着与所述主机架升降方向相垂直的方向移动。

可选的，所述旋转轴为中空设置的空心轴，所述刷盘上设置有与所述旋转轴的中心连通的通孔；

所述移动结构还包括用于感应所述主机架的升降位置的传感器，以及根据所述传感器发送的信号控制所述升降部停止升降的控制部，所述传感器穿设于所述旋转轴以及所述刷盘上的通孔内，所述传感器的顶端外露于所述刷盘上的通孔、或者所述传感器的顶端与所述刷盘远离所述主机架的一面平齐、或者所述传感器的顶端位于所述刷盘的通孔内。

可选的，还包括回收结构，所述回收结构包括喷气部和吸附部；

所述喷气部包括设置于所述盖板边缘的多个喷气孔，设置于所述底板上的多个进气孔，以及设置于所述喷气孔和所述进气孔之间的管道，多个所述进气孔通过管道与外部干燥压缩空气提供结构连通；

所述旋转轴为中空设置的空心轴，所述刷盘上设置有与所述旋转轴的中心正对的通孔，所述吸附部包括设置于所述底板上、与所述旋转轴内部连通的吸附孔，所述吸附孔通过管道与外部的真空泵连通。

可选的，所述行走电机包括圆柱形本体，所述圆柱形本体的延伸方向与所述主机架的升降方向相垂直，所述圆柱形本体的外部包覆有橡胶制成的所述外壳。

可选的，所述行走电机采用外转子无刷直流减速电机。

本实用新型实施例还提供一种副炉室清洁***，包括上述的副炉室清洁装置，

所述旋转驱动单元包括旋转驱动电机，所述旋转部还包括用于控制所述旋转驱动电机的状态，以调节所述旋转轴的转速的第一调节控制单元；

所述升降部还包括用于控制所述行走电机的状态，以调节所述主机架的升降速度的第二调节控制单元；

所述移动结构还包括水平移动部，所述水平移动部包括与多个所述行走电机组一一对应的水平移动单元，所述水平移动单元还包括水平移动驱动电机以及设置于所述行走电机与所述水平移动驱动电机之间的传动组件，所述水平移动部还包括用于控制所述水平移动驱动电机的状态，以调节所述行走电机在与所述主机架的升降方向垂直的方向上的移动速度的第三调节控制单元；

所述第一调节控制单元、所述第二调节控制单元和所述第三调节控制单元均与所述主机架的所述底板上的插头座电连接；

副炉室清洁***还包括用于向所述第一调节控制单元、所述第二调节控制单元、所述第三调节控制单元发送控制信号的线控器，所述线控器通过线缆与所述插头座电连接。

可选的，

所述旋转轴为中空设置的空心轴，所述刷盘上设置有与所述旋转轴的中心连通的通孔；

所述移动结构还包括用于感应所述主机架的升降位置的传感器，以及根据所述传感器发送的信号控制所述升降部停止升降的控制部，所述传感器穿设于所述旋转轴以及所述刷盘上的通孔内，所述传感器的顶端外露于所述刷盘上的通孔、或者所述传感器的顶端与所述刷盘远离所述主机架的一面平齐、或者所述传感器的顶端位于所述刷盘的通孔内；

所述线控器还用于接收所述传感器发送的包括所述主机架移动至副炉室顶部的位置信息的信号，并根据所述传感器发送的信号向所述第一调节控制单元发送包括停止所述主机架升降的信息的信号。

本实用新型的有益效果是：通过副炉室清洁装置对副炉室内壁自动进行清洁，降低清洗难度，提升清洗效率。

附图说明

图1表示本实用新型实施例中副炉室清洁装置分解示意图；

图2表示本实用新型实施例中主机架内部结构示意图；

图3表示本实用新型实施例中副炉室清洁装置部分结构示意图；

图4表示本实用新型实施例中线控器示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

传统技术中，通过人工操作进行副炉室清洁，效率低，本实施例提供一种副炉室清洁装置，自动进行清洁，降低清洗难度，提升清洗效率。

具体的，参考图1-图3，本实施例提供一种副炉室1清洁装置，包括：

主机架，包括由底板18和围设于所述底板18四周的侧壁6形成的容纳腔体，以及盖设于所述容纳腔体的开口端的盖板5；

刷盘2，设置于所述主机架的盖板5的一侧，所述刷盘2远离所述主机架的顶面和与所述顶面相邻的侧面上设置有毛刷；

移动结构，包括位于所述容纳腔体内的旋转部和升降部，所述旋转部包括旋转驱动单元和旋转轴14，所述旋转轴14的一端与所述驱动单元连接，另一端穿过所述盖板5上的通孔与所述刷盘2连接；所述升降部包括设置于所述主机架的侧壁6上的行走电机7，所述侧壁6上设置有通孔，所述行走电机7的外壳外露于所述通孔以能够与副炉室1内壁接触、以带动所述主机架在所述副炉室1内移动、使得所述毛刷对副炉室1内壁进行清洁。

