CN1834309A - 一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法 - Google Patents

一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法,将Si粉与多壁碳纳米管作为原材料置于氧化铝坩锅里,然后将坩锅放置于真空高温烧结炉里,以10~30℃/min的升温速率到1410~1600℃,保温时间3~9个小时,整个装置在Ar的气氛下进行;反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却,最后大量的灰白色的产物在氧化铝坩锅内;取出产物后用体积比为1∶2的氢氟酸与硝酸混合液,除去多余未反应的硅得到碳化硅纳米线粉体;此外,在坩锅的盖上也存在葫芦状纳米碳化硅。本发明产品的质量较高,无层错等缺陷,且碳化硅纳米线很直,直径分布比较均匀;制备了少量葫芦状纳米碳化硅;反应设备简单,方法简单,工艺易于操作。

Description

一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法
技术领域
本发明涉及一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法。
背景技术
碳化硅作为第三代半导体材料,拥有极为优异的机械性能、热力学和化学稳定性能、很高的热导率以及很大的带宽,被广泛用于高温、高频、高功率等恶劣的环境下。与大块的碳化硅单晶相比:单个的碳化硅纳米线拥有更出色的电学和力学性能。因为一维的碳化硅纳米材料的这些优异性能,碳化硅纳米线(纳米线)可作为增韧剂而用于高分子基、陶瓷基、金属基来制造复合材料。此外取向排列的碳化硅纳米线(纳米线)还拥有场发射效应,这个对于真空的微电子器件来说也是个潜在的应用。因此人们对于制造碳化硅纳米线倾注了很大的努力。国际上首次成功的合成碳化硅纳米线是由哈佛大学的C.M.Lieber研究小组在1995年实现的。其方法是利用碳纳米管和SiO或SiI2之间反应制备碳化硅纳米线。后来,有人通过碳热还原溶胶凝胶制得的含碳的硅胶制备碳化硅纳米线。也有利用化学气相沉积法在硅底物上得到了碳化硅纳米线。中国科技大学的钱逸泰研究小组则用SiCl4和CCl4作为反应物,金属钠作为催化剂,在高压反应釜中实现了碳化硅纳米线的生长。在众多的已知的碳化硅纳米线的合成方法中,由于存在诸多的不足和缺陷,碳化硅纳米线至今未能实现产业化。
发明内容
本发明的目的在于提供一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
Si粉与多壁碳纳米管作为起始的原材料置于氧化铝坩锅里,盖上盖子,然后将坩锅放置于真空高温烧结炉里,以10~30℃/min的升温速率一直升温到1410~1600℃,保温时间3~9个小时,整个装置在Ar的气氛下进行,以避免任何的氧化行为发生;反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却,最后发现大量的灰白色的产物在氧化铝坩锅内;取出产物后用体积比为1∶2的氢氟酸与硝酸混合液,除去多余未反应的硅得到碳化硅纳米线粉体;此外,在氧化铝坩锅的盖上也存在一薄层葫芦状纳米碳化硅。
本发明具有的有益的效果是:
1、碳化硅纳米线产品的质量较高,无层错等缺陷,且碳化硅纳米线很直,直径分布比较均匀;
2、制备了少量葫芦状纳米碳化硅;
3、反应设备简单,方法简单,工艺易于操作;碳化硅纳米线产品产量高,制备成本较低。
附图说明
图1是碳化硅纳米线的扫描电镜图;
图2是葫芦状纳米碳化硅的扫描电镜图。
具体实施方法
实验步骤:
原料:多壁碳纳米管,Si粉。
反应设备:真空高温烧结炉,氧化铝坩锅
Si粉与多壁碳纳米管作为起始的原材料置于氧化铝坩锅里,盖上盖子。然后将坩锅放置于真空高温烧结炉里,以10~30℃/min的升温速率一直升温到1410~1600℃,保温时间3~9个小时。整个装置在Ar的气氛下进行,以避免任何的氧化行为发生。反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却。最后发现大量的灰白色的产物在氧化铝坩锅内。取出产物后用氢氟酸与硝酸的混合液(体积比为1∶2)除去多余未反应的硅得到碳化硅纳米线粉体,见图1所示。此外,在氧化铝坩锅的盖上也存在一薄层纳米碳化硅,在扫描电镜下观察,发现该纳米碳化硅为葫芦状,见图2所示。
实施例1:
Si粉与多壁碳纳米管作为起始的原材料置于氧化铝坩锅里,然后将坩锅放置于真空高温烧结炉里,以30℃/min的升温速率一直升温到1450℃,保温时间6个小时。整个装置在Ar的气氛下进行,以避免任何的氧化行为发生。反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却。最后发现大量的灰白色的产物在氧化铝坩锅内。取出产物后用氢氟酸与硝酸的混合液(体积比为1∶2)除去多余未反应的硅得到碳化硅纳米线粉体,见图1所示。在氧化铝坩锅的盖上也存在一薄层纳米碳化硅,在扫描电镜下观察,发现该纳米碳化硅为葫芦状,见图2所示。
实施例2:
Si粉与多壁碳纳米管作为起始的原材料置于氧化铝坩锅里,然后将坩锅放置于真空高温烧结炉里,以10℃/min的升温速率一直升温到1410℃,保温时间9个小时。整个装置在Ar的气氛下进行,以避免任何的氧化行为发生。反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却。最后发现大量的灰白色的产物在氧化铝坩锅内。取出产物后用氢氟酸与硝酸的混合液(体积比为1∶2)除去多余未反应的硅得到碳化硅纳米线粉体。
实施例3:
Si粉与多壁碳纳米管作为起始的原材料置于氧化铝坩锅里,然后将坩锅放置于真空高温烧结炉里,以20℃/min的升温速率一直升温到1600℃,保温时间5个小时。整个装置在Ar的气氛下进行,以避免任何的氧化行为发生。反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却。最后发现大量的灰白色的产物在氧化铝坩锅内。取出产物后用氢氟酸与硝酸的混合液(体积比为1∶2)除去多余未反应的硅得到碳化硅纳米线粉体。

Claims (1)

1、一种合成两种不同形状碳化硅纳米线的方法,其特征在于该方法的步骤如下:Si粉与多壁碳纳米管作为起始的原材料置于氧化铝坩锅里,盖上盖子,然后将坩锅放置于真空高温烧结炉里,以10~30℃/min的升温速率一直升温到1410~1600℃,保温时间3~9个小时,整个装置在Ar的气氛下进行,以避免任何的氧化行为发生;反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却,最后发现大量的灰白色的产物在氧化铝坩锅内;取出产物后用体积比为1∶2的氢氟酸与硝酸混合液,除去多余未反应的硅得到碳化硅纳米线粉体;此外,在氧化铝坩锅的盖上也存在一薄层葫芦状纳米碳化硅。
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