CN209968752U - 用于放置喷嘴的装置 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 89
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 81
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 10
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 6
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 27
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
本实用新型提供一种用于放置喷嘴的装置，其能够对喷嘴进行单独清洗，能够减少清洗液的使用量，避免不同的喷嘴之间的交叉污染，且能够预防多种光刻胶混合后发生反应形成结晶而堵塞排液管的情况发生，降低清洗腔及排液管的清洗频率；同时，喷嘴不需要移动就可以清洗，提高了设备的利用率，降低了生产成本；另外，在喷嘴闲置时，在清洗腔中可存放清洗液，利用清洗液的挥发，保证喷嘴闲置时也能够时刻处于湿润的状态，避免光刻胶在所述喷嘴上结晶，从而避免喷嘴被污染。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体设备领域，尤其涉及一种用于放置喷嘴的装置。
背景技术
光刻胶涂布设备的光刻胶喷嘴只有在涂胶的时候使用，不使用时会固定放置在喷嘴室 (Nozzle bath)内。光刻胶主要成分是树脂、光致酸产生剂、中和光致酸的碱性中和剂以及添加剂，但绝大部分是溶剂(solvent)，而溶剂极易挥发。如果光刻胶喷嘴长时间不处于湿润的环境中，光刻胶中的溶剂就会挥发，导致光刻胶喷嘴里光刻胶特性改变，在光刻胶喷嘴上产生结晶，而污染光刻胶喷嘴。为防止光刻胶喷嘴长期不使用而造成污染，光刻胶涂布设备会定期将光刻胶喷嘴一个一个的移动到清洗室(solvent bath)里进行清洗。
每个涂胶单元只有一个清洗室，所有光刻胶喷嘴长期在一个清洗室内进行清洗，会造成光刻胶喷嘴的交叉污染，同时还会造成清洗液的浪费，增加生产成本。同时，长期混合清洗会使得含有多种光刻胶的废液在排液管(Drain管)壁结晶，造成排液管堵塞，则排液管的清洗周期频率被提高，降低了光刻胶涂布设备的利用率。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种用于放置喷嘴的装置，其能够避免喷嘴的交叉污染及清洗液的浪费，且能够降低清洗腔的清洗频率，提高设备的利用率，大大降低生产成本。
为了解决上述问题，本实用新型提供了一种用于放置喷嘴的装置，其包括至少一喷嘴室，所述喷嘴室包括：一容纳腔，其允许一喷嘴***：一清洗腔，设置在所述容纳腔底部，且与所述容纳腔连通，所述清洗腔内能够放置一清洗液，所述清洗腔具有一进液口及一排液口，所述进液口允许所述清洗液进入所述清洗腔，并喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴，所述排液口允许所述清洗液自所述清洗腔排出。
进一步，在与所述喷嘴***的方向垂直的方向上，所述清洗腔的宽度大于所述容纳腔的宽度。
进一步，在沿所述喷嘴***的方向上，所述清洗腔的高度小于所述容纳腔的高度。
进一步，在沿所述喷嘴***的方向上，所述清洗腔的高度高于所述喷嘴需要清洗的部分的长度。
进一步，所述进液口设置在所述清洗腔的侧壁。
进一步，所述排液口设置在所述清洗腔的底部。
进一步，所述喷嘴室还包括一进液管，所述进液管的一端与所述进液口连通，所述进液管的另一端与一清洗液源连通，以将清洗液导入所述清洗腔内。
进一步，所述喷嘴室还包括一排液管，所述排液管的一端与所述排液口连通，所述排液管的另一端与一回收***连通，以将清洗液自所述清洗腔排至所述回收***。
进一步，所述用于放置喷嘴的装置包括多个喷嘴室，所述喷嘴室的排液管经同一总排液管与所述回收***连通。
进一步，所述排液管还具有一阀门，以控制所述排液管的开启与关闭。本实用新型的优点在于，每一个喷嘴室均具有一清洗腔，多个喷嘴室的清洗腔彼此独立，能够对喷嘴进行单独清洗，从而能够减少清洗液的使用量，避免不同的喷嘴之间的交叉污染；且能够预防多种光刻胶混合后发生反应形成结晶而堵塞排液管的情况发生，降低清洗腔及排液管的清洗频率；同时，喷嘴不需要移动就可以清洗，提高了设备的利用率，降低了生产成本；另外，在喷嘴闲置时，在清洗腔中可存放清洗液，利用清洗液的挥发，保证喷嘴闲置时也能够时刻处于湿润的状态，避免光刻胶在所述喷嘴上结晶，从而避免喷嘴被污染。
附图说明
图1是本实用新型用于放置喷嘴的装置的结构示意图；
图2是本实用新型用于放置喷嘴的装置的截面示意图。
附图标记说明：
