CN1743916A - 微透镜、其制造方法、其阵列以及电光装置和电子设备 - Google Patents
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Abstract
本发明利用微透镜来抑制光聚光到一点上。微透镜(500)的结构具备：透镜周缘部(500A)，在微透镜(500)的中心轴(A)周围延伸；和透镜中央部(500B)，由透镜周缘部(500A)所包围。通过透镜中央部(500B)及透镜周缘部(500A)所聚光的光在作为聚光目的地的2维平面上分布成同心圆状使之具有相同的光强度。因而，可以抑制光聚光到一点。另外，因为通过透镜中央部(500B)及透镜周缘部(500A)所聚光的光聚光到像素的开口区域上，所以还可以使像素的执行开口率得到提高。
Description
技术领域
本发明涉及例如使用于液晶装置等电光装置中的微透镜、微透镜阵列、它们的制造方法以及具备该微透镜的电光装置和电子设备的技术领域。
背景技术
在液晶装置等的电光装置中，例如在对向基板上装入与各像素对应的微透镜，或者粘贴装入了这种多个微透镜的微透镜阵列板。通过利用这种微透镜阵列，能在电光装置中实现明亮的显示。也就是说，微透镜通过将从像背光源一样的光源所出射的光无损耗地聚光到各像素的开口区域上，使从光源所出射的光的利用效率得到提高。例如，包括这种微透镜的液晶装置一般是通过在除图像显示区域之外的部分上采用粘接树脂将对向基板和元件基板边进行间隙调整边加以密封并且在其中封入液晶来制造的，该对向基板内置有微透镜阵列，该元件基板对各像素形成有像素电极及薄膜晶体管之类的开关元件等。
在这种液晶装置中，为了减低亮度不均匀及色彩不均匀，使液晶层的厚度在液晶面板整体上变得均匀成为重要的因素。根据专利文献1所公开的技术，按原状使微透镜的周边部成为曲面，使微透镜的中央部成为平坦面。因此，减低微透镜的厚度，并通过使形成于微透镜上的树脂层厚度尽可能变薄，减低液晶层的厚度不均。
专利文献1：特开2000-193928号公报
对于这种电光装置，一般要求装置的长寿命化。
但是，由本申请发明人等确认出，一般情况下若使用微透镜，则对于例如液晶和取向膜之中的位于各像素开口区域中央的部分，因为光源光通过微透镜局部集中进行照射，所以在该部分上明显产生劣化。
另外，专利文献1所述的技术用来减低液晶层的厚度不均，没有考虑到本申请发明人等考虑到的对于因聚光而引起的像素区域内劣化所理解的叙述。再者，由于微透镜的中央部分为平坦面，因而本申请发明人等预想到微透镜的透镜特性不良。也就是说，专利文献1所述的微透镜不对入射到作为平坦面的中央部分上的光进行聚光，而按原状使之透射，中央部不作为透镜发挥作用。因而，存在下述技术性问题所在，也就是难以通过在开口区域内有效对光进行聚光来提高光的利用效率，因而难以提高显示亮度及对比度。
发明内容
因此，本发明是鉴于上述问题所在而做出的，其目的为提供微透镜的制造方法、微透镜、微透镜阵列以及电光装置和电子设备，可以在不损害如亮度及对比度这样的显示性能的状况下抑制因使光聚光到一点上而引起的液晶装置等寿命的下降。
本发明所涉及的微透镜的制造方法为了解决上述问题，具备下述四种工序，第一工序为，在透明基板上的形成微透镜的透镜曲面的透镜形成区域中，形成平面形状为岛状的腐蚀阻挡层；第二工序为，在上述腐蚀阻挡层上形成中间层；第三工序为，在上述中间层上形成腐蚀掩模层，该腐蚀掩模层在与上述腐蚀阻挡层对向的位置上设置有开口部；第四工序为腐蚀工序，采用各向同性腐蚀法，从上述开口部对上述中间层进行腐蚀，再从上述腐蚀阻挡层的侧面将上述透明基板与上述中间层一并进行腐蚀。
根据本发明所涉及的微透镜制造方法，首先在例如石英基板或玻璃基板这样的透明基板上的透镜形成区域内，形成腐蚀阻挡层。腐蚀阻挡层在透明基板上具有岛状的平面形状，例如具有比经过后述腐蚀工序最后形成了微透镜时的透镜形成区域在结果上小的尺寸。另外，在透明基板上例如形成多个微透镜的透镜曲面时将形成多个腐蚀阻挡层，该多个腐蚀阻挡层对准最后形成的多个微透镜的位置分散成岛状。
接着，在腐蚀阻挡层上形成中间层。中间层例如是采用像CVD法或者溅射法这样的广泛使用的膜形成方法来形成的。接着，在中间层上形成腐蚀掩模层，该腐蚀掩模层在与腐蚀阻挡层对向的位置上设置了开口部。腐蚀掩模层例如也可以直接形成到中间层上，使之避开与腐蚀阻挡层对向的位置。此外，开口部例如在形成腐蚀掩模层使之覆盖中间层上的整体之后，将包括与腐蚀阻挡层对向的位置在内的区域除去，来形成。这样一来，在透明基板上形成腐蚀阻挡层、中间层及腐蚀掩模层之后，采用各向同性腐蚀法从开口部对中间层进行腐蚀，再从腐蚀阻挡层的侧面将透明基板与中间层一起进行腐蚀。更为具体而言，随着中间层从开口部朝向外侧被腐蚀，腐蚀阻挡层外露，一边对通过除去中间层而从腐蚀阻挡层的侧面外露的透明基板进行腐蚀，一边继续对中间层进行腐蚀。
其结果为，在透明基板上借助于腐蚀阻挡层的存在，而形成特殊形状的透镜曲面。更为具体而言，从腐蚀阻挡层的侧面朝向腐蚀阻挡层的内侧行进的腐蚀面在腐蚀阻挡层的下方相遇，形成在腐蚀阻挡层侧变凸的透镜曲面。另一方面，朝向腐蚀阻挡层的外侧行进的腐蚀面形成在与形成于腐蚀阻挡层下方的透镜曲面相反侧变凸的透镜曲面。因为透明基板从腐蚀阻挡层的侧面及腐蚀后的中间层的下方进行腐蚀，所以上述的透镜曲面在透明基板的透镜形成区域上构成连续连结的一个透镜曲面。
如果对如上所形成的透镜曲面例如填充具有光透过性的树脂，就可以形成微透镜，该微透镜具有中央部分比周围凹陷的透镜曲面。这种微透镜可以将比周围凹陷的透镜中央部分和位于透镜中央部分周围的周缘部分的双方作为透镜，使之发挥作用。再者，还可以借助于特殊的透镜曲面，使从光源所出射的光聚光到像素区域上，并且将光边适当分散以免集中到像素区域的一点上，边进行聚光。因而，可以在不损害像素区域上的光透过性的状况下，抑制因光集中到一点上而引起的像素区域各部的劣化。据此，例如可以抑制像素区域内的取向膜产生劣化，能够延长液晶装置等的寿命。另外，作为该微透镜也可以不对腐蚀面填充树脂等，而将腐蚀后的透明基板的腐蚀面直接作为透镜曲面来使用。
