CN1951861A - 制备高纯度自由流动的金属氧化物粉末的方法 - Google Patents
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Abstract
根据本发明,使用等离子体装置加工金属氧化物粉末,如氧化钇和氧化铝粉末(给料物质)。该方法一般包括用等离子体装置空中加热和熔化给料物质。所述的等离子体装置包括一个具有所必要的动力供应和冷却***的等离子体焰炬、一个粉末进料器、一个收集粉末的容器和一个除尘***。将加热后的粉末形成熔化的球形小滴并且在自由下落的条件下使其迅速地冷却。该等离子体致密法除去了一些杂质氧化物,改变了颗粒的形状并且增加了粉末的表观密度。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求2005年10月21日提交的基于35 U.S.C.§119(e)的美国临时申请号60/728,760的优先权,其内容通过引用全部被结合。
技术领域
本发明一般地涉及制备作为涂层应用的陶瓷粉末。具体地,本发明涉及纯化用于热喷涂应用的金属氧化物粉末,如氧化钇和氧化铝粉末。
背景技术
高纯度的金属氧化物材料对于科学研究和许多高技术应用和加工过程是必需的。这些材料用来构成元件或形成相似纯度的表面涂层。例如,其他参考文献报导了一种半导体IC设计真空室的氧化钇表面涂层和一种在等离子体处理室中的元件的高纯度氧化钇和氧化铝的多层涂层***。其他文献公开了一种静电夹盘的高纯度氧化铝的阻挡层。
热喷涂法,尤其是等离子喷涂法,被广泛地用于在不同的基底上形成金属氧化物涂层。为了能够沉淀高纯度的金属氧化物涂层,要求给料材料必须具有很高的纯度并能够稳定地和持续地注入火焰中。
通常地用复杂并且昂贵的化学方法制备高纯度的金属氧化物。为了制备适用于热喷涂法的材料,目前使用了很多方法以改变材料的形状。其中,等离子体致密法能够制备球形和高密度的粉末。这些特性都能够改进粉末的流动性。原料良好的流动性有助于确保涂层沉积过程的可重复性,从而确保涂层品质的稳定性。
目前本领域所用的制备高纯化氧化钇粉末的方法昂贵并且制备的粉末具有相对差的流动特性。本领域仍然需要一种纯化粉末的方法,它既能改进流动特性又能够比现在使用的方法成本更低。
发明内容
按照本发明的一方面,用等离子体装置加工用火焰高温分解、凝聚、熔融和粉碎、化学沉淀或其他化学方法制备的金属氧化物粉末(称作给料材料),如氧化钇和氧化铝。该方法一般地包括用等离子体装置空中加热和熔化给料材料。该等离子体装置包括一个具有所必要的动力供应和冷却***的等离子体焰炬、一个粉末进料器、一个收集粉末的容器和一个除尘***。将加热后的粉末形成熔化的球形小滴并在自由下落的条件下使其迅速地冷却。根据加工后的粉末的大小和表观密度来控制它们的空中时间,使熔化的小滴可以在到达收集室之前在充足的时间内固化。在主收集室下游的除尘过滤器中回收被等离子气体吸入的较细的颗粒。
可以用等离子体致密法以多种途径来改进粉末给料材料的物理和化学性质,这部分地取决于基础粉末材料的组成和结构。比如,可以得到改进的粉末的流动性。当通过热喷涂枪加料时,光滑的球状化颗粒能够提供比单独的球形或锯齿形颗粒更稳定的流体。这使得流体能以所需的速度流动而没有阻塞的问题。另一个改进是减少了粉末的孔隙率。当基础粉末材料熔化时孔隙就消除了。减少的孔隙率在很多粉末冶金应用上都是有益的并且能够生成密度更大的涂层。类似地,加工后的粉末由于具有球形颗粒而增加了总密度,从而产生了更密的涂层或部件。另一个改进的例子是提高了粉末的纯度。所述的空中熔化法可以通过蒸发特定的杂质来提高粉末的纯度。可以使用一种途径或多种途径使粉末污染减少至期望的水平,这取决于一些因素如基础粉末材料的原始的组成。
本发明的一个方面提供了一种加工金属氧化物粉末,氧化钇的方法。该方法包括以下步骤:将粉末给料材料注入等离子体流中;用所述的等离子体流将该粉末给料材料熔化以形成熔化的小滴;和在自由下落的条件下冷却所述的熔化的小滴以形成凝固的球形小滴,其中所述的凝固的球形小滴具有比粉末给料材料更高的密度和纯度水平。本发明的另一方面提供了一种高纯度自由流动的金属氧化物粉末。用上述方法制备该粉末并将在后面进行更详细的讨论。
等离子体致密和球化可以形成改进的颗粒表面光洁度。通过等离子体致密法消除个体颗粒的锐利边缘。改进的个体粉末颗粒的光滑性使得到的涂层表面变得更加光滑。另一个优点是由于个体颗粒具有更高的密度得到的涂层会更加致密。
附图说明
所附的附图说明了本发明的实施例并且与说明书一起用于解释本发明的原理,该附图被包括来提供了对发明进一步的理解并且被引入并组成了说明书的一部分并和。在附图中:
图1提供了根据本发明的用于制备高纯度自由流动的金属氧化物粉末的等离子体装置示意图;
图2提供了未经等离子体致密的粉末材料的图;
图3提供了等离子体致密后的粉末材料的图;和
图4提供了加工金属氧化物粉末的方法的流程图。
具体实施方式
以下详细的说明书将进一步描述上述发明的每个方面。
图1表示根据本发明的用于制备高纯度和自由流动的金属氧化物粉末的等离子体装置100的示意图。所提供的等离子体***110产生了等离子体烟流112。该等离子体***110通常地包括一个等离子体焰炬、一个动力供应和冷却***(各自没有表示)。该等离子体焰炬可以是DC等离子体焰炬或感应等离子体焰炬。将粉末形式的未加工的金属氧化物材料122(如给料材料)从粉末进料器120注入等离子体烟流112中。该未加工的材料可以是用火焰高温分解、凝聚、熔融和粉碎、化学沉淀或其他化学方法生产的陶瓷氧化物粉末。将该未加工材料粉末用等离子体流112加热并且形成熔化的球形小滴,将该球形小滴在空中逐渐地冷却。在粉末收集室130中收集得到的粉末颗粒球体132,同时在主收集室130下游的除尘***140中回收被等离子气体吸入的较细颗粒134。