通过所述升降部控制所述主机架在副炉室1内移动，通过旋转部带动所述刷盘2旋转，从而通过所述刷盘2上的毛刷对副炉室1内壁进行清洁，无需人工，自动进行副炉室1内壁的清洁，简单快捷，节省人力，提升清洁效率。

且本实施例中，所述升降部采用行走电机7实现所述主机架的升降运动，通过行走电机7的外壳与副炉室1内壁之间的摩擦力来实现所述主机架的升降，结构简单。

本实施例中，所述行走电机采用外转子无刷直流减速电机，不存在换向电刷，因此在使用过程中不会有火花，或者碳粉等杂质的产生，提高了清洁度。

本实施例中，所述行走电机7包括圆柱形本体，所述圆柱形本体的延伸方向与所述主机架的升降方向相垂直，所述圆柱形本体的外部包覆有橡胶制成的所述外壳。

所述外壳采用橡胶制成，在进行清洁时，能够加强行走电机7与副炉室1内壁之间的摩擦力，防止在清洗过程中，所述主机架掉落的情况发生，且橡胶材质不会在与副炉室1内壁的摩擦过程中产生其他杂质，提高清洁度。

所述旋转单元的具体结构形式可以有多种，本实施例中，所述旋转驱动单元包括旋转驱动电机15，所述旋转部还包括设置于所述旋转驱动电机15和所述旋转轴14之间的齿轮传动单元，所述齿轮传动单元包括与所述旋转驱动电机15连接的主动齿轮和与所述旋转轴14连接的从动齿轮，所述主动齿轮与所述从动齿轮啮合、以在所述驱动电机的驱动下带动所述旋转轴14旋转。

参考图2，所述从动齿轮设置于所述旋转轴14靠近所述底板18的一端，所述主动齿轮带动所述从动齿轮转动，从而带动所述旋转轴14转动，进而实现与旋转轴14连接的所述刷盘2的转动，使得所述毛刷对副炉室1内壁进行清洁。

本实施例中，所述旋转部还包括用于控制所述旋转驱动电机15的状态，以调节所述旋转轴14的转速的第一调节控制单元。

所述第一调节控制单元包括电子调速器，但并不以此为限。通过控制所述旋转盘的转速，以保证清洁效果。

本实施例中，所述侧壁6上均匀设置有多个所述通孔，所述升降部包括多个与多个所述通孔一一对应设置的行走电机组，每个所述行走电机组包括沿着所述主机架的升降方向排布的至少一个所述行走电机7。

在进行清洁时，通过所述行走电机7的外壳与副炉室1内壁接触，并沿着副炉室1内壁移动，为了增加所述行走电机7的外壳与副炉室1内壁之间的摩擦力，以保证所述主机架可以稳定的在副炉室1内进行升降运动，进而保证清洁效果，可以增加所述行走电机7的数量，所述行走电机7的具体的数量的设置可以根据实际需要设定。

多个所述行走电机组沿着所述主机架的周向方向、均匀的设置于所述主机架的侧壁6上，保证所述主机架与副炉室1内壁之间受力均匀，保证在进行清洁时，所述主机架与副炉室1内壁之间的连接稳定性，保证清洁效果。

需要说明的是，每个所述行走电机组中的所述行走电机与所述主机架中心的距离相同，保证在与副炉室内壁接触时，行走电机与副炉室内壁之间的摩擦力的一致。

本实施例的一实施方式中，所述升降部包括三个行走电机组，每个行走电机组包括沿着所述主机架的升降方向排布的两个所述行走电机7，即所述升降部包括六个所述行走电机7，但并不以此为限。

本实施例中，所述升降部还包括用于控制所述行走电机7的状态，以调节所述主机架的升降速度的第二调节控制单元。

所述第二调节控制单元可以为电子调速器，但并不以此为限，通过调节控制所述升降部的升降速度，以保证清洁效果。

本实施例中，所述移动结构还包括水平移动部，用于控制所述行走电机7沿着与所述主机架的升降方向相垂直的方向运动、以增加或减小所述行走电机7外露于所述通孔的部分的面积，所述水平移动部包括与多个所述行走电机组一一对应的水平移动单元。