还有，本发明所涉及的微透镜制造方法并不限定于像液晶装置这样的电光装置所具备的微透镜的制造，不言而喻只要是具备微透镜的电光装置，对任何装置都可以使用。另外，根据本发明所涉及的微透镜制造方法，还可以通过变更腐蚀阻挡层的形状或者变更腐蚀阻挡层和开口部之间的位置关系、尺寸及形状等，来形成多个微透镜的组合。
在本发明所涉及的微透镜阵列制造方法的一个方式中，上述中间层的腐蚀速率比上述透明基板的腐蚀速率要大。
根据这种方式，由于上述中间层的腐蚀速率比上述透明基板的腐蚀速率大，因而可以形成非球面的透镜曲面。中间层例如是采用像CVD法或溅射法一样的广泛使用的膜形成方法来形成的，中间层的腐蚀速率及透明基板的大小关系成为决定经腐蚀工序所形成的微透镜的透镜曲面形状之重要因素。
在本发明所涉及的微透镜制造方法的其他方式中，上述腐蚀阻挡层的平面形状为圆形。
根据这种方式，从腐蚀阻挡层的侧面整体开始腐蚀透明基板，在腐蚀阻挡层的下方腐蚀面相遇。在此，所谓腐蚀阻挡层的平面形状意味着，透明基板表面内的腐蚀阻挡层形状。相遇后的腐蚀面沿腐蚀阻挡层圆周方向构成平滑的透镜曲面。
在本发明所涉及的微透镜制造方法的其他方式中，上述开口部的平面形状为圆形。
根据这种方式，以开口部为中心，中间层以各向同性的方式进行腐蚀。更为具体而言，沿中间层的横向也就是透明基板上中间层延伸的方向，中间层以各向同性的方式进行腐蚀。据此，可以通过设定开口部和腐蚀阻挡层的形状、尺寸或者位置关系，将预期的透镜曲面形成在透明基板上。
在本发明所涉及的微透镜制造方法的其他方式中，上述开口部和上述腐蚀阻挡层在上述透明基板上平面看位于同轴。
根据这种方式，因为开口部及腐蚀阻挡层平面看上去位于同轴，所以可以使从开口部到腐蚀阻挡层侧面的距离沿腐蚀阻挡层的圆周方向相等，能够在腐蚀阻挡层的侧面整体上同时或者保持若干时间的偏差从腐蚀阻挡层的侧面开始进行对透明基板实施的腐蚀。更为具体而言，例如在开口部及腐蚀阻挡层的平面形状为圆形时，可以从腐蚀阻挡层的侧面整体同时实施对透明基板的腐蚀。在此，所谓“平面看上去”意味着，从腐蚀阻挡层的上方看到上述各层的情形。因而，通过对透明基板从腐蚀阻挡层的侧面朝向腐蚀阻挡层的内侧实施的腐蚀，具有沿腐蚀阻挡层的圆周方向相等的曲率半径之透镜曲面平面看上去形成为同心圆状。可以通过对被这种透镜曲面所包围的空间，填充例如具有光透过性的透镜形成材料，来形成透镜曲面，该透镜曲面从腐蚀阻挡层及开口部的中心以各向同性的方式更为具体而言按同心圆状使等高线扩展。
在本发明所涉及的微透镜制造方法的其他方式中，在上述透镜形成区域内形成有上述腐蚀阻挡层的区域尺寸比形成有上述开口部的区域尺寸要大。
根据这种方式，从面对透镜形成区域内开口部的中间层朝向腐蚀阻挡层的侧面进行腐蚀，并从腐蚀阻挡层上方的中间层到腐蚀阻挡层的侧面依次进行腐蚀。据此，对透明基板的腐蚀从腐蚀阻挡层的侧面开始，在腐蚀阻挡层的下方平面看上去形成同心圆状的透镜曲面。再者，从腐蚀阻挡层的侧面向周围以各向同性的方式进行腐蚀，透镜曲面整体最后具有同心圆状的等高线地成为连续的曲面。
另外，在中间层的腐蚀速率比透明基板的腐蚀速率大时，可以在腐蚀阻挡层的内侧及外侧形成透镜曲面的曲率半径不同的透镜曲面。在作为各向同性腐蚀法例如采用湿法腐蚀时，由于中间层比透明基板腐蚀得快，因而可以使形成于腐蚀阻挡层外侧的透镜曲面成为非球面。更为具体而言，位于腐蚀后的中间层下方的透明基板一部分与透明基板的其他区域相比，其接触到腐蚀液的接触区域变大，仅仅接触区域较大的透明基板的一部分比其他区域易于腐蚀。因此，能够使形成于腐蚀阻挡层外侧的透镜曲面成为非球面。另一方面，在中间层及透明基板的腐蚀速率相同时，腐蚀后的透明基板的腐蚀面为球面。通过对具有和透明基板的腐蚀速率相同或者比透明基板的腐蚀速率大的腐蚀速率的中间层进行选择，可以选择非球面或球面的任一个来作为透镜形成面，能够调整微透镜的透镜曲面的曲率半径使之成为预期的透镜特性。
本发明的第1发明所涉及的微透镜为了解决上述问题，具备：透镜周缘部，以包括在一个平面的法线的周围延伸成环状的棱线的方式朝向棱线外侧及内侧的各自倾斜，沿着上述法线从上述一个平面突出；和透镜中央部，被上述透镜周缘部所包围，沿着上述法线朝向上述一个平面凹陷；从上述透镜周缘部表面到上述透镜中央部表面的区域是透镜曲面。
根据本发明所涉及的微透镜，通过将透镜周缘部及透镜中央部的表面作为透镜曲面，可以形成为使透镜曲面的一个区域从一个平面突出，并且使透镜曲面的其它区域朝向一个平面凹陷的形状。根据这种透镜曲面，首先利用透镜周缘部的表面聚光到2维面上的光的光强度分布，沿着利用透镜中央部的表面同样聚光到2维面上的光的光强度分布的圆周方向而存在。也就是说，通过透镜中央部及透镜周缘部分别进行聚光，可以作为一个微透镜整体对入射到其形成区域上的光进行聚光，并且在与该一个微透镜对应的像素开口区域内使之分散，以免该光聚光到一点上。
本发明的第2发明所涉及的微透镜为了解决上述问题，具备：透镜周缘部，其具有第1透镜曲面，该第1透镜曲面以包括在一个平面的法线周围延伸成环状的棱线的方式朝向棱线外侧及内侧的各自倾斜，并沿上述法线从上述一个平面突出；和透镜中央部，其具有第2透镜曲面，该第2透镜曲面被上述透镜周缘部所包围，和上述第1透镜曲面连续连结，沿上述法线朝向上述一个平面凹陷。