该等离子体焰炬可以是直流等离子体焰炬或感应等离子体焰炬。等离子体***110可以在环境空气、低压、真空或受控大气中操作。通常地,在特定的实施例中,加入该等离子体***中的超过约90%的粉末122能够熔化或部分地熔化并且然后固化并且被收集在粉末收集室130中。在此过程中,减少了杂质如硅土。同时,在熔化和固化的过程中消除了起始粉末122的大部分的孔隙。固化过的粉末132具有光滑的表面和球状的形状。例如,根据本发明纯化的用等离子体致密化的氧化钇粉末具有高纯度(大于约99%)、高密度(大于约1.5g/cc)和优良的流动性(小于约60s/50g)。优选的表观密度、流动性和颗粒大小分布分别地是约1.8/cc、约50s/50g和约5-100μm。所述的粉末尤其地适合制备涂层,该涂层可以在含有卤素气体的环境中耐受高化学腐蚀和等离子体腐蚀的。
图2提供了等离子体致密之前的粉末材料的图。正如图2所示,未加工的粉末起始材料122具有不规则的形状并且每个颗粒的表面是粗糙的。另外,颗粒趋于凝聚。图3提供了根据本发明的等离子体致密后的粉末材料的图。等离子体致密之后,每个颗粒132的形状变成球形并且每个颗粒的表面是光滑的。此外,没有观察到颗粒的凝聚。
用ICP-OE或ICP-MS法分析未加工的和加工后的粉末的化学性质。如表1所示,氧化钇的纯度由99.95%增至99.98%并且氧化铝的纯度由99.85%增至99.90%。同时,在等离子体致密之后一些杂质氧化物,尤其是钠和硅的二氧化物的含量显著地减少。
表1-粉末的化学性质
成分 | 氧化钇(重量%) | 氧化铝(重量%) | ||
等离子体致密之前 | 等离子体致密之后 | 等离子体致密之前 | 等离子体致密之后 | |
氧化钇 | 99.95 | 99.98 | -- | -- |
氧化铝 | 0.006 | 0.003 | 99.85 | 99.90 |
钠 | 0.006 | <0.002 | 0.10 | 0.05 |
二氧化硅 | 0.016 | <0.002 | 0.01 | 0.01 |
当用ASTM B212-99标准测量时,等离子致密化过的氧化钇粉末的表观密度由1.2增至2.2g/cm3。表观密度的增加和颗粒形状的改变有助于改进流动性,所述的流动性可以确保涂层沉积过程的稳定性和可重复性,并且从而确保涂层品质的稳定性。
图4提供了加工金属氧化物粉末的方法200的一个实施例的流程图。在步骤210中,将金属氧化物粉末给料材料注入等离子体流中,如来自前面按照图1中所述的装置的等离子体流。在步骤220中,等离子体流将粉末给料材料熔化成熔化的小滴。该等离子体流还可以将给料材料中的杂质烧尽。接下来,在步骤230中,将熔化的金属小滴在自由下落的条件下冷却以形成凝固的球形小滴。在步骤240中,将该凝固的球形小滴收集在粉末收集室中。在步骤250中,优选地收集任何低于所需尺寸的小滴(如粉尘颗粒)并且用例如除尘***分离。步骤240和250可以同时地或依次地进行。
总之,可以用等离子体致密法制备高纯度自由流动的金属氧化物粉末。所述的等离子体致密法除去了一些杂质氧化物,改变了颗粒的形状并且增加了粉末的表观密度。因此,用等离子体致密化过的粉末所制得的涂层具有更高的纯度和更稳定的品质。通过在此处所写的说明书中特别地指出的结构将使本发明的特征和其他优点实现和获得。应当明白,在前的简述和详述都是举例和说明并且是为了对如后所要求的本发明提供进一步的解释。
Claims (15)
1、一种加工金属氧化物粉末的方法,其包括以下步骤:
将粉末给料材料注入等离子体流中
用所述的等离子体流熔化该粉末给料材料以形成熔化的小滴;和
将所述的熔化的小滴在自由下落的条件下冷却以形成凝固的球形小滴,其中所述的凝固的球形小滴具有比粉末给料材料更高的密度和纯度水平。
2、根据权利要求1的方法,其进一步包括收集所述的超出预定尺寸的凝固的球形小滴的步骤。
3、根据权利要求2的方法,其中所述的收集的步骤还包括分离所述的小于预定尺寸的凝固的球形小滴。
4、根据权利要求3的方法,其中在除尘过滤器中回收所述的低于预定尺寸的凝固的球形小滴。
5、根据权利要求2的方法,其中所收集的凝固的球形小滴的颗粒尺寸为约5μm到150μm。
6、根据权利要求1的方法,其中所述的自由下落条件的持续时间根据加工后的粉末的尺寸和表观密度而变化,使所述的熔化的小滴空中固化。
7、根据权利要求1的方法,其中所述的粉末给料材料是之前经过致密化加工的凝固的球形小滴。
8、根据权利要求1的方法,其中所述的凝固球形小滴具有大于99%的重量纯度,大于约1.5g/cc的表观密度,和小于约60s/50g的流动性。
9、根据权利要求1的方法,其中所述的粉末给料材料是用火焰高温分解、凝聚、熔融和粉碎、化学沉淀或其他化学方法制备的金属氧化物粉末。
10、一种高纯度自由流动的粉末,其是通过以下方法制备的:
将粉末给料材料注入等离子体流中;
用所述的等离子体流熔化该粉末给料材料以形成熔化的小滴;和
将所述的熔化的小滴在自由下落的条件下冷却以形成凝固的球形小滴。
11、根据权利要求10的粉末,其中所述的凝固的球形小滴具有比粉末给料材料更高的密度和纯度水平。
12、根据权利要求10的粉末,其中所述的凝固的球形小滴具有相对于粉末给料材料改进的粉末流动性。
13、根据权利要求10的粉末,其中所述的凝固的球形小滴具有相对于粉末给料材料降低了的孔隙率。
14、根据权利要求10的粉末,其中所述的凝固的球形小滴的总密度比粉末给料材料的密度大。