为了保证所述行走电机7与副炉室1内壁之间的摩擦力，可以通过所述水平移动部调节所述行走电机7外露于所述通孔的部分的面积，即调节所述行走电机7与副炉室1内壁之间、在与所述主机架的升降方向相垂直的方向的距离，便于控制所述主机架稳定的在副炉室1内上下移动。

本实施例中，所述水平移动单元还包括水平移动驱动电机8以及设置于所述行走电机7与所述水平移动驱动电机之间的传动组件；

所述水平移动部还包括用于控制所述水平移动驱动电机8的状态，以调节所述行走电机7在与所述主机架的升降方向垂直的方向上的移动速度的第三调节控制单元。

所述第三调节控制单元可以包括电子调速器，但并不以此为限，通过控制所述行走电机7在垂直于所述主机架的升降方向上的运动、以稳定的调节所述行走电机7与副炉室1内壁之间的摩擦力。

本实施例中，所述移动结构还包括固定每个所述行走电机组中的行走电机7的支架(第一支架10)，所述支架包括连接于所述通孔相对的两侧的两个连接板，设置于两个所述连接板之间的两个相对设置的支撑杆，每个所述支撑杆上沿着所述主机架的升降方向设置有至少一个供所述行走电机7的连接轴穿过的连接孔；

所述连接板上设置有延伸方向与所述主机架的升降方向相垂直的轨道11，所述行走电机7的连接轴穿过所述支撑杆上的连接孔移动连接于所述轨道11上，两个所述支撑杆之间连接有连接杆；

所述传动组件包括设置于所述水平移动驱动电机8和所述连接杆之间的丝杠9，在所述水平移动驱动电机的驱动下带动相应的所述行走电机组沿着与所述主机架升降方向相垂直的方向移动。

参考图2，在所述水平移动驱动电机8的驱动下，可以整体控制相应的一组所述行走电机组在垂直于所述主机架的升降方向的移动，保证一个所述行走电机组中的所有所述行走电机7与副炉室1内壁之间的距离的一致。

本实施例中，所述轨道11为设置于相应的所述连接板上的滑槽，但并不以此为限。

本实施例中，还包括第二支架16，用于支撑所述传动组件，所述丝杠9穿过所述第二支架16上的通孔与所述第一支架10连接，所述第二支架16包括纵横交叉设置的连接杆，所述第二支架16固定连接于所述底板与所述侧壁之间。

本实施例中，所述旋转轴14为中空设置的空心轴，所述刷盘2上设置有与所述旋转轴14的中心连通的通孔；

所述移动结构还包括用于感应所述主机架的升降位置的传感器3，以及根据所述传感器3发送的信号控制所述升降部停止升降的控制部，所述传感器3穿设于所述旋转轴14以及所述刷盘2上的通孔内，所述传感器3的顶端外露于所述刷盘2上的通孔、或者所述传感器3的顶端与所述刷盘2远离所述主机架的一面平齐、或者所述传感器3的顶端位于所述刷盘2的通孔内。

所述传感器3的设置，可以准确的感应所述主机架的上升位置，避免所述刷盘2与副炉室1顶部产生碰撞，所述传感器3的顶端的位置可以根据实际需要设定，本实施例的一实施方式中，所述传感器3的顶端与所述刷盘2远离所述主机架的一面平齐，既可以有效的感应到所述主机架移动到副炉室1顶部时发出信号，且可以避免副炉室1顶部对所述传感器3的损伤，且可以使得所述主机架移动到所述刷盘2远离所述主机架的一面与副炉室1顶部之间的距离小，保证清洁效果。

本实施例中，为了提高清洁效果，所述副炉室1清洁装置还包括回收结构，所述回收结构包括喷气部和吸附部；

所述喷气部包括设置于所述盖板5边缘的多个喷气孔4，设置于所述底板18上的多个进气孔12，以及设置于所述喷气孔4和所述进气孔12之间的管道13，多个所述进气孔12通过管道13与外部干燥压缩空气提供结构连通；

所述旋转轴14为中空设置的空心轴，所述刷盘2上设置有与所述旋转轴14的中心正对的通孔，所述吸附部包括设置于所述底板18上、与所述旋转轴14内部连通的吸附孔19，所述吸附孔19通过管道与外部的真空泵连通。

