CN209246652U - 一种陶瓷靶材加工用烧结装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种陶瓷靶材加工用烧结装置，特别涉及靶材加工设备领域。本实用新型包括前端传送装置、烧结腔、真空发生装置、靶材坯体；前端传送装置包括滚轮、驱动装置、皮带、皮带轮、输送带；烧结腔包括上盖、加固密封件、压力传感器、液压***、保温层、加热装置、第一推拉式仓门、第二推拉式仓门、放置平台。本实用新型克服了现有技术中陶瓷靶材烧结时，会出现烧后的成品陶瓷靶材变形或者产生坑坑洼洼不平整，导致靶材的质量受到损害的问题。本实用新型通过运用真空发生装置将烧结腔内部的压力降低，通过液压***间接带动下压模具的运动，防止靶材坯体的加工后的外形弯曲，降低靶材烧结后的质量下降问题。

Description

一种陶瓷靶材加工用烧结装置

技术领域

本实用新型涉及靶材加工设备领域，特别涉及一种陶瓷靶材加工用烧结装置。

背景技术

溅射是制备薄膜材料的主要技术，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，不同功率密度、不同输出波形、不同波长能够制造出不同的靶材。随着科技的发展靶材在各个方面都得到广泛的应用，中国靶材产业发展也不断扩大自己的规模和生产技术，产出的靶材的品牌已经达到国际顶端的技术水平。尤其在陶瓷靶材的制造过程中，为了固定靶材的形状，需要对其进行烧制，但是在烧制过程中会发现有些陶瓷靶材在原料运送进烧结炉时是外形完好的，但是在烧结成型之后表面会变形，甚至产生坑坑洼洼不平整的状态。因此现有技术存在缺陷，需要改进。

实用新型内容

（1）要解决的技术问题

本实用新型克服了现有技术中陶瓷靶材在烧结的过程中，往往会出现原料的表面平整，但烧出来后的成品陶瓷靶材变形或者产生坑坑洼洼不平整，导致靶材的质量受到损害的问题。本实用新型是提供一种减少成品陶瓷靶材烧结后产生变形的陶瓷靶材加工用烧结装置。

（2）技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了这样一种陶瓷靶材加工用烧结装置，包括前端传送装置、烧结腔、真空发生装置、靶材坯体；

所述前端传送装置包括滚轮、驱动装置、皮带、皮带轮、输送带，所述滚轮设在所述前端传送装置的底部，所述驱动装置通过所述皮带和所述皮带轮连接，所述皮带轮上设有所述输送带；

所述烧结腔为立式腔体，所述烧结腔设于所述前端传送装置的传送末端，上盖通过加固密封件加固在所述烧结腔的顶部，所述上盖的外侧上设有压力传感器，液压***设在所述烧结腔的上方，所述液压***包括设在所述烧结腔内部的下压杆，所述下压杆和连接杆相连，所述连接杆的下方设有下压模具，所述下压模具的形状和靶材坯体的形状相互匹配，所述烧结腔两侧侧壁上设有保温层，所述烧结腔的另外两侧侧壁上设有加热装置，所述烧结腔的两侧出口分别设有第一推拉式仓门和第二推拉式仓门，所述烧结腔底部设有放置平台，所述靶材坯体放置在放置平台上。

优选地，所述的加热装置的加热方式包括电阻丝加热方式、硅碳棒加热方式、硅钼棒加热方式中其中的一种，所述加热装置为蛇形管设置。

优选地，所述的烧结腔的加热温度保持在1000-1600℃之间，所述烧结腔内部设有测温元件，所述测温元件包括热电偶。

优选地，所述的烧结腔内的所述下压杆、所述连接杆、所述下压模具、所述放置平台均为耐高温材料制成。

（3）有益效果

本实用新型克服了现有技术中陶瓷靶材在烧结的过程中，往往会出现原料的表面平整，但烧出来后的成品陶瓷靶材变形或者产生坑坑洼洼不平整，导致靶材的质量受到损害的问题。并且本实用新型具有以下优点：将烧结腔内的气压降低，保证陶瓷靶材在烧结在真空的环境下操作；通过液压***对下压杆进行升降控制从而控制下压模具的升降，给靶材坯体的一个加压的力度，使其不变形并且能按照模型固定样式；通过在烧结腔外设置压力感应器便于监控烧结腔内部的压力，通过蛇形设置的加热装置加强烧结腔内的加温速度。

附图说明

图1为本实用新型陶瓷靶材加工用烧结装置的示意图；

图2为本实用新型陶瓷靶材加工用烧结装置的加热装置部分的示意图。

附图标记为：1-前端传送装置，11-滚轮，12-驱动装置，13-皮带，14-皮带轮，15-输送带，2-烧结腔，21-液压***，211-下压杆，212-连接杆，213-下压模具，22-压力感应器，23-上盖，24-加固密封件，25-保温层，26-加热装置，27-第一推拉式仓门，28-第二推拉式仓门，29-放置平台，3-真空发生装置，31-阀门，4-靶材坯体。