15、权利要求10的粉末,其中所述的凝固的球形小滴的纯度大于99%,所述的凝固的球形小滴的表观密度大于1.0g/cc,和所述的凝固的球形小滴的流动性小于60s/50g。
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102515233A (zh) * | 2011-12-29 | 2012-06-27 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种利用热等离子体制备氧化铝的方法及其产品 |
CN103215535A (zh) * | 2013-04-16 | 2013-07-24 | 中国科学院金属研究所 | 一种等离子刻蚀腔体表面防护涂层的制备方法 |
CN103691948A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-04-02 | 山东晶鑫晶体科技有限公司 | 一种等离子加工高密度氧化铝的装置及方法 |
CN103769594A (zh) * | 2013-11-25 | 2014-05-07 | 王利民 | 一种等离子雾化制备高纯度球形超细/纳米级粉末材料的工艺方法和装备 |
CN107931626A (zh) * | 2017-12-18 | 2018-04-20 | 南通金源智能技术有限公司 | 一种新型3d打印铝合金粉末的成分及制备方法 |
CN108526472A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-09-14 | 宝鸡市新福泉机械科技发展有限责任公司 | 一种自由电弧制备金属球形粉末的装置和方法 |
CN108602120A (zh) * | 2016-02-10 | 2018-09-28 | 犹他大学研究基金会 | 使固溶体中具有溶解于其中的氧的金属脱氧的方法 |
CN108608002A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-10-02 | 王海军 | 一种利用高能高速等离子焰流球化粉末的装置及方法 |
CN108620597A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-10-09 | 宝鸡市新福泉机械科技发展有限责任公司 | 一种高能等离子焰流制备球形粉末的装置和方法 |
CN108675773A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-10-19 | 哈尔滨工业大学 | 一种燃烧合成气雾法制备氧化铝基纳米共晶复合微粉的方法 |
CN109923954A (zh) * | 2016-10-31 | 2019-06-21 | 3M创新有限公司 | 用于电磁干扰(emi)应用的高负载水平复合物 |
CN113913723A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-01-11 | 矿冶科技集团有限公司 | 一种微米级多孔结构热障涂层粉末及其制备方法 |
WO2022267199A1 (zh) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | 江苏天楹等离子体科技有限公司 | 一种等离子体制备金属粉末的设备及其方法 |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8603930B2 (en) | 2005-10-07 | 2013-12-10 | Sulzer Metco (Us), Inc. | High-purity fused and crushed zirconia alloy powder and method of producing same |
EP1777302B1 (en) * | 2005-10-21 | 2009-07-15 | Sulzer Metco (US) Inc. | Plasma remelting method for making high purity and free flowing metal oxides powder |
US8784949B2 (en) | 2007-12-20 | 2014-07-22 | Eidgenossische Technische Hochschule Zurich | Remote non-thermal atmospheric plasma treatment of temperature sensitive particulate materials and apparatus therefore |
US8546284B2 (en) * | 2008-05-07 | 2013-10-01 | Council Of Scientific & Industrial Research | Process for the production of plasma sprayable yttria stabilized zirconia (YSZ) and plasma sprayable YSZ powder produced thereby |
US8057203B2 (en) * | 2008-10-02 | 2011-11-15 | Gap Engineering LLC | Pyrospherelator |