根据本发明所涉及的微透镜，可以通过具有第1透镜曲面的透镜周缘部及具有第2透镜曲面的透镜中央部使之分散，以免光聚光到一点上。在此，本发明所涉及的所谓“一个平面”例如意味着透镜中央部及透镜周缘部的底面，也就是微透镜的底面。透镜周缘部在微透镜底面上的法线周围延伸，透镜周缘部的棱线在法线的周围延伸成环状。透镜周缘部具有朝向棱线外侧及内侧的各自倾斜的第1透镜曲面，并沿着底面的法线从微透镜的底面突出。另一方面，透镜中央部具有被透镜周缘部所包围，并且和第1透镜曲面连续连结的第2透镜曲面。第2透镜曲面与第1透镜曲面不同，朝向一个平面凹陷。更为具体而言，若平面看微透镜，则具有第1透镜曲面和被第1透镜曲面所包围的第2透镜曲面，并且通过这些曲面连续连结而形成平滑的一个透镜曲面。还有，透镜中央部的凹槽包括两种情况，一种是透镜周缘部朝向微透镜的中心在一点上进行结合的情况，另一种是凹槽的底部具有若干扩展的情况。
根据这种透镜中央部及透镜周缘部，首先利用透镜周缘部聚光到2维面上的光的光强度分布，沿着利用透镜中央部同样聚光到2维面上的光的光强度分布的圆周方向而存在。也就是说，由于通过透镜中央部及透镜周缘部分别进行聚光，因而可以作为一个微透镜整体对入射到其形成区域上的光进行聚光，并且在与该一个微透镜对应的像素开口区域内使之分散，以免该光聚光到一点上。根据本发明所涉及的微透镜，能够一边将透镜周缘部及透镜中央部的双方作为分别具备不同的第1透镜曲面及第2透镜曲面的透镜使之发挥作用，一边将微透镜整体作为一个透镜使之发挥作用。据此，可以边将入射到微透镜上的全部光高效聚光到预定区域例如各像素的开口区域内，边适当使光分散，能够使显示的亮度及对比度得到提高，并且延长液晶装置等的寿命。
在本发明的第1及第2发明所涉及的微透镜的一个方式中，上述透镜周缘部及上述透镜中央部以上述法线为中心轴被同轴形成。
根据这种方式，平面看上去，透镜周缘部同心圆状地位于透镜中央部的周围。利用这种透镜中央部及透镜周缘部而聚光的光表现出分散成同心圆状的光强度分布，可以抑制光聚光到一点上。
根据本发明的第2发明所涉及的微透镜的其他方式，上述第1透镜曲面及上述第2透镜曲面其曲率半径不同。
根据这种方式，可以按照第1透镜曲面及第2透镜曲面的曲率半径不同调整光强度分布，例如可以调整位于像素区域的取向膜上的光强度分布，以便不仅是一点变强。另外，还可以使之高效聚光到像素区域的整体上，并且使光强度分布在像素区域内进行分散。
在本发明的第2发明所涉及的微透镜的其他方式中，以与上述棱线延伸的延伸方向正交的面截上述第1透镜曲面后的剖面形状是球面形状或者非球面形状。
根据这种方式，由于第1透镜曲面的剖面形状是球面形状或非球面形状，因而可以使所聚光的光的光强度分布进行分散，并且将微透镜的厚度设计成预期的厚度。特别是，在第1透镜曲面是非球面形状时，能够让光聚光到特定的范围内，并且使微透镜的厚度变薄。
本发明所涉及的微透镜阵列为了解决上述问题，排列多个上述本发明的微透镜。
根据本发明所涉及的微透镜阵列，与上述微透镜相同，能够在不损害像素区域的光透过率的状况下，抑制光聚光到一点上。尤其是，其排列为各微透镜面对电光装置每个像素的微透镜阵列可以通过针对各像素对光进行聚光来提高像素的亮度等，并且抑制因聚光而引起的像素区域的各部劣化。
本发明所涉及的电光装置为了解决上述问题，具备上述本发明的微透镜。
根据本发明所涉及的微透镜，与上述微透镜相同，能够在不损害像素区域的光透过率的状况下，抑制光聚光到一点上。因而，可以提供一种显示性能优良的电光装置。另外，由于本发明所涉及的电光装置如上所述具备有透镜特性优良的微透镜，因而可以通过微透镜来提高光的利用效率，并且还能够使各像素中的光透过率及对比度得到提高。因而，本发明所涉及的电光装置可以进行高品质的图像显示，并且具有高寿命。
本发明所涉及的电子设备为了解决上述问题，具备上述本发明的电光装置。
根据本发明所涉及的电子设备，由于具备有上述本发明所涉及的电光装置，因而能够实现具有高寿命且可进行高品质显示的投影型显示装置、液晶电视机、便携式电话机、电子记事本、文字处理机、取景器式或监视器直观式磁带录像机、工作站、电视电话、POS终端及触摸面板等的各种电子设备。另外，作为本发明所涉及的电子设备，例如除电子纸张等的电泳装置之外，还可以实现利用电子放射元件的显示装置(Field EmissionDisplay(场发射显示器)及Surface-Conduction Electron-Emitter Display(表面传导型电子发射显示器))以及DLP(Digital Light Processing(数字光处理))等。
本发明的这种作用及其他有用之处可以通过下面说明的实施方式来说明。
附图说明
图1是表示本实施方式所涉及的微透镜阵列板结构的立体图。
图2是对本实施方式所涉及的微透镜之中相邻的微透镜进行放大所示的平面图。
图3是对本实施方式所涉及的微透镜阵列板的剖面一部分进行放大所示的主要部分放大图。
图4是表示本实施方式所涉及的微透镜制造工序的工序剖面图(其1)。
图5是表示本实施方式所涉及的微透镜制造工序的工序剖面图(其2)。
图6是表示本实施方式所涉及的微透镜制造工序的工序剖面图(其3)。
图7是表示本实施方式的掩模层2及开口部5配置状态的平面图。
图8是从腐蚀面一侧看本实施方式的透明板部件210的平面图。
图9是图8的IX-IX′线剖面图。
图10是对图6(a)进行放大所示的放大图。
图11是表示本实施方式所涉及的微透镜外观形状的立体图。
图12表示的是本实施方式所涉及的微透镜形状和光强度分布之间的关系。
图13是模式地表示本实施方式所涉及的微透镜及以往微透镜的光路径的模式图。
图14是作为本实施方式所涉及的电光装置一个示例的液晶装置的平面图。
图15是图14的H-H′线剖面图。
图16是模式地表示本实施方式的微透镜阵列板上所配置的遮光膜及微透镜的配置关系的平面图。
图17是更为详细表示图15所示的剖面的剖面图。
图18是表示本实施方式所涉及的电子设备一个示例的剖面图。
符号说明
