CN207723006U - 一种提拉式镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种提拉式镀膜装置，包括支架、工作平台、镀膜池、提拉机构和旋转夹料机构，所述支架和镀膜池设于所述工作平台上，所述提拉机构和旋转夹料机构设于所述支架上，所述提拉机构和旋转夹料机构设置在所述镀膜池的上方，所述提拉机构用于带动所述旋转夹料机构上下移动，所述旋转夹料机构用于夹持基片并带动所述基片旋转。本实用新型在垂直方向运动的基础上，增加切向的运动，可以实现旋转提拉镀膜，保证整个提拉过程基片的薄膜层均匀，可以改善3D盖板不同曲率半径处膜层的均匀性。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种提拉式镀膜装置。
背景技术
在液晶、等离子显示器或触摸屏的制备过程中，为了保护镀金后的基片，需要在基片的表面进行镀膜。由于在镀膜时，基片较大，且基片两面均需镀膜，此时常用的提拉式镀膜较为方便、快捷。提拉式镀膜就是将需要镀膜的基片匀速下降浸渍在溶液内静置一段时间，再匀速提拉出来，随着溶剂的挥发完全，基片表面会逐渐形成致密的薄膜。相比其他镀膜方法，提拉式镀膜均匀度高，薄膜颗粒尺寸均一，活性好，操作方便，不需要抽真空，具有制备形状复杂及大面积膜的能力，成本低，易于实现产业化。
为了满足用户更佳视觉和触觉体验的要求，从平面盖板发展到 2.5D结构盖板，现在又从2.5D盖板发展成3D盖板，而且3D盖板由原来的双边曲面发展成四周曲面。传统的提拉式镀膜装置，对于3D盖板，在不同的曲率半径处存在镀膜不均匀的问题，从而造成薄膜厚度不均匀。
因此，需要一种能够精确控制3D盖板薄膜厚度均匀性和表面质量、且工艺重复性和可靠性好的镀膜装置。
实用新型内容
为了解决上述现有技术的不足，本实用新型提供一种提拉式镀膜装置。
本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：
一种提拉式镀膜装置，包括支架、工作平台、镀膜池、提拉机构和旋转夹料机构，所述支架和镀膜池设于所述工作平台上，所述提拉机构和旋转夹料机构设于所述支架上，所述提拉机构和旋转夹料机构设置在所述镀膜池的上方，所述提拉机构用于带动所述旋转夹料机构上下移动，所述旋转夹料机构用于夹持基片并带动所述基片旋转。
进一步地，所述支架上还设有用于控制提拉机构及旋转夹料机构的控制装置，所述控制装置分别与所述提拉机构及旋转夹料机构电连接。
进一步地，所述提拉机构包括驱动机构以及伸缩架，所述伸缩架一端固定在所述支架上，所述伸缩架与所述驱动机构相连且在所述驱动机构的推动下上下移动。
进一步地，所述驱动机构为步进电机、气缸或液压缸。
进一步地，所述旋转夹料机构顶部与所述提拉机构相连，所述旋转夹料机构包括旋转台、样品夹具、和旋转驱动装置，所述样品夹具内夹持有基片，所述旋转台的下表面上设置有旋转轨道，所述样品夹具与所述旋转轨道滑动配合，能沿所述旋转轨道运动，所述旋转驱动装置用于驱动所述样品夹具沿着所述旋转轨道水平旋转。
进一步地，所述旋转轨道为圆形轨道。
进一步地，所述控制装置包括移动控制结构和旋转控制结构，所述移动控制机构与所述驱动机构连接并用于控制伸缩架的上下移动，所述旋转控制机构与所述旋转驱动装置连接并用于控制所述样品夹具上的基片在旋转轨道内的运动。
进一步地，所述样品夹具为夹口可调型夹具。
本实用新型具有如下有益效果：
在垂直方向运动的基础上，增加切向的运动，可以实现旋转提拉镀膜，保证整个提拉过程基片的薄膜层均匀，可以改善3D盖板不同曲率半径处膜层的均匀性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型旋转夹料机构的结构示意图。
图中：1、支架，2、工作平台，3、镀膜池，4、伸缩架，5、样品夹具，6、基片，7、旋转台，8、旋转轨道。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。
一种提拉式镀膜装置，包括支架、工作平台、镀膜池、提拉机构、旋转夹料机构和控制装置。
所述镀膜池用于盛放镀膜液，所述镀膜池设于所述工作平台上。
所述支架包括竖向支撑构件和横向支撑构件，所述竖向支撑构件的下端与所述工作平台的上板面固定连接，所述竖向支撑构件的上端与所述横向支撑构件的一端固定连接，所述提拉机构的一端固定在所述横向支撑构件上。优选地，所述竖向支撑构件为竖向支撑杆，所述横向支撑构件为横向支撑杆。
所述提拉机构和旋转夹料机构设于所述支架上，所述提拉机构和旋转夹料机构设置在所述镀膜池的上方。
所述提拉机构用于带动所述旋转夹料机构上下移动。所述提拉机构包括驱动机构以及伸缩架，所述伸缩架一端固定在所述支架上，所述伸缩架与所述驱动机构相连且在所述驱动机构的推动下上下移动。其中，所述驱动机构可以为步进电机，也可以为气缸或液压缸，但不局限于此。本实用新型中，所述驱动机构带动所述伸缩架在垂直方向的直线运动，所述伸缩架在垂直方向的直线运动带动所述旋转夹料机构在垂直方向的直线运动，进而实现将待镀膜基片进入或脱离镀膜池中的镀膜液，运动过程稳定、速度均匀，在基片上镀得薄膜平整、均匀，操作简单、成本低廉、易于控制。
本实用新型采用镀膜液不动而夹具向上运动离开溶液的方式进行镀膜，由于夹具具有相当的重量，避免了夹具在提拉过程中的摇晃，保证涂膜的稳定性与一致性。