JP5365487B2 (ja) * | 2008-12-11 | 2013-12-11 | 東ソー株式会社 | 表面が平滑なセラミックビーズおよびその製造方法 |
JP2011157261A (ja) * | 2010-01-07 | 2011-08-18 | Mitsubishi Materials Corp | 合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法 |
US9555473B2 (en) | 2011-10-08 | 2017-01-31 | The Boeing Company | System and method for increasing the bulk density of metal powder |
US10477665B2 (en) | 2012-04-13 | 2019-11-12 | Amastan Technologies Inc. | Microwave plasma torch generating laminar flow for materials processing |
US9023259B2 (en) * | 2012-11-13 | 2015-05-05 | Amastan Technologies Llc | Method for the densification and spheroidization of solid and solution precursor droplets of materials using microwave generated plasma processing |
US9206085B2 (en) * | 2012-11-13 | 2015-12-08 | Amastan Technologies Llc | Method for densification and spheroidization of solid and solution precursor droplets of materials using microwave generated plasma processing |
FR2998561B1 (fr) * | 2012-11-29 | 2014-11-21 | Saint Gobain Ct Recherches | Poudre haute purete destinee a la projection thermique |
EP3036195B1 (en) | 2013-08-19 | 2020-07-01 | University Of Utah Research Foundation | Producing a titanium product |
WO2016090052A1 (en) | 2014-12-02 | 2016-06-09 | University Of Utah Research Foundation | Molten salt de-oxygenation of metal powders |
CN108025365B (zh) | 2015-07-17 | 2022-06-03 | Ap&C高端粉末涂料公司 | 等离子体雾化金属粉末制造工艺及其*** |
US10987735B2 (en) | 2015-12-16 | 2021-04-27 | 6K Inc. | Spheroidal titanium metallic powders with custom microstructures |
WO2017106601A1 (en) | 2015-12-16 | 2017-06-22 | Amastan Technologies Llc | Spheroidal dehydrogenated metals and metal alloy particles |
JP7144401B2 (ja) | 2016-04-11 | 2022-09-29 | エーピーアンドシー アドバンスド パウダーズ アンド コーティングス インコーポレイテッド | 反応性金属粉末空中熱処理プロセス |
JP6659872B2 (ja) * | 2016-09-08 | 2020-03-04 | セウォン ハードフェイシング カンパニー リミテッドSewon Hard Facing Co.,Ltd. | 高流動性溶射用粒子及びその製造方法 |
US11077497B2 (en) | 2017-06-07 | 2021-08-03 | Global Titanium Inc. | Deoxidation of metal powders |
FR3077287B1 (fr) * | 2018-01-31 | 2023-09-22 | Saint Gobain Ct Recherches | Poudre pour revetement de chambre de gravure |
KR102085420B1 (ko) * | 2018-03-28 | 2020-03-05 | (주)세원하드페이싱 | 유동성 향상을 위한 마이크로파 플라즈마를 이용한 세라믹 분말의 표면 처리 방법 |
AU2019290663B2 (en) | 2018-06-19 | 2023-05-04 | 6K Inc. | Process for producing spheroidized powder from feedstock materials |