掩模层2、4，中间层3，开口部5，透明板部件210，微透镜500，透镜周缘部500A，透镜中央部500B，透镜曲面12a，棱线501。
具体实施方式
下面，对于本发明所涉及的微透镜的制造方法、微透镜、微透镜阵列以及电光装置和电子设备，边参照附图边进行详细说明。
(微透镜阵列板)
首先，对于使用本发明所涉及的微透镜的微透镜阵列板，参照图1到图3进行说明。图1是表示本实施方式所涉及的微透镜阵列板概略结构的立体图。图2是对微透镜阵列板所具备的微透镜之中相邻的4个微透镜所涉及的部分进行放大所示的平面图。图3是对本实施方式的微透镜阵列板剖面一部分进行放大所示的放大图。
在图1中，本实施方式的微透镜阵列板20的结构具备多个微透镜500，该多个微透镜500在作为本发明所涉及的“透明基板”一个示例的透明板部件210上平面排列成矩阵状。透明板部件210例如是石英板等，按矩阵状开掘多个凹状的凹槽。在透明板部件210上所开掘的凹状凹槽中，填充例如由感光性树脂材料构成的粘接剂。因使该粘接剂硬化而形成粘接层230，覆盖透明板部件210地配置的玻璃罩200和透明板部件210被相互粘接。对玻璃罩200及透明板部件210进行粘接的粘接剂例如是与透明板部件210相比其折射率高的透明粘接层。
在图2及图3中，微透镜500的透镜曲面利用相互折射率不同的透明板部件210和粘接层230被大致规定。微透镜500在图3中大致作为向下方突出成凸状的凸透镜来形成。
本实施方式所涉及的微透镜500如下所述是采用本发明特有的制造方法来制造的，微透镜500的透镜曲面的结构具备曲率半径相互不同的周缘部500A和中央部500B。透镜周缘部500A是微透镜500周缘一侧的部分，是向附图中下方成凸形状的部分。透镜中央部500B是构成微透镜500的部分之中的透镜周缘部500A内侧的部分，是向附图中上方成凸形状的部分。更为具体而言，透镜中央部500B是包括朝向微透镜500的底面502凹陷的透镜曲面在内的部分。
微透镜阵列板20在其使用时，微透镜500对应于下述液晶装置等电光装置的各像素地配置。因而，入射到各微透镜500上的入射光利用微透镜500的折射作用，朝向电光装置中各像素的中央进行聚光。还有，对于微透镜500的结构，将在下面进行详细说明。
(微透镜的制造方法)
下面，对于本实施方式所涉及的微透镜制造方法，通过参照图4至图9进行说明。图4至图6是表示本实施方式所涉及的微透镜制造方法的一系列工序剖面图，图7是表示掩模层2及开口部5配置状态的平面图。
在图4(a)中，在透明板部件210上形成作为本发明所涉及的“腐蚀阻挡层”一个示例的掩模层2，并在其上依次形成中间层3及作为本发明所涉及的“腐蚀掩模层”一个示例的掩模层4。掩模层2例如是采用CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)法等所形成的非结晶型硅膜或具有耐氢氟酸性的Cr膜、多晶硅膜等。在本实施方式中，透明板部件210表面内掩模层2的形状为圆形，掩模层2在透明板部件210上形成为岛状。
中间层3是以具有大于等于透明板部件210腐蚀速率的腐蚀速率的材料作为主要材料来形成的层。中间层3例如是采用CVD法或溅射法来形成的，使之具有预期的腐蚀速率。还有，在下面将对于中间层3的腐蚀速率比透明板部件210的腐蚀速率大的情形进行说明。如下所述，在中间层3的腐蚀速率比透明板部件210的腐蚀速率大时，可以使最终形成的微透镜成为非球面，在中间层3的腐蚀速率与透明板部件210的腐蚀速率相同时，微透镜的透镜曲面可以成为球面。
掩模层4是采用与掩模层2相同的方法形成的，具备开口部5，其设置为使中间层3表面的一部分外露。开口部5是在与掩模层2的中心轴相同的轴上具有中心的圆形孔部，并且开口部5的尺寸比掩模层2要小，更为具体而言圆形开口部5的直径比圆形掩模层2的直径要小。也就是说，换言之掩模层2的尺寸在透明板部件210的透镜形成面上比开口部5的尺寸要大。还有，掩模层2、4以及开口部5的平面形状、尺寸及位置关系是说明本发明所涉及的微透镜制造方法所用的一个示例，只要形成有掩模层2和开口部5即可，该掩模层2在透明板部件210上形成为岛状，该开口部5的配置为夹置中间层3与掩模层2对向。
开口部5与掩模层2的中心轴位于同轴上。因而，在从掩模层4的上方看开口部5及掩模层2时，掩模层2及开口部5的边缘部各自处于同心圆状。还有，在下面虽然以掩模层2及开口部5的平面形状为圆形进行说明，但是本发明所涉及的微透镜制造方法并不将其他平面形状从掩模层2及开口部5的平面形状排除，例如掩模层2及开口部5的平面形状也可以是正三角形、正方形、正六角形、正八角形或者对中心轴成旋转对像的其他平面形状。
此处，通过参照图7，说明掩模层2及开口部5的配置状态。
在图7中，在透明板部件210上依次形成掩模层2、中间层3及掩模层4，通过参照图4至图6说明的微透镜制造方法相当于除去下述工序所示的工序剖面图，该工序为从形成于掩模层4上的多个开口部5之中的一个开口部5对中间层3及透明板部件210进行腐蚀的工序。
掩模层2在透明板部件210的透镜形成区域500a各自上形成为岛状，此外，透镜形成区域500a在使微透镜完成之后，与重叠配置微透镜板20的多个像素的配置一致地被规定，沿着附图中的纵向及横向形成为矩阵状。由于从设置于掩模层4上的多个开口部5一并对中间层3及透明板部件210进行腐蚀，因而可以分别形成单个的微透镜的透镜曲面，能够形成微透镜阵列板20，该微透镜阵列板20具备多个参照图1至图3说明的微透镜。
再者，在图4(b)中，从开口部5对中间层3以各向同性的方式进行腐蚀。在此，“各向同性的方式”意味着，从在掩模层2的中心轴A上位于同轴的开口部5朝向附图中的外侧对中间层3均匀进行腐蚀，在本实施方式中例如通过湿法腐蚀将中间层3沿着附图中的横向进行腐蚀。还有，中间层3沿着附图中的纵向也就是厚度方向进行腐蚀，但是沿厚度方向的对中间层3的腐蚀一旦因掩模层2而停止，就只沿着横向进行对中间层3的腐蚀。