所述喷气部的设置可以将所述毛刷清洁后的颗粒物等吹起，并与所述吸附部配合，将所述毛刷清洁的颗粒物等回收，有效的对副炉室1内壁进行清洁，避免被所述毛刷等清洁后的颗粒物等残留。

所述喷气孔4设置于所述盖板5的边缘，即从所述刷盘2的底部侧向喷出，有助于形成旋转气流，利于将颗粒物等随着气流进入所述旋转轴14内部，从而有效回收被清洁的异物。

本实施例的一实施方式中，通过将所述刷盘2和所述盖板5之间的距离设置为预设距离，且所述喷气孔4的延伸方向与所述盖板5靠近所述刷盘2的表面所在的平面呈角度倾斜设置，例如所述喷气孔4的延伸方向与所述盖板5靠近所述刷盘2的表面所在的平面之间的角度为45度，使得所述喷气孔4使得喷出的气体以45度方向喷射至副炉室1内壁，但并不依次为限。

本实施例中，所述刷盘2的边缘设置有多个通孔21，在旋转过程中，会有气流从所述通孔21喷出，确保有一部分气体可以倾斜喷向副炉室内壁(例如45度)，而不是全部从刷盘2和盖板5从的缝隙中喷出；有利于气体在副炉室内形成涡流，使得被吹起的异物随气流进入所述旋转轴14内部，有效的被回收。

需要说明的是，所述通孔21比较大，而所述喷气孔4比较小，参考图1，为了避免所述通孔21的设置影响从所述喷气孔4喷出的气体的流向，即使得从所述喷气孔4喷出的气体直接从所述通孔21中穿过，不会经过所述通孔21的侧壁，所述喷气孔4在所述刷盘2上的正投影位于所述通孔21内，且所述喷气孔4在所述刷盘2上的正投影偏离所述通孔21的中心、位于所述通孔21靠近所述旋转轴的部分，所述刷盘2的厚度小于所述通孔21的直径，但并不以此为限，在实际应用中，所述刷盘2的厚度、所述通孔21的直径、所述喷气孔4的直径、以及所述通孔21和所述喷气孔4在所述刷盘2上的正投影的相对位置关系这几种参数决定了从所述喷气孔喷出的气体的流向是否会被改变(喷向所述通孔21的侧壁上改变流向，或是直接从所述通孔21中透过)，上述几种参数可根据实际需要设定，避免影响从所述喷气孔4喷出的气体的流向。

本实施例中，所述喷气孔4和所述进气孔12之间的管道13为进气歧管。

所述进气歧管包括的气体管路的数量与所述喷气孔4的数量相对应，本实施例的一实施方式中，所述盖板5上设置了6个所述喷气孔4，所述进气歧管具有6个气体管路以与6个所述喷气孔4一一对应，但并不以此为限。

本实用新型实施例还提供一种副炉室1清洁***，包括上述的副炉室1清洁装置，

所述旋转部还包括用于控制所述旋转驱动电机15的状态，以调节所述旋转轴14的转速的第一调节控制单元；

所述升降部还包括用于控制所述行走电机7的状态，以调节所述主机架的升降速度的第二调节控制单元；

所述水平移动部还包括用于控制所述水平移动驱动电机8的状态，以调节所述行走电机7在与所述主机架的升降方向垂直的方向上的移动速度的第三调节控制单元；

所述第一调节控制单元、所述第二调节控制单元和所述第三调节控制单元均与所述主机架的所述底板18上的插头座17电连接；

副炉室1清洁***还包括用于向所述第一调节控制单元、所述第二调节控制单元、所述第三调节控制单元发送控制信号的线控器，所述线控器通过线缆与所述插头座17电连接。

图4表示的是线控器的示意图，通过所述线控器控制所述副炉室1清洁装置的清洁状态，简单方便，所述线控器上设置有控制所述升降部的工作状态的开关，例如，向所述第一调节控制单元发送控制信号，以控制所述行走电机7升降的上升开关、下降开关、加速开关、减速开关，向所述第二调节控制单元发送控制信号、以控制所述旋转驱动电机15的工作状态的加速开关、减速开关等。

本实施例中，所述插头座17采用航空插头，保证电路的可靠性，但并不以此为限。

本实施例中，所述旋转轴14为中空设置的空心轴，所述刷盘2上设置有与所述旋转轴14的中心连通的通孔；

所述移动结构还包括用于感应所述主机架的升降位置的传感器3，以及根据所述传感器3发送的信号控制所述升降部停止升降的控制部，所述传感器3穿设于所述旋转轴14以及所述刷盘2上的通孔内，所述传感器3的顶端外露于所述刷盘2上的通孔、或者所述传感器3的顶端与所述刷盘2远离所述主机架的一面平齐、或者所述传感器3的顶端位于所述刷盘2的通孔内；