SG11202111578UA (en) | 2019-04-30 | 2021-11-29 | 6K Inc | Lithium lanthanum zirconium oxide (llzo) powder |
CA3134573A1 (en) | 2019-04-30 | 2020-11-05 | Sunil Bhalchandra BADWE | Mechanically alloyed powder feedstock |
WO2021118762A1 (en) | 2019-11-18 | 2021-06-17 | 6K Inc. | Unique feedstocks for spherical powders and methods of manufacturing |
US11590568B2 (en) | 2019-12-19 | 2023-02-28 | 6K Inc. | Process for producing spheroidized powder from feedstock materials |
US10907239B1 (en) | 2020-03-16 | 2021-02-02 | University Of Utah Research Foundation | Methods of producing a titanium alloy product |
CN116034496A (zh) | 2020-06-25 | 2023-04-28 | 6K有限公司 | 微观复合合金结构 |
US11963287B2 (en) | 2020-09-24 | 2024-04-16 | 6K Inc. | Systems, devices, and methods for starting plasma |
CA3196653A1 (en) | 2020-10-30 | 2022-05-05 | Sunil Bhalchandra BADWE | Systems and methods for synthesis of spheroidized metal powders |
JP7359136B2 (ja) | 2020-12-22 | 2023-10-11 | 信越化学工業株式会社 | 粒子状溶射材料及び希土類酸化物溶射材料の製造方法、並びに希土類酸化物溶射膜及びその形成方法 |
KR102416127B1 (ko) * | 2021-11-01 | 2022-07-05 | (주)코미코 | 구상의 yof계 분말의 제조방법, 이를 통해 제조된 구상의 yof계 분말 및 yof계 코팅층 |
CN115159979A (zh) * | 2022-07-07 | 2022-10-11 | 郑州振中电熔新材料有限公司 | 一种利用氧化钇废料制造电熔钙钇复合稳定氧化锆的方法 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3943211A (en) * | 1971-05-06 | 1976-03-09 | Glasrock Products, Inc. | Method of preparing magnesium oxide spheroids |
US4076640A (en) * | 1975-02-24 | 1978-02-28 | Xerox Corporation | Preparation of spheroidized particles |
US4019842A (en) * | 1975-02-24 | 1977-04-26 | Xerox Corporation | Apparatus for forming magnetite electrostatographic carriers |
EP0134808B1 (en) * | 1983-01-24 | 1990-09-12 | Gte Products Corporation | Method for making ultrafine metal powder |
US4520114A (en) * | 1983-09-26 | 1985-05-28 | Celanese Corporation | Production of metastable tetragonal zirconia |
DE259844T1 (de) * | 1986-09-08 | 1988-08-11 | Gte Products Corp., Wilmington, Del., Us | Feine sphaerische pulverteilchen und verfahren zu ihrer herstellung. |
FR2626797B1 (fr) * | 1988-02-04 | 1991-04-19 | Commissariat Energie Atomique | Procede et installation pour l'amelioration de la qualite d'une poudre metallique ou ceramique |
US4783214A (en) * | 1988-02-29 | 1988-11-08 | Gte Products Corporation | Low oxygen content fine shperical particles and process for producing same by fluid energy milling and high temperature processing |