在图4(c)中，若对中间层3的腐蚀进一步行进并从掩模层2的侧面开始外露透明板部件210的表面，则透明板部件210以掩模层2的侧面为起点被腐蚀。在此，在本实施方式中，因为开口部5与掩模层2的中心轴同轴设置，所以从开口部5的中心到掩模层2的侧面部2a的距离在掩模层2的侧面部2a整体上都相等。因而，中间层3的腐蚀面同时到达掩模层2的侧面部2a整体，并且对透明板部件210的腐蚀以掩模层2的侧面部2a为起点在掩模层2的侧面部2a整体上同时开始。对透明板部件210的腐蚀以掩模层2的侧面部2a为起点，沿着附图中的横向并沿着掩模层2的内侧及外侧以及附图下方的各自对着进行，如下所述对于透明板部件210的至少被掩模层2覆盖的区域，以各向同性的方式实施腐蚀。
在图5(a)中，透明板部件210以掩模层2的侧面部2a为起点，使腐蚀行进。透明板部件210从附图中掩模层2的两个侧面部2a分别朝向附图中的内侧及外侧进行腐蚀，在从附图中的上方看透明板部件210时，从中心轴A朝向外侧按同心圆状形成具有等高线的腐蚀面。
在图5(b)中，若透明板部件210的腐蚀进一步行进，则从掩模层2的侧面部2a朝向中心轴A腐蚀透明板部件210所成的腐蚀面，在掩模层2下方的中心轴A上相遇，形成从掩模层2的中心轴A朝向外侧具有下摆形的凸部11。凸部11是本发明所涉及的“透镜中央部”一个示例，并具备朝向附图中的上方翘起的顶点部。
在图5(c)中，若进一步使腐蚀行进，则凸部11的顶点部从掩模层2离开。因此，凸部11的顶点部形成具有平滑曲面的凸部13。在凸部13的周围，形成沿中心轴A的圆周方向延伸的凹部12。在此，从凸部11使腐蚀行进后的凸部13也相当于本发明所涉及的“透镜中央部”一个示例。因而，既可以在形成了凸部11的阶段将腐蚀工序停止来形成微透镜，也可以在形成凸部13之前使腐蚀行进来形成微透镜。还有，在将凸部11作为微透镜的透镜中央部时，在凸部11的周围延伸的曲面为球面。
在此，对于利用中间层3腐蚀速率的不同得到的腐蚀面形状也就是最终形成的透镜曲面形状，进行说明。附图中的虚线是图5(b)所示的腐蚀面，因为中间层3与透明板部件210相比腐蚀速率较高，所以掩模层2的侧面部2a的外侧的透明板部件210上的中间层3，与透明板部件210相比较早地沿着附图中的横向进行腐蚀。因而，接近附图中两端的区域的透明板部件210除从掩模层2的侧面部2a行进的腐蚀之外，还从通过除去中间层3而外露的面进行腐蚀。附图中，透明板部件210的靠掩模层2的侧面部2a外侧的区域与从掩模层2的侧面部2a朝向中心轴A行进的腐蚀相比，腐蚀量增多。也就是说，从掩模层2的侧面部2a朝向中心轴A行进的腐蚀面构成以掩模层2的侧面部2a为中心的球面一部分，另一方面从掩模层2的侧面部2a向外侧行进的腐蚀面成为具有与掩模层2下方腐蚀面不同的曲率半径的曲面，构成和掩模层2下方的腐蚀面连续的非球面。因而，透明板部件210的腐蚀面成为在掩模层2的下方和掩模层2的外侧分别不同曲率半径的曲面连结而成的透镜曲面。
这样，若从图5(b)的状态使腐蚀进一步行进，则在结束腐蚀的时刻，在透明板部件210上形成凸部13和凹部12，该凸部13具有平缓的曲面，该凹部12在凸部13的周围具有和凸部13同心圆状地相等的深度。还有，本发明所涉及的“第1透镜曲面”及“第2透镜曲面”的边界意味着，以形成凸部11后进一步使腐蚀行进的阶段为界线于微透镜的周缘部和中央部上分别形成的透镜曲面的边界。更为具体而言，进一步对凸部11进行腐蚀形成的凸部13的表面相当于“第2透镜曲面”的一个示例，凹部12的表面相当于“第1透镜曲面”的一个示例。通过在接下来的工序中填充像透明树脂这样的透镜形成材料使之覆盖凸部13和凹部12，可以形成具备透镜曲面的微透镜，该透镜曲面反映出凸部13的曲面以及凹部12内侧的曲面。更为具体而言，如下所述微透镜的透镜中央部比透镜中央部周围的透镜周缘部凹陷，可以形成在透镜中央部和透镜周缘部上具有不同透镜曲面的微透镜。
接着，在图6(a)中，从形成有凸部13和凹部12的透明板部件210将掩模层2及掩模层4除去。掩模层2因腐蚀透明板部件210而成为脱离透明板部件210的状态，在除去掩模层4时一并被除去。
在此，通过参照图8至图10，详细说明透明板部件210上所形成的凸部13和凹部12的形状。图8是从腐蚀面一侧看透明板部件210的平面图，图9是图8的IX-IX′线的剖面图。图10是对图9进行放大所示的放大图。
在图8及图9中，凸部13及凹部12从掩模层2的中心轴A朝向外侧形成于透镜形成区域500a内。因为具备像凸部13及凹部12表面一样的透镜曲面的微透镜例如对液晶装置等所具备的多个像素之中的一个像素配置一个，所以包括凸部13及凹部12在内的透镜形成区域500a的尺寸是收置到一个像素区域内的尺寸。
在图9中，凹部12内侧的曲面12a对于中心轴A是左右对称，并沿着凸部13的周围同样延伸。从凹部12的底部到凸部13的顶点部的高度比从凹部12的底部到凹部12的周缘部16的高度要低。凸部13的表面构成曲面13a。曲面12a相当于本发明所涉及的“第1透镜曲面”一个示例，曲面13a相当于本发明所涉及的“第2透镜曲面”一个示例。因而，可以通过例如埋入像透明树脂一样的透镜形成材料使之覆盖凸部13及凹部12，来形成具有透镜曲面的微透镜，该透镜曲面反映出曲面12a及13a的形状。还有，也可以不填充像透明树脂一样的透镜形成材料，而形成下述微透镜，该微透镜具备曲面13a及12a来作为连续的透镜曲面。