具体实施方式

结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“竖直”、“水平”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

如图1-2所示，本实用新型所述的一种陶瓷靶材加工用烧结装置，包括前端传送装置1、烧结腔2、真空发生装置3、靶材坯体4；所述前端传送装置1包括滚轮11、驱动装置12、皮带13、皮带轮14、输送带15，所述滚轮11设在所述前端传送装置1的底部，所述驱动装置12通过所述皮带13和所述皮带轮14连接，所述皮带轮14上设有所述输送带15；所述烧结腔2为立式腔体，所述烧结腔2设于所述前端传送装置1的传送末端，上盖23通过加固密封件24加固在所述烧结腔2的顶部，所述上盖23的外侧上设有压力传感器22，液压***21设在所述烧结腔2的上方，所述液压***21包括设在所述烧结腔2内部的下压杆211，所述下压杆211和连接杆212相连，所述连接杆212的下方设有下压模具213，所述下压模具213的形状和靶材坯体4的形状相互匹配，所述烧结腔2两侧侧壁上设有保温层25，所述烧结腔2的另外两侧侧壁上设有加热装置26，所述烧结腔2的两侧出口分别设有第一推拉式仓门27和第二推拉式仓门28，所述烧结腔2底部设有放置平台29，所述靶材坯体4放置在放置平台29上。

为了更好的提高成品陶瓷靶材在烧结后的质量，本实用新型还包括所述的加热装置26的加热方式包括电阻丝加热方式、硅碳棒加热方式、硅钼棒加热方式中其中的一种，所述加热装置26为蛇形管设置增大加热的效果；所述的烧结腔2的加热温度保持在1000-1600℃之间，所述烧结腔2内部设有测温元件，所述测温元件包括热电偶，用于防止烧结腔2的温度过高；所述的烧结腔2内的所述下压杆211、所述连接杆212、所述下压模具213、所述放置平台29均为耐高温材料制成。

工作原理：本实用新型是靶材坯体4放置在前端传送装置1上传送，将第一推拉式仓门打开，传送进烧结腔2的放置平台29，靶材坯体4的位置正对于下压模具213的位置，通过液压***21的升降控制下压杆211的升降从而带动下压模具213的运动，给靶材坯体4一个下压力，同时利用加热装置26对靶材坯体4进行加热烧结的过程，通过真空发生装置3保证靶材坯体4在烧结腔2烧结时属于真空状态烧结，保证靶材坯体4的质量，烧结完毕时通过第二推拉式28集中收回成品。

以上所述的实施例仅表达了对本实用新型优选实施方式，其描述较为具体和详细，但本实用新型不仅限于这些实施例，应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说。在未脱离本实用新型宗旨的前提下，所为的任何改进均落在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (4)

1.一种陶瓷靶材加工用烧结装置，其特征在于：包括前端传送装置（1）、烧结腔（2）、真空发生装置（3）、靶材坯体（4）；

所述前端传送装置（1）包括滚轮（11）、驱动装置（12）、皮带（13）、皮带轮（14）、输送带（15），所述滚轮（11）设在所述前端传送装置（1）的底部，所述驱动装置（12）通过所述皮带（13）和所述皮带轮（14）连接，所述皮带轮（14）上设有所述输送带（15）；

所述烧结腔（2）为立式腔体，所述烧结腔（2）设于所述前端传送装置（1）的传送末端，上盖（23）通过加固密封件（24）加固在所述烧结腔（2）的顶部，所述上盖（23）的外侧上设有压力传感器（22），液压***（21）设在所述烧结腔（2）的上方，所述液压***（21）包括设在所述烧结腔（2）内部的下压杆（211），所述下压杆（211）和连接杆（212）相连，所述连接杆（212）的下方设有下压模具（213），所述下压模具（213）的形状和靶材坯体（4）的形状相互匹配，所述烧结腔（2）两侧侧壁上设有保温层（25），所述烧结腔（2）的另外两侧侧壁上设有加热装置（26），所述烧结腔（2）的两侧出口分别设有第一推拉式仓门（27）和第二推拉式仓门（28），所述烧结腔（2）底部设有放置平台（29），所述靶材坯体（4）放置在放置平台（29）上。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷靶材加工用烧结装置，其特征在于：所述的加热装置（26）的加热方式包括电阻丝加热方式、硅碳棒加热方式、硅钼棒加热方式中其中的一种，所述加热装置（26）为蛇形管设置。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷靶材加工用烧结装置，其特征在于：所述的烧结腔（2）的加热温度保持在1000-1600℃之间，所述烧结腔（2）内部设有测温元件，所述测温元件包括热电偶。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷靶材加工用烧结装置，其特征在于：所述的烧结腔（2）内的所述下压杆（211）、所述连接杆（212）、所述下压模具（213）、所述放置平台（29）均为耐高温材料制成。