CN203462120U - 一种矩形平面磁控溅射阴极 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及磁控溅射镀膜生产设备技术领域，具体来说是一种矩形平面磁控溅射阴极，包括中靶材压条、中压条、边靶材压条、边压条、背板、冷却板、阴极座、支撑块、磁轭、中立柱、中磁铁、中磁靴、边磁铁、边磁靴和靶材，其特征在于阴极座为不导磁的不锈钢材料，阴极座内设有磁轭，磁轭为高导磁材料并通过螺栓和阴极座固定在一起，磁轭上设有磁铁组件，阴极座宽度大于两侧边磁铁的总跨度，靶材的总跨度大于边磁铁的总跨度。本实用新型同现有技术相比，靶材一次安装后，经过溅射，刻蚀区域位于靶材的一侧，然后将靶材水平旋转180°再重新安装在阴极上，进行第二次溅射，使两次的刻蚀区域连接成一个较大的刻蚀区域，从而提高靶材的利用率。
Description
[技术领域]
本实用新型涉及磁控溅射镀膜生产设备技术领域，具体来说是一种矩形平面磁控溅射阴极。
[背景技术]
磁控溅射技术已经广泛应用于溅射功能膜，装饰膜等。磁控溅射需要真空，因此磁控溅射靶需要置于真空中，因为磁控溅射具有“高速”、“低温”的特点且可以将任何镀材的薄膜沉积在任何基材上，因此磁控溅射已成为溅射技术的主流并广泛应用于大面积镀膜生产中。
通常矩形平面磁控溅射阴极的靶面有效尺寸和靶座内磁铁的宽度相当。阴极工作时，真空腔室内的工艺气体发生辉光放电，电离出的离子轰击靶材，轰击出靶材材料并沉积在基片上，由于受到辉光放电区域的限制，电离出的工艺气体离子被限制在一个狭窄环形的跑道上，对应的靶面上形成一个狭窄的刻蚀区域，随着辉光放电的进行，靶面刻蚀区域呈“V”形且刻蚀区域越来越狭窄，随着“V”形沟槽的逐渐加深，刻蚀会变得更为剧烈，靶材很快被刻蚀“穿透”，此时必须更换靶材，因此矩形平面阴极的靶材利用率很低，一般在30%左右。
[实用新型内容]
本实用新型的目的是提供一种结构新颖、能有效解决矩形平面阴极的靶材利用率很低等问题的一种矩形平面磁控溅射阴极。
为实现上述目的，设计一种矩形平面磁控溅射阴极,包括中靶材压条1、中压条2、边靶材压条3、边压条4、背板5、冷却板6、阴极座7、支撑块8、磁轭9、中立柱10、中磁铁11、中磁靴12、边磁铁13、边磁靴14和靶材15，其特征在于阴极座7为不导磁的不锈钢材料，阴极座内设有磁轭9，磁轭9为高导磁材料并通过螺栓和阴极座7固定在一起，磁轭9上设有磁铁组件，所述的磁铁组件包括四列磁铁，中部两列为中磁铁，极性相同；两侧为边磁铁，极性相同，中磁铁和边磁铁极性相反；磁铁上部设有磁靴，磁铁组件顶部设有冷却板，冷却板顶部设有背板，背板上部设有靶材，所述的阴极座7宽度大于两侧边磁铁的总跨度，靶材的总跨度大于边磁铁的总跨度。
所述的阴极座的宽度大于两侧边磁铁的总跨度的1.5倍，靶材15的总跨度大于边磁铁14总跨度的1.5倍。
所述的冷却板6的材料为铜。
所述的两中磁铁之间设有中立柱，两边磁铁与阴极座7之间分别设有支撑块，冷却板6的中间位置由中立柱10支撑，两侧分别由支撑块8和阴极座7支撑。
所述的背板5上部安装中压条2和边压条4。
所述的阴极能允许靶材水平旋转180°安装，旋转后第一次的刻蚀区域被移开。
所述的冷却板6、中压条2和边压条4、背板5、中立柱10之间通过螺栓固定在阴极座7上且通过螺栓的紧固力将密封材料压紧，支撑块8、背板5、冷却板6通过螺栓紧固在一起并把密封材料压紧，形成对冷却水通道的密封。
本实用新型同现有技术相比，将靶材第一次安装后，经过溅射，刻蚀区域位于靶材的一侧，然后将靶材水平旋转180°再重新安装在阴极上，进行第二次溅射，使两次的刻蚀区域恰好连接成一个较大的刻蚀区域，从而提高靶材的利用率。
[附图说明]
图1为本实用新型的剖面图；
如图所示，图中：1.中靶材压条 2.中压条 3.边靶材压条 4.边压条 5.背板 6.冷却板 7.阴极座 8.支撑块 9.磁轭 10.中立柱 11.中磁铁 12.中磁靴 13.边磁铁 14.边磁靴 15.靶材。
[具体实施方式]
下面结合附图对本实用新型作进一步说明，这种装置的结构和原理对本专业的人来说是非常清楚的。
实施例1
如图1所示，矩形平面磁控溅射阴极包括中靶材压条1、中压条2、边靶材压条3、边压条4、背板5、冷却板6、阴极座7、支撑块8、磁轭9、中立柱10、中磁铁11、中磁靴12、边磁铁13、边磁靴14和靶材15，阴极座7为不导磁的不锈钢材料，阴极座内设有磁轭9，磁轭9为高导磁材料并通过螺栓和阴极座7固定在一起，磁轭9上设有磁铁组件，磁铁组件包括四列磁铁，中部两列为中磁铁，极性相同；两侧为边磁铁，极性相同，中磁铁和边磁铁极性相反；磁铁上部设有磁靴，磁铁组件顶部设有冷却板，冷却板顶部设有背板，背板上部设有靶材，背板5上部安装中压条2和边压条4，阴极座的宽度大于两侧边磁铁的总跨度的1.5倍，靶材15的总跨度大于边磁铁14总跨度的1.5倍。阴极能允许靶材水平旋转180°安装，旋转后第一次的刻蚀区域被移开。
两中磁铁之间设有中立柱，两边磁铁与阴极座7之间分别设有支撑块，冷却板6的中间位置由中立柱10支撑，两侧分别由支撑块8和阴极座7支撑。