US5124091A (en) * | 1989-04-10 | 1992-06-23 | Gte Products Corporation | Process for producing fine powders by hot substrate microatomization |
FR2690638B1 (fr) * | 1992-05-04 | 1997-04-04 | Plasma Technik Sa | Procede et dispositif pour l'obtention de poudres a plusieurs composants et susceptibles d'etre projetees. |
JP3350139B2 (ja) * | 1993-03-31 | 2002-11-25 | 三菱レイヨン株式会社 | 球状シリカ粒子の製造方法 |
JP3585967B2 (ja) * | 1994-10-07 | 2004-11-10 | 株式会社東芝 | 蛍光体の製造方法 |
JPH10137574A (ja) * | 1996-07-26 | 1998-05-26 | Nippon Denko Kk | 粒子径大なる球状無機物粒子の製造方法 |
US6569397B1 (en) * | 2000-02-15 | 2003-05-27 | Tapesh Yadav | Very high purity fine powders and methods to produce such powders |
FR2764163B1 (fr) * | 1997-05-30 | 1999-08-13 | Centre Nat Rech Scient | Torche a plasma inductif a injecteur de reactif |
JP3510993B2 (ja) * | 1999-12-10 | 2004-03-29 | トーカロ株式会社 | プラズマ処理容器内部材およびその製造方法 |
US6544665B2 (en) * | 2001-01-18 | 2003-04-08 | General Electric Company | Thermally-stabilized thermal barrier coating |
US6916534B2 (en) * | 2001-03-08 | 2005-07-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermal spray spherical particles, and sprayed components |
JP4488651B2 (ja) * | 2001-05-23 | 2010-06-23 | 高周波熱錬株式会社 | 熱プラズマによるセラミック又は金属の球状粉末の製造方法および装置 |
KR100687178B1 (ko) * | 2001-07-27 | 2007-02-27 | 티디케이가부시기가이샤 | 구형상 산화물 분말의 제조방법 및 구형상 분말 제조장치 |
JP3931222B2 (ja) * | 2001-09-05 | 2007-06-13 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 落下塔での制動を利用する衝突凝固による均一組成・均一組織材料の製造方法 |
US20030138658A1 (en) * | 2002-01-22 | 2003-07-24 | Taylor Thomas Alan | Multilayer thermal barrier coating |
US7118728B2 (en) * | 2002-05-08 | 2006-10-10 | Steward Advanced Materials, Inc. | Method and apparatus for making ferrite material products and products produced thereby |
US7357910B2 (en) * | 2002-07-15 | 2008-04-15 | Los Alamos National Security, Llc | Method for producing metal oxide nanoparticles |
WO2005017226A1 (en) * | 2003-01-10 | 2005-02-24 | University Of Connecticut | Coatings, materials, articles, and methods of making thereof |
JP3639279B2 (ja) * | 2003-01-24 | 2005-04-20 | 高周波熱錬株式会社 | 熱プラズマによる粉末の合成/精製または球状化方法とその装置 |
CA2551020C (en) | 2003-08-28 | 2011-10-18 | Tekna Plasma Systems Inc. | Process for the synthesis, separation and purification of powder materials |
JP2005179109A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Kyocera Corp | 球状アルミナ、単結晶サファイア、GaN系半導体用基板、GaN系半導体装置、液晶プロジェクタ用透明板および液晶プロジェクタ装置 |