所述线控器还用于接收所述传感器3发送的包括所述主机架移动至副炉室1顶部的位置信息的信号，并根据所述传感器3发送的信号向所述第一调节控制单元发送包括停止所述主机架升降的信息的信号。

在对副炉室1清洁之前，通过控制器控制副炉室1绕单晶硅生产***主机架旋转至指定位置，方便副炉室1内壁清洗工作的进行；将副炉室1清洁装置放入副炉室1的底部，将副炉室1清洁装置的中心对正副炉室1的中心；连接CDA(干燥压缩空气)管路以与干燥压缩空气提供结构连通，连接真空泵；操作人员根据实际情况调整副炉室1清洁装置上下移动的速度(在副炉室1内的升降速度)；操作人员根据实际情况调整副炉室1清洗装置的刷盘2转速；操作人员按下线控器上的UP键(上升开关)，副炉室1清洗装置开始工作，在清扫的同时沿着副炉室1内壁上升，当副炉室1清洗装置上升至副炉室1内部顶部时，所述传感器3触发，副炉室1清洗装置停止工作。随后操作人员按下控制器上的DOWN键(下降开关)，副炉室1清洗装置在清扫的同时沿着副炉室1内壁向下运动。当副炉室1清洗装置运动到副炉室1底部时停止运动，操作人员将副炉室1清洗装置取下，完成副炉室1清洗工作，进入到下一个工序。

在实际应用中，可以根据实际清洁情况，进行多次往返清洗洁。

在清洁过程完成后，操作人员还可将副炉室1清洁装置从副炉室1内部取出后，将刷盘2清洁后、在刷盘2外部包裹专用的蘸取了适量乙醇的无尘布，随后再次将副炉室1清洗装置按如上所述操作流程放入副炉室1内部，可实现对副炉室1内部的深度清洗。

以上所述为本实用新型较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。

Claims (14)

1.一种副炉室清洁装置，其特征在于，包括：

主机架，包括由底板和围设于所述底板四周的侧壁形成的容纳腔体，以及盖设于所述容纳腔体的开口端的盖板；

刷盘，设置于所述主机架的盖板的一侧，所述刷盘远离所述主机架的顶面和与所述顶面相邻的侧面上设置有毛刷；

移动结构，包括位于所述容纳腔体内的旋转部和升降部，所述旋转部包括旋转驱动单元和旋转轴，所述旋转轴的一端与所述驱动单元连接，另一端穿过所述盖板上的通孔与所述刷盘连接；所述升降部包括设置于所述主机架的侧壁上的行走电机，所述侧壁上设置有通孔，所述行走电机的外壳外露于所述通孔以能够与副炉室内壁接触、以带动所述主机架在所述副炉室内移动、使得所述毛刷对副炉室内壁进行清洁。

2.根据权利要求1所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述旋转驱动单元包括旋转驱动电机，所述旋转部还包括设置于所述旋转驱动电机和所述旋转轴之间的齿轮传动单元，所述齿轮传动单元包括与所述旋转驱动电机连接的主动齿轮和与所述旋转轴连接的从动齿轮，所述主动齿轮与所述从动齿轮啮合、以在所述驱动电机的驱动下带动所述旋转轴旋转。

3.根据权利要求2所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述旋转部还包括用于控制所述旋转驱动电机的状态，以调节所述旋转轴的转速的第一调节控制单元。

4.根据权利要求1所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述侧壁上均匀设置有多个所述通孔，所述升降部包括多个与多个所述通孔一一对应设置的行走电机组，每个所述行走电机组包括沿着所述主机架的升降方向排布的至少一个所述行走电机。

5.根据权利要求4所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述升降部还包括用于控制所述行走电机的状态，以调节所述主机架的升降速度的第二调节控制单元。

6.根据权利要求4所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述移动结构还包括水平移动部，用于控制所述行走电机沿着与所述主机架的升降方向相垂直的方向运动、以增加或减小所述行走电机外露于所述通孔的部分的面积，所述水平移动部包括与多个所述行走电机组一一对应的水平移动单元。

7.根据权利要求6所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述水平移动单元还包括水平移动驱动电机以及设置于所述行走电机与所述水平移动驱动电机之间的传动组件；