1、喷嘴室；10、容纳腔；11、清洗腔；11A、进液口；11B、排液口；12、进液管；13、排液管；14、总排液管；15、阀门；X、喷嘴***的方向；Y、与喷嘴***的方向垂直的方向。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型提供的用于放置喷嘴的装置的具体实施方式做详细说明。
图1是本实用新型用于放置喷嘴的装置的结构示意图，图2是本实用新型用于放置喷嘴的装置的截面示意图。
请参阅图1及图2，本实用新型用于放置喷嘴的装置包括至少一喷嘴室1。在本实施例中，所述用于放置喷嘴的装置包括四个喷嘴室1。在本实用新型其他实施例中，所述用于放置喷嘴的装置可以包括一个喷嘴室，也可以包括多个喷嘴室，本实用新型对此不限定。
所述喷嘴室1包括一容纳腔10及一清洗腔11。
所述容纳腔10允许一喷嘴(附图中未绘示)***，以保护所述喷嘴，避免所述喷嘴受到外界环境的破坏。也就是说，所述喷嘴能够***所述容纳腔10内。其中，可通过一固定装置固定所述喷嘴，以使所述喷嘴相对于所述容纳腔10静止。所述喷嘴的固定方式为本领域的常规技术手段，在此不再进行说明。
所述清洗腔11设置在所述容纳腔10的底部，且与所述容纳腔10连通。具体的说，在沿所述喷嘴***的方向上(如图中箭头Y所示)，所述容纳腔10与所述清洗腔11依次放置。
其中，所述清洗腔11具有一进液口11A及一排液口11B。所述进液口11A允许清洗液进入所述清洗腔11，并喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴；所述排液口11B允许清洗液自所述清洗腔11排出。具体的说，在本实施例中，所述进液口11A设置在所述清洗腔11的侧壁，以便于所述清洗液自所述进液口11A喷向所述喷嘴，进而清洗所述喷嘴；所述排液口 11B设置在所述清洗腔11的底部，以便于所述清洗液的充分排出。
其中，所述喷嘴可置于所述容纳腔10内，所述清洗液自所述进液口11A喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴；所述喷嘴还可以经所述容纳腔10进入所述清洗腔11中，所述清洗液自所述进液口11A喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴。所述喷嘴不必全部***所述清洗腔11中，以避免清洗腔11中残留的清洗液浸泡所述喷嘴。自所述进液口11A喷向所述喷嘴的清洗液的体积可根据所述喷嘴喷射的光刻胶的特性及所述喷嘴的使用情况进行设置。
本实用新型用于放置喷嘴的装置的每一个喷嘴室均具有一清洗腔，多个喷嘴室的清洗腔彼此独立，能够对喷嘴进行单独清洗，从而能够减少清洗液的使用量，避免不同的喷嘴之间的交叉污染；且能够预防现有技术中的多种光刻胶混合后发生反应形成结晶而堵塞排液管的情况发生，降低清洗腔及排液管的清洗频率；同时，喷嘴不需要移动就可以清洗，提高了设备的利用率，降低了生产成本；另外，当所述喷嘴不使用时，其也可实时处于清洗液的环境中，从而保证喷嘴处于洁净状态。
进一步，在本实施例中，在与所述喷嘴***的方向垂直的方向上(如图中箭头X所示)，所述清洗腔11的宽度大于所述容纳腔10的宽度；在沿所述喷嘴***的方向上(如图中箭头Y所示)，所述清洗腔11的高度小于所述容纳腔10的高度。在本实用新型其他实施例中，所述容纳腔10的高度及宽度、所述清洗腔11的高度及宽度及所述容纳腔10与所述清洗腔11的高度及宽度的相对关系可根据实际需求进行设置。
进一步，在本实施例中，所述喷嘴室1还包括一进液管12。所述进液管12的一端与所述进液口11A连通，所述进液管12的另一端与一清洗液源(附图中未绘示)连通，以将清洗液导入所述清洗腔11内。其中，多个喷嘴室1的进液管12彼此独立，则可单独控制进入所述清洗腔11内的清洗液的体积，从而能够根据所述喷嘴喷射的光刻胶的特性及所述喷嘴的使用情况对所述喷嘴进行有针对性的清洗。在附图1中仅示意性地绘示两个进液管12，另外两个进液管12位于所述用于放置喷嘴的装置的背面，因此未绘示。其中，可采用本领域常规的阀门等结构控制所述进液管12的开启与关闭。
进一步，所述喷嘴室1还包括一排液管13。所述排液管13的一端与所述排液口11B连通，所述排液管13的另一端与一回收***(附图中未绘示)连通，以将清洗液自所述清洗腔11排至所述回收***。其中，由于每一喷嘴室1具有一所述排液管13，则可避免不同喷嘴室1排出的清洗液混合而结晶，从而延长排液管13的清洗时间，缩短所述排液管13 的清洗频率，提高光刻胶涂布设备的利用率。进一步，所述用于放置喷嘴的装置包括多个喷嘴室1，所述喷嘴室1的排液管13经同一总排液管14与所述回收***连通。也就是说，所有的排液管13均与所述总排液管14连通，所述清洗液自所述清洗腔11排出后，经所述排液管12级所述总排液管14进入所述回收***。