US7291403B2 (en) * | 2004-02-03 | 2007-11-06 | General Electric Company | Thermal barrier coating system |
US7723249B2 (en) | 2005-10-07 | 2010-05-25 | Sulzer Metco (Us), Inc. | Ceramic material for high temperature service |
EP1777302B1 (en) * | 2005-10-21 | 2009-07-15 | Sulzer Metco (US) Inc. | Plasma remelting method for making high purity and free flowing metal oxides powder |
-
2006
- 2006-10-12 EP EP06122150A patent/EP1777302B1/en not_active Not-in-force
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- 2006-10-23 JP JP2006287984A patent/JP5328092B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-02-11 US US13/025,231 patent/US8518358B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102515233A (zh) * | 2011-12-29 | 2012-06-27 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种利用热等离子体制备氧化铝的方法及其产品 |
CN103215535A (zh) * | 2013-04-16 | 2013-07-24 | 中国科学院金属研究所 | 一种等离子刻蚀腔体表面防护涂层的制备方法 |
CN103215535B (zh) * | 2013-04-16 | 2014-10-22 | 中国科学院金属研究所 | 一种等离子刻蚀腔体表面防护涂层的制备方法 |
CN103769594A (zh) * | 2013-11-25 | 2014-05-07 | 王利民 | 一种等离子雾化制备高纯度球形超细/纳米级粉末材料的工艺方法和装备 |
CN103691948A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-04-02 | 山东晶鑫晶体科技有限公司 | 一种等离子加工高密度氧化铝的装置及方法 |
CN108602120B (zh) * | 2016-02-10 | 2021-03-09 | 犹他大学研究基金会 | 使固溶体中具有溶解于其中的氧的金属脱氧的方法 |
CN108602120A (zh) * | 2016-02-10 | 2018-09-28 | 犹他大学研究基金会 | 使固溶体中具有溶解于其中的氧的金属脱氧的方法 |
CN109923954A (zh) * | 2016-10-31 | 2019-06-21 | 3M创新有限公司 | 用于电磁干扰(emi)应用的高负载水平复合物 |
CN107931626A (zh) * | 2017-12-18 | 2018-04-20 | 南通金源智能技术有限公司 | 一种新型3d打印铝合金粉末的成分及制备方法 |
CN108526472A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-09-14 | 宝鸡市新福泉机械科技发展有限责任公司 | 一种自由电弧制备金属球形粉末的装置和方法 |
CN108608002A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-10-02 | 王海军 | 一种利用高能高速等离子焰流球化粉末的装置及方法 |
CN108620597A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-10-09 | 宝鸡市新福泉机械科技发展有限责任公司 | 一种高能等离子焰流制备球形粉末的装置和方法 |
CN108675773A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-10-19 | 哈尔滨工业大学 | 一种燃烧合成气雾法制备氧化铝基纳米共晶复合微粉的方法 |
CN108675773B (zh) * | 2018-07-10 | 2021-07-06 | 哈尔滨工业大学 | 一种燃烧合成气雾法制备氧化铝基纳米共晶复合微粉的方法 |
WO2022267199A1 (zh) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | 江苏天楹等离子体科技有限公司 | 一种等离子体制备金属粉末的设备及其方法 |
CN113913723A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-01-11 | 矿冶科技集团有限公司 | 一种微米级多孔结构热障涂层粉末及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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