所述旋转夹料机构用于夹持基片并带动所述基片旋转。所述旋转夹料机构顶部与所述提拉机构相连，所述旋转夹料机构包括旋转台、样品夹具、和旋转驱动装置，所述样品夹具内夹持基片，所述旋转台的下表面上设置有旋转轨道，所述样品夹具与所述旋转轨道滑动配合且能沿所述旋转轨道运动，所述旋转驱动装置用于驱动所述样品夹具沿着所述旋转轨道水平旋转。其中，所述旋转轨道优选为圆形轨道。优选地，所述样品夹具为夹口可调型夹具，可适应不同基片的装夹，操作方便，耐镀膜液腐蚀。通过上述设置，在垂直方向运动的基础上，增加切向的运动，可以实现旋转提拉镀膜，保证整个提拉过程基片的薄膜层均匀、从而解决了3D盖板表面镀膜在不同曲率半径处膜层一致性的问题。
所述控制装置设于所述支架上，用于控制提拉机构及旋转夹料机构的控制装置，所述控制装置分别与所述提拉机构及旋转夹料机构电连接。具体地，所述控制装置包括移动控制结构和旋转控制结构，所述移动控制机构与所述驱动机构连接并用于控制伸缩架的上下移动，所述旋转控制机构与所述旋转驱动装置连接并用于控制所述样品夹具上的基片在旋转轨道内的运动。本实用新型中采用控制装置实现对提拉式镀膜流程的控制，实现整个镀膜过程的全自动运行，节省人力工时，极大提高了工作效率，也避免了由于人工操作不当、镀膜时间不够均匀，使镀膜样品的镀膜薄膜层更加均匀。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本实用新型的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种提拉式镀膜装置，其特征在于，其包括支架、工作平台、镀膜池、提拉机构和旋转夹料机构，所述支架和镀膜池设于所述工作平台上，所述提拉机构和旋转夹料机构设于所述支架上，所述提拉机构和旋转夹料机构设置在所述镀膜池的上方，所述提拉机构用于带动所述旋转夹料机构上下移动，所述旋转夹料机构用于夹持基片并带动所述基片旋转。
2.如权利要求1所述的提拉式镀膜装置，其特征在于，所述支架上还设有用于控制提拉机构及旋转夹料机构的控制装置，所述控制装置分别与所述提拉机构及旋转夹料机构电连接。
3.如权利要求2所述的提拉式镀膜装置，其特征在于，所述提拉机构包括驱动机构以及伸缩架，所述伸缩架一端固定在所述支架上，所述伸缩架与所述驱动机构相连且在所述驱动机构的推动下上下移动。
4.如权利要求3所述的提拉式镀膜装置，其特征在于，所述驱动机构为步进电机、气缸或液压缸。
5.如权利要求3所述的提拉式镀膜装置，其特征在于，所述旋转夹料机构顶部与所述提拉机构相连，所述旋转夹料机构包括旋转台、样品夹具、和旋转驱动装置，所述样品夹具内夹持有基片，所述旋转台的下表面上设置有旋转轨道，所述样品夹具与所述旋转轨道滑动配合且能沿所述旋转轨道运动，所述旋转驱动装置用于驱动所述样品夹具沿着所述旋转轨道水平旋转。
6.如权利要求5所述的提拉式镀膜装置，其特征在于，所述旋转轨道为圆形轨道。
7.如权利要求5所述的提拉式镀膜装置，其特征在于，所述控制装置包括移动控制结构和旋转控制结构，所述移动控制机构与所述驱动机构连接并用于控制伸缩架的上下移动，所述旋转控制机构与所述旋转驱动装置连接并用于控制所述样品夹具上的基片在旋转轨道内的运动。
8.如权利要求5所述的提拉式镀膜装置，其特征在于，所述样品夹具为夹口可调型夹具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201721860963.4U CN207723006U (zh) | 2017-12-27 | 2017-12-27 | 一种提拉式镀膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201721860963.4U CN207723006U (zh) | 2017-12-27 | 2017-12-27 | 一种提拉式镀膜装置 |
Publications (1)
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| CN207723006U true CN207723006U (zh) | 2018-08-14 |
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Family Applications (1)
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| CN201721860963.4U Active CN207723006U (zh) | 2017-12-27 | 2017-12-27 | 一种提拉式镀膜装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN207723006U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112934593A (zh) * | 2021-01-25 | 2021-06-11 | 陶汉成 | 一种半导体单晶硅提拉机 |
| CN116145120A (zh) * | 2023-02-03 | 2023-05-23 | 中国石油大学(华东) | 一种油管表面化学镀的装置及方法 |
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2017
- 2017-12-27 CN CN201721860963.4U patent/CN207723006U/zh active Active
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