进一步，所述排液管13还具有一阀门15，以控制所述排液管13的开启与关闭。所述阀门15包括但不限于现有技术中的用于控制管道开启与关闭的阀门。
本实用新型用于放置喷嘴的装置能够避免喷嘴的交叉污染及清洗液的浪费，且能够降低清洗腔及排液管的清洗频率，提高设备的利用率，大大降低生产成本。同时，在喷嘴闲置时，在清洗腔中可存放清洗液，利用清洗液的挥发，保证喷嘴闲置时也能够时刻处于湿润的状态，避免光刻胶在所述喷嘴上结晶，从而避免喷嘴被污染。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (9)
1.一种用于放置喷嘴的装置，其特征在于，包括至少一喷嘴室，所述喷嘴室包括：
一容纳腔，其允许一喷嘴***：
一清洗腔，设置在所述容纳腔底部，且与所述容纳腔连通，所述清洗腔内能够放置一清洗液，所述清洗腔具有一进液口及一排液口，所述进液口允许所述清洗液进入所述清洗腔，并喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴，所述排液口允许所述清洗液自所述清洗腔排出。
2.根据权利要求1所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，在与所述喷嘴***的方向垂直的方向上，所述清洗腔的宽度大于所述容纳腔的宽度。
3.根据权利要求1所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，在沿所述喷嘴***的方向上，所述清洗腔的高度小于所述容纳腔的高度。
4.根据权利要求1所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，所述进液口设置在所述清洗腔的侧壁。
5.根据权利要求1所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，所述排液口设置在所述清洗腔的底部。
6.根据权利要求1～5任意一项所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，所述喷嘴室还包括一进液管，所述进液管的一端与所述进液口连通，所述进液管的另一端与一清洗液源连通，以将清洗液导入所述清洗腔内。
7.根据权利要求1～5任意一项所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，所述喷嘴室还包括一排液管，所述排液管的一端与所述排液口连通，所述排液管的另一端与一回收***连通，以将清洗液自所述清洗腔排至所述回收***。
8.根据权利要求7所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，所述用于放置喷嘴的装置包括多个喷嘴室，所述喷嘴室的排液管经同一总排液管与所述回收***连通。
9.根据权利要求7所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，所述排液管还具有一阀门，以控制所述排液管的开启与关闭。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201920450748.XU CN209968752U (zh) | 2019-04-03 | 2019-04-03 | 用于放置喷嘴的装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201920450748.XU CN209968752U (zh) | 2019-04-03 | 2019-04-03 | 用于放置喷嘴的装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN209968752U true CN209968752U (zh) | 2020-01-21 |
Family
ID=69256692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201920450748.XU Expired - Fee Related CN209968752U (zh) | 2019-04-03 | 2019-04-03 | 用于放置喷嘴的装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN209968752U (zh) |
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|---|---|---|---|---|
| CN113020078A (zh) * | 2021-03-25 | 2021-06-25 | 长江存储科技有限责任公司 | 晶圆清洗装置与晶圆清洗方法 |
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