在图10中，对于曲面13a及12a进行进一步详细说明。曲面13a构成中心位于凸部13内且以曲率半径r规定的球面，曲面12a构成中心位于凹部12的内侧也就是由曲面12a所包围的空间上且以曲率半径R规定的球面一部分。还有，曲率半径R比曲率半径r要大。曲面13a及12a构成通过拐点连续的透镜曲面。曲面12a构成非球面，该非球面越是向附图中的两端越若干偏离球面。还有，在本实施方式中虽然曲面13a构成以曲率半径r规定的球面，但是也可以通过使对透明板部件210的腐蚀进一步行进，将曲面13a形成为比球面平坦的面。另外，与其相反也可以通过提前结束对透明板部件210的腐蚀，将凸部13的形状作为圆锥形状，使曲面13a进行中心轴A上的一点相交。
再者，在图6(b)中，将具有光透过性的粘接剂作为透镜形成材料进行涂敷，使之覆盖凸部13及凹部12。通过在透明板部件210上按压安装上玻璃罩14并使粘接剂硬化，来形成粘接层230。其结果为，可以形成具备透镜曲面的微透镜500，该透镜曲面分别反映出凸部13及凹部12的曲面。
(微透镜的结构)
下面，通过参照图11至图13，说明微透镜的结构。图11是表示本实施方式所涉及的微透镜外形形状的立体图。图12表示的是微透镜的形状和通过微透镜所聚光的光的光强度分布之间的关系。图13是对以往微透镜的光强度分布及本实施方式所涉及的微透镜的光强度分布进行比较的附图。还有，图11至图13所示的本实施方式所涉及的微透镜是经过图4至图10所说明的微透镜制造工序来形成的。下面，对于和图4至图10相同的部分，标注相同的参照符号进行说明。本实施方式所涉及的微透镜具有对中心轴A成旋转体的透镜曲面，但是本发明所涉及的微透镜其透镜曲面并不限定为对于中心轴成旋转对称的形状，例如并不排除在以包括微透镜中心轴的面截微透镜后的剖面中，对于中心轴其透镜曲面为非对称的形状。
在图11中，微透镜500的结构具备：透镜周缘部500A，在微透镜500的中心轴A周围延伸；和透镜中央部500B，被透镜周缘部500A所包围。
透镜周缘部500A是在图4至图6中对透明板部件210进行腐蚀所形成的凹部12中填充与透明板部件210相比折射率高的透镜形成材料来形成的，具有下述透镜曲面，该透镜曲面反映出腐蚀后的透明板部件210的凹部12的透镜曲面。透镜曲面12a相当于本发明所涉及的“第1透镜曲面”一个示例。
透镜中央部500B具有透镜曲面13a，该透镜曲面13a被透镜周缘部500A所包围并且比透镜周缘部500A凹陷。也就是说，透镜曲面13a相当于本发明所涉及的“第2透镜曲面”一个示例，更为具体而言是朝向底面502凹陷。微透镜500的透镜曲面是透镜曲面13a及透镜曲面12a通过拐点进行平滑连结来构成的，微透镜500的结构具备一体的透镜中央部500B及透镜周缘部500A。
透镜中央部500B构成曲率半径r的球面一部分。透镜周缘部500A所具备的透镜曲面12a之中的与透镜中央部500B相邻的区域的透镜曲面构成曲率半径R的球面一部分，并且形成球面，该球面越是占据透镜曲面12a之中的接近微透镜500外侧的区域的透镜曲面其曲率半径越大。作为透镜周缘部500A顶点的棱线501对微透镜500的底面502突出，并在作为本发明所涉及的“法线”一个示例的中心轴A周围延伸。利用从棱线501朝向附图中的外侧延伸的曲面503a和朝向内侧延伸的曲面503b，来构成透镜曲面12a。
在图12中，通过微透镜500所聚光的光的光强度分布D在作为聚光目的地的2维平面内成同心圆状并具有相同的光强度。光强度分布D分为与微透镜500的透镜中央部500B对应的中央区域I、在中央区域I的外侧扩展成环状的周边区域II以及向周边区域II的外侧扩展的周边区域III。这3个区域之中的周边区域II与其他区域相比光强度较强，是光进行集中的区域，该光是通过沿微透镜500的中心轴A周围延伸的透镜周缘部500A所聚光的。因为周边区域II是在中央区域I的周围扩展成环状的区域，所以与聚光到一点上的情形相比周边区域II上的光强度变弱。因而，在通过微透镜500聚光到像素上时，可以抑制在像素的一点上进行聚光，能够抑制像素所包括的各部因光而产生劣化。例如，可以抑制液晶装置等中的取向膜或液晶因所聚光的光而产生劣化。
在图13(a)中，在以包括中心轴的面截以往的微透镜60后的剖面上，微透镜60作为具有一个凸部的凸透镜发挥作用。通过微透镜60后的光L1聚光到作为聚光目的地的2维平面S的特定区域上。通过微透镜60后的光L1例如聚光到微透镜60的焦点f上。特别是，在微透镜60是非球面透镜时，因为焦点f准确度良好地在一点上相一致，所以位于该焦点的区域上所配置的各部例如像素内的取向膜易于产生劣化。另外，即使在焦点不位于2维平面S上时，通过微透镜60所聚光的光也聚光到作为光出射目的地的2维平面S内的狭小区域上。
另一方面，在图13(b)中，根据本实施方式所涉及的微透镜500，可以通过在以包括微透镜500中心轴A的面截微透镜500后的剖面上的位于左右对称的透镜周缘部500A及透镜中央部500B，使光L2分别进行聚光，将以往聚光到一点上的光分散开。更为具体而言，分别位于附图中左右的透镜周缘部500A在作为聚光目的地的2维平面S1上分别具有焦点f1及f2，通过透镜周缘部500A及透镜中央部500B所聚光的光L2聚光到焦点f1及f2上。焦点f1及f2位于以中心轴A及作为光聚光目的地的2维平面S1的交点为中心的圆上，与聚光到一点上的情形相比能分散2维平面S1上的光强度。因而，根据微透镜500，可以减低像素内所配设各部的劣化。再者，微透镜500与以往的微透镜相同，具有在特定区域例如在和微透镜500对向配置的像素内使光进行聚光的功能，也可以通过提高像素的光透过率使像素的显示性能得到提高。
(电光装置)
下面，边参照图14至图17，边说明使用本实施方式所涉及的微透镜之电光装置。图14是从与形成于其上的各结构要件一起作为对向基板来使用的微透镜阵列板一侧看到TFT阵列基板的平面图，图15是图14的H-H′剖面图。这里，以作为电光装置一个示例的驱动电路内置型TFT有源矩阵驱动方式的液晶装置为示例。另外，本实施方式中的微透镜阵列板具备排列多个的本发明所涉及的微透镜。