冷却板6、中压条2和边压条4、背板5、中立柱10之间通过螺栓固定在阴极座7上且通过螺栓的紧固力将密封材料压紧，支撑块8、背板5、冷却板6通过螺栓紧固在一起并把密封材料压紧，形成对冷却水通道的密封，冷却板6的材料为铜。
Claims (7)
1.一种矩形平面磁控溅射阴极,包括中靶材压条(1)、中压条(2)、边靶材压条(3)、边压条(4)、背板(5)、冷却板(6)、阴极座(7)、支撑块(8)、磁轭（9）、中立柱（10）、中磁铁（11）、中磁靴（12）、边磁铁（13）、边磁靴（14）和靶材（15），其特征在于阴极座(7)为不导磁的不锈钢材料，阴极座内设有磁轭(9)，磁轭(9)为高导磁材料并通过螺栓和阴极座(7)固定在一起，磁轭(9)上设有磁铁组件，所述的磁铁组件包括四列磁铁，中部两列为中磁铁，极性相同；两侧为边磁铁，极性相同，中磁铁和边磁铁极性相反；磁铁上部设有磁靴，磁铁组件顶部设有冷却板，冷却板顶部设有背板，背板上部设有靶材，所述的阴极座（7）宽度大于两侧边磁铁的总跨度，靶材的总跨度大于边磁铁的总跨度。
2.如权利要求1所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于所述的阴极座的宽度大于两侧边磁铁的总跨度的1.5倍，靶材(15)的总跨度大于边磁铁(13)总跨度的1.5倍。
3.如权利要求1所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于所述的冷却板(6)的材料为铜。
4.如权利要求1所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于两中磁铁之间设有中立柱(10)，两边磁铁与阴极座(7)之间分别设有支撑块(8)，冷却板(6)的中间位置由中立柱(10)支撑，两侧分别由支撑块(8)和阴极座(7)支撑。
5.如权利要求1所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于所述的背板（5)上部安装中压条(2)和边压条(4)。
6.如权利要求1所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于所述的阴极能允许靶材水平旋转180°安装，旋转后第一次的刻蚀区域被移开。
7.如权利要求1所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于所述的冷却板6、中压条(2)和边压条(4)、背板（5）、中立柱（10）之间通过螺栓固定在阴极座7上且通过螺栓的紧固力将密封材料压紧，支撑块（8）、背板（5）、冷却板（6）通过螺栓紧固在一起并把密封材料压紧，形成对冷却水通道的密封。
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| CN201320527309.7U CN203462120U (zh) | 2013-08-27 | 2013-08-27 | 一种矩形平面磁控溅射阴极 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203462120U true CN203462120U (zh) | 2014-03-05 |
Family
ID=50174495
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103602953A (zh) * | 2013-08-27 | 2014-02-26 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 一种矩形平面磁控溅射阴极 |
| CN108220899A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种溅射设备 |
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2013
- 2013-08-27 CN CN201320527309.7U patent/CN203462120U/zh not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
| CN103602953A (zh) * | 2013-08-27 | 2014-02-26 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 一种矩形平面磁控溅射阴极 |
| CN108220899A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种溅射设备 |
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Granted publication date: 20140305 |
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