所述水平移动部还包括用于控制所述水平移动驱动电机的状态，以调节所述行走电机在与所述主机架的升降方向垂直的方向上的移动速度的第三调节控制单元。

8.根据权利要求7所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述移动结构还包括固定每个所述行走电机组中的行走电机的支架，所述支架包括连接于所述通孔相对的两侧的两个连接板，设置于两个所述连接板之间的两个相对设置的支撑杆，每个所述支撑杆上沿着所述主机架的升降方向设置有至少一个供所述行走电机的连接轴穿过的连接孔；

所述连接板上设置有延伸方向与所述主机架的升降方向相垂直的轨道，所述行走电机的连接轴穿过所述支撑杆上的连接孔移动连接于所述轨道上，两个所述支撑杆之间连接有连接杆；

所述传动组件包括设置于所述水平移动驱动电机和所述连接杆之间的丝杠，在所述水平移动驱动电机的驱动下带动相应的所述行走电机组沿着与所述主机架升降方向相垂直的方向移动。

9.根据权利要求1所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述旋转轴为中空设置的空心轴，所述刷盘上设置有与所述旋转轴的中心连通的通孔；

所述移动结构还包括用于感应所述主机架的升降位置的传感器，以及根据所述传感器发送的信号控制所述升降部停止升降的控制部，所述传感器穿设于所述旋转轴以及所述刷盘上的通孔内，所述传感器的顶端外露于所述刷盘上的通孔、或者所述传感器的顶端与所述刷盘远离所述主机架的一面平齐、或者所述传感器的顶端位于所述刷盘的通孔内。

10.根据权利要求1所述的副炉室清洁装置，其特征在于，还包括回收结构，所述回收结构包括喷气部和吸附部；

所述喷气部包括设置于所述盖板边缘的多个喷气孔，设置于所述底板上的多个进气孔，以及设置于所述喷气孔和所述进气孔之间的管道，多个所述进气孔通过管道与外部干燥压缩空气提供结构连通；

所述旋转轴为中空设置的空心轴，所述刷盘上设置有与所述旋转轴的中心正对的通孔，所述吸附部包括设置于所述底板上、与所述旋转轴内部连通的吸附孔，所述吸附孔通过管道与外部的真空泵连通。

11.根据权利要求1所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述行走电机包括圆柱形本体，所述圆柱形本体的延伸方向与所述主机架的升降方向相垂直，所述圆柱形本体的外部包覆有橡胶制成的所述外壳。

12.根据权利要求1所述的副炉室清洁装置，其特征在于，所述行走电机采用外转子无刷直流减速电机。

13.一种副炉室清洁***，其特征在于，包括权利要求1-12任一项所述的副炉室清洁装置，

所述旋转驱动单元包括旋转驱动电机，所述旋转部还包括用于控制所述旋转驱动电机的状态，以调节所述旋转轴的转速的第一调节控制单元；

所述升降部还包括用于控制所述行走电机的状态，以调节所述主机架的升降速度的第二调节控制单元；

所述移动结构还包括水平移动部，所述水平移动部包括与多个所述行走电机组一一对应的水平移动单元，所述水平移动单元还包括水平移动驱动电机以及设置于所述行走电机与所述水平移动驱动电机之间的传动组件，所述水平移动部还包括用于控制所述水平移动驱动电机的状态，以调节所述行走电机在与所述主机架的升降方向垂直的方向上的移动速度的第三调节控制单元；

所述第一调节控制单元、所述第二调节控制单元和所述第三调节控制单元均与所述主机架的所述底板上的插头座电连接；

副炉室清洁***还包括用于向所述第一调节控制单元、所述第二调节控制单元、所述第三调节控制单元发送控制信号的线控器，所述线控器通过线缆与所述插头座电连接。

14.根据权利要求13所述的副炉室清洁***，其特征在于，

所述旋转轴为中空设置的空心轴，所述刷盘上设置有与所述旋转轴的中心连通的通孔；

所述移动结构还包括用于感应所述主机架的升降位置的传感器，以及根据所述传感器发送的信号控制所述升降部停止升降的控制部，所述传感器穿设于所述旋转轴以及所述刷盘上的通孔内，所述传感器的顶端外露于所述刷盘上的通孔、或者所述传感器的顶端与所述刷盘远离所述主机架的一面平齐、或者所述传感器的顶端位于所述刷盘的通孔内；

所述线控器还用于接收所述传感器发送的包括所述主机架移动至副炉室顶部的位置信息的信号，并根据所述传感器发送的信号向所述第一调节控制单元发送包括停止所述主机架升降的信息的信号。

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