在图14及图15中，在液晶装置100中TFT阵列基板10和作为对向基板来使用的微透镜阵列板20被对向配置。在TFT阵列基板10和微透镜阵列板20之间封入液晶层50，TFT阵列基板10和微透镜阵列板20之间利用密封区域上所设置的密封部件52相互粘接，该密封区域位于图像显示区域10a的周围。
密封部件52由用来粘贴两个基板的例如紫外线硬化树脂、热硬化树脂等构成，在制造工艺中涂敷到TFT阵列基板10上之后，通过紫外线照射、加热等令其硬化。另外，在密封部件52中散布着使TFT阵列基板10和微透镜阵列板20之间的间隔(基板间间隙)为预定值所需的玻璃纤维或玻璃珠等间隔部件。也就是说，本实施方式的电光装置作为用于投影机的光阀适合小型且进行放大显示的装置。
与配置有密封部件52的密封区域内侧并行，用来规定图像显示区域10a框缘区域的遮光性框缘遮光膜53设置到微透镜阵列板20一侧。但是，这种框缘遮光膜53的一部分或者全部也可以设置在TFT阵列基板10一侧来作为内置遮光膜。
在位于图像显示区域10a周边的周边区域之中的位于配置了密封部件52的密封区域外侧的区域上，沿TFT阵列基板10的一条边设置数据线驱动电路101及外部电路连接端子102。另外，扫描线驱动电路104沿着与该一条边相邻的2条边且覆盖上述框缘遮光膜53地进行设置。再者，为了对这样设置于图像显示区域10a两侧的二条扫描线驱动电路104间进行连接，沿着TFT阵列基板10剩下的一条边且覆盖上述框缘遮光膜53来设置多条布线105。
在微透镜阵列板20的4个角部上，配置作为两个基板间的上下导通端子发挥作用的上下导通部件106。另一方面，在TFT阵列基板10上，在与这些角部对向的区域上设置上下导通端子。据此，可以在TFT阵列基板10和微透镜阵列板20之间取得电导通。
在图14中，在TFT阵列基板10上，于像素开关用的TFT和形成扫描线、数据线等布线之后的像素电极9a上形成取向膜。另一方面，虽然对于详细结构将在下面说明，但是在微透镜阵列板20上除对向电极21之外，还形成格子状或带状的遮光膜23，进而在最上层部分形成取向膜。另外，液晶层50例如由一种或对数种向列液晶进行混合后的液晶构成，在这些一对取向膜间采取预定的取向状态。
还有，在图14及图15所示的TFT阵列基板10上，除这些数据线驱动电路101、扫描线驱动电路104等之外，还可以形成采样电路、预充电电路及检查电路等，该采样电路用来对图像信号线上的图像信号进行采样将其供应给数据线，该预充电电路用来在图像信号之前向多条数据线分别供应预定电压电平的预充电信号，该检查电路用来对制造过程中或出厂时该电光装置的品质、缺陷等进行检查。
对于上述液晶装置100中所设置的微透镜阵列板20的详细结构和其功能，将参照图16及图17进行说明。图16是模式地表示微透镜阵列板20上遮光膜23及微透镜500的配置关系的平面图，图17是对于多个像素更为详细表示液晶装置100的剖面结构的剖面图。也就是说，采用图17来说明微透镜500的具体功能。
在图16中，微透镜阵列板20例如具备形成于透明基板210上的遮光膜23，遮光膜23具有格子状的平面图形。微透镜阵列板20具有由遮光膜23规定的非开口区域，由遮光膜23所划分的区域为开口区域700。还有，也可以将遮光膜23形成为带状，利用该遮光膜23和设置于TFT阵列基板10一侧的电容电极300、数据线6a等各种结构要件，来规定非开口区域。
各微透镜500的配置为与各像素对应。更为具体而言，在微透镜阵列板20上为每个像素设置微透镜500，该微透镜500在开口区域700及至少部分包括位于该开口区域700周边的非开口区域在内的区域上具有矩形的平面形状。
在图17中，在透明板部件210上形成由透明导电膜构成的对向电极21使之覆盖遮光膜23。进而，在对向电极21上形成未图示的取向膜。除此之外，还可以在透明基板210上的各开口区域700内形成滤色器。
另一方面，在TFT阵列基板10上与各开口区域700对应的区域上，形成像素电极9a。另外，像素开关用的TFT30、用来驱动像素电极9a的扫描线11a和数据线6a等各种布线以及存储电容70等的电子元件形成于非开口区域上。如果按上述方法来构成，则可以将该电光装置中的像素开口率维持得较大。
入射到微透镜阵列板20上的投影光等光通过由透镜中央部500B及透镜周缘部500A所整体形成的微透镜500，进行聚光。还有，在图17中用单点划线表示通过微透镜500所聚光的光路径概况。通过微透镜500所聚光的光透过液晶层50照射到像素电极9a上，并通过该像素电极9a作为显示光从TFT阵列基板10进行出射。在此，从配置了光源的附图中上方入射到微透镜阵列板20中的光之中的朝向非开口区域23的光也可以借助于微透镜500的聚光作用，入射到开口区域700上，能够提高各像素上的执行开口率。另外，可以使各微透镜500的透镜周缘部500A成为非球面透镜。因而，可以将包括透镜周缘部500A在内的微透镜500形成为像差较小的透镜，能够使光利用效率得到提高。另外，可以利用位于透镜中央部500B周围的透镜周缘部500A各个，对从光源入射到微透镜500上的光进行聚光，并且把像素电极9a上的光强度分布分散开以免光集中在像素电极9a的一点上。再者，因为透镜中央部500B也作为凹透镜发挥作用，所以可以抑制光强度较大的区域集中到一点上。再者，可以一边将微透镜500的整体作为透镜发挥作用，一边使各像素上光的透过率及对比度得到提高。其结果为，根据微透镜500，可以通过抑制像素的劣化来延长像液晶装置一样的电光装置的寿命，并且能够进行高品质的图像显示。
如同上面所说明的那样，作为本实施方式所涉及的电光装置一个示例之液晶装置100也可以取代将数据线驱动电路101或扫描线驱动电路104设置到TFT阵列基板10之上，例如将TAB(Tape Automated bonding，带自动键合)基板上所安装的驱动用LSI，对外部电路连接端子102介由各向异性导电膜进行电连接及机械性连接。另外，在微透镜降列板20的投影光入射的一侧及TFT阵列基板10的出射光出射的一侧，分别例如也可以按照TN(Twisted Nematic，扭转向列)模式、VA(Vertically Aligned，垂直取向)模式、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal，高分子散布液晶)模式等工作模式或者常时亮态模式/常时暗态模式的不同，以预定方向配置偏振膜、相位差膜和偏振板等。
还有，在上述的电光装置中作为对向基板使用了排列多个图11所示的微透镜的微透镜阵列板20，但是也可以将这种微透镜阵列板20作为TFT阵列基板10加以利用。或者说，也可以作为对向基板(并非微透镜阵列板20)单纯使用在玻璃基板等上形成了对向电极和取向膜的基板，在TFT阵列基板10一侧安装微透镜阵列板20。也就是说，本发明的微透镜可以装入或安装到TFT阵列基板10一侧。
另外，在图17中表示出液晶装置100的结构，该液晶装置100以朝向作为光出射方的像素电极一侧使微透镜500的透镜周缘部500A成为凹形的方式，配置有微透镜500，但是也可以以微透镜500的透镜周缘部500A朝向同一附图中的上方成为凹形的方式配置微透镜阵列板20。
(电子设备)
对于将上述电光装置作为光阀使用的电子设备一个示例的投影式彩色显示装置的实施方式，说明其整体结构特别是光学方面的结构。在这里，图18是投影式彩色显示装置的图解剖面图。
在图18中，作为投影式彩色显示装置一个示例的液晶投影机1100的结构为，备有3个包括驱动电路装载到TFT阵列基板上的液晶装置在内的液晶模块，并且构成分别将其作为RGB用的光阀100R、100G及100B来使用的投影机。在液晶投影机1100中若从金属卤化物灯等白色光源的光源组件1102发出了投影光，则通过3片反射镜1106及2片分色镜1108分成与RGB三原色对应的光成份R、G及B，并分别被引导到与各色对应的光阀100R、100G及100B上。此时，特别是B光为了防止因较长的光程而引起的光损耗，要通过由入射透镜1122、中继透镜1123及出射透镜1124构成的中继透镜***1121进行引导。而且，通过光阀100R、100G及100B分别调制后的与三原色对应的光成份在通过分色棱镜1112再次进行合成之后，通过投影透镜1114作为彩色图像投影到屏幕上。
本发明并不限于上述实施方式，而可以在不违反从技术方案的范围及说明书的全部所领会的发明宗旨或构思的范围内进行适当变更，并且伴随那种变更的微透镜的制造方法、采用该制造方法所制造的微透镜、具备该微透镜的电光装置以及具备该电光装置的电子设备，也仍然包括于本发明的技术范围中。
Claims (14)
1.一种微透镜的制造方法，其特征为，
包括，
在透明基板上的形成微透镜的透镜曲面的透镜形成区域中，形成平面形状为岛状的腐蚀阻挡层的工序；
在上述腐蚀阻挡层上形成中间层的工序；
在上述中间层上形成在与上述腐蚀阻挡层对向的位置上设置有开口部的腐蚀掩模层的工序；以及
采用各向同性腐蚀法，从上述开口部对上述中间层进行腐蚀，再从上述腐蚀阻挡层的侧旁将上述透明基板与上述中间层一并进行腐蚀的腐蚀工序。
2.根据权利要求1所述的微透镜的制造方法，其特征为，
上述中间层的腐蚀速率比上述透明基板的腐蚀速率大。
3.根据权利要求1或2所述的微透镜的制造方法，其特征为，
上述腐蚀阻挡层的平面形状为圆形。
4.根据权利要求1到3中任一项所述的微透镜的制造方法，其特征为，
上述开口部的平面形状为圆形。
5.根据权利要求1到4中任一项所述的微透镜的制造方法，其特征为，
上述开口部和上述腐蚀阻挡层在上述透明基板上平面看位于同轴。
6.根据权利要求1到5中任一项所述的微透镜的制造方法，其特征为，
在上述透镜形成区域内，形成有上述腐蚀阻挡层的区域的尺寸比形成有上述开口部的区域的尺寸大。
7.一种微透镜，其特征为，
具备：
透镜周缘部，其以包括在一个平面的法线的周围环状延伸的棱线的方式朝向该棱线外侧及内侧的各自倾斜，沿着上述法线从上述一个平面突出；和
透镜中央部，其被上述透镜周缘部所包围，沿着上述法线朝向上述一个平面凹陷；
从上述透镜周缘部的表面到上述透镜中央部的表面的区域为透镜曲面。
8.一种微透镜，其特征为，
具备：
透镜周缘部，其具有第1透镜曲面，该第1透镜曲面以包括在一个平面的法线的周围环状延伸的棱线的方式朝向该棱线外侧及内侧的各自倾斜，沿上述法线从上述一个平面突出；和
透镜中央部，其具有第2透镜曲面，该第2透镜曲面被上述透镜周缘部所包围，并且和上述第1透镜曲面连续连结，沿上述法线朝向上述一个平面凹陷。
9.根据权利要求7或8所述的微透镜，其特征为，
上述透镜周缘部和上述透镜中央部以上述法线为中心轴同轴地形成。
10.根据权利要求8所述的微透镜，其特征为，
上述第1透镜曲面及上述第2透镜曲面的曲率半径不同。
11.根据权利要求8所述的微透镜，其特征为，
以与上述棱线延伸的延伸方向正交的面截上述第1透镜曲面后的剖面形状，为球面形状或者非球面形状。
12.一种微透镜阵列，其特征为，
排列有多个权利要求7到11中任一项所述的微透镜。
13.一种电光装置，其特征为，
具备权利要求7到11中任一项所述的微透镜。
14.一种电子设备，其特征为，
具备权利要求13所述的电光装置。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20080402 Termination date: 20150831 |
|
| EXPY | Termination of patent right or utility model |