CN1637613A - 光刻装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种光刻装置，包括：在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机；存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器；对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器；转动从烘焙器提供的基板的第一转台；使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台相互通信的第一传送器；对从第一转台提供的基板进行曝光的曝光机；对从曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机；以及使得基板与第一转台、曝光机以及显影机相互通信的第二传送器。

Description

光刻装置
技术领域
本发明涉及一种光刻装置。
背景技术
包括液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)的平板显示器包含多个通过光刻处理形成的薄膜。
光刻技术包括：用涂胶机涂覆抗蚀剂，用曝光机或者对准器曝光，最后用显影机显影。
涂胶机、曝光机和显影机被经由一传送器安排成适用于一受约束的***。
由于近来可用的曝光机能够在没有预置的情况下有效地处理基板，因此，所述基板最好能够连续地进/出曝光机。此外，由于曝光的抗蚀剂连续地经历化学反应，因此，从曝光机中取出的基板最好被立即送进显影机。
然而，上述设备的不同处理次数以及传送器占用的传送时间将引起诸如传送器或者曝光机停机时间的空载时间。
发明内容
提供了一种光刻装置，该装置包括：在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机；存放涂胶机所提供的基板的第一缓冲器；对由第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器；转动由烘焙器提供的基板的第一转台；使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台通信的第一传送器；对由第一转台提供的基板进行曝光的曝光机；对由曝光机所提供的基板上面的抗蚀剂进行显影的显影机；以及使基板与第一转台、曝光机以及显影机通信的第二传送器。
第一转台和第一缓冲器可以相互垂直地对准。
该光刻装置还可以包括一个用于转动由曝光机所提供基板的第二转台。
该光刻装置还可以包括一与第二转台垂直对准的第二缓冲器。
第二传送器还可以使基板与第二缓冲器以及第二转台通信。
第一传送器可以被置于涂胶机、烘焙器以及第一转台的附近。
第一传送器可以从涂胶机中取出基板，把基板送入第一缓冲器和烘焙器并将其从中取出，和把该基板送入第一转台。
第二传送器可以被置于第一缓冲器、曝光机以及第二缓冲器的附近。
第二传送器可以从第一转台中取出基板，把基板送入曝光机和第二缓冲器并从中取出，和把该基板送入第二转台。
该光刻装置还可以包括一个置于第二转台和显影机之间的一辅助曝光机。
该光刻装置还可以包括一个把基板从第二缓冲器传送到辅助曝光机和显影机的一输送器。
该光刻装置还可以包括置于第二转台和辅助曝光机之间的一第三传送器。
提供一种光刻装置，该装置包括：在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机；存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器；对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器；转动从烘焙器提供的基板的第一转台；使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台通信的第一传送器；对从第一转台提供的基板进行曝光并彼此分开的第一和第二曝光机；装载从第一和第二曝光机提供的基板的第二转台；使基板与第二曝光机以及第一和第二转台相互通信的第二传送器；以及对从第一和第二曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机。
该光刻装置还可以包括一垂直对准第二转台的第二缓冲器。
第二传送器可以在第一和第二转台与第一和第二曝光机之间移动。该光刻装置还可以包括放在第一曝光机和第二曝光机之间的第三缓冲器。
或者，该光刻装置还可以包括：放置在第一曝光机和第二曝光机之间并与第二传送器相互通信的第三缓冲器；以及使基板与第三缓冲器以及第一和第二曝光机相互通信的第三传送器。
提供一种光刻装置，包括：在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机；存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器；对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器；转动烘焙器提供的基板的第一转台；使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台相互通信的第一传送器；对从第一转台提供的基板进行曝光的第一和第二曝光机；装载从第一和第二曝光机提供的基板的第二转台；使基板与第二曝光机以及第一和第二转台相互通信的第二传送器；使基板与第一曝光机以及第一转台相互通信的第三传送器；以及对从第一和第二曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机。
第二传送器可以把第一转台上由第三传送器传送来的基板传送到第二转台。
该光刻装置还可以包括垂直对准第二转台的第二缓冲器。
附图说明
通过参照附图详细地描述其中的实施例，可以使本发明变得更为清楚，其中：
图1是本发明一个实施例中的光刻装置的示意性布局图；
图2是图1所示光刻装置中的一对缓冲器和转台的示意性截面图；
图3示出图1和图2所示光刻装置中基板传送的流程图；
图4是本发明另一实施例中的光刻装置的示意性布局图；
图5和6是本发明又一实施例中的光刻装置的示意性布局图；
图7和8是本发明别的实施例中的光刻装置的示意性布局图。
具体实施方式
下面将参照附图更全面地描述本发明，在所述附图中示出了本发明的优选实施例。但是，本发明可以采用不同的形式来实施，不应该认为限制于所阐述的实施例。整个附图中相同的数字表示相同的元件。
现在，参照附图描述根据本发明实施例的光刻装置。
下面参照图1和图2详细地描述本发明一个实施例中的光刻装置。
图1是本发明一个实施例中的光刻装置的示意性布局图，图2是图1所示光刻装置中的一对缓冲器和转台的示意性截面图。
参照图1，根据该实施例的光刻装置包括：涂胶机10、烘焙器20、一对第一缓冲器31和第一转台32、曝光机(或者对准器)40、一对第二缓冲器51和第二转台52、边缘曝光机60、显影机70以及被安排成字符“U”形的第一和第二传送器81和82。
涂胶机10、第一传送器81、第一对缓冲器31和转台32被串联对准，显影机70、边缘曝光机60以及第二对缓冲器51和转台52被串联对准，以便使它们与涂胶机10、第一传送器81以及第一对缓冲器31和转台32彼此相互平行。第二传送器82置于第一对缓冲器31、转台32和第二对缓冲器51、转台52之间。曝光机40置于第二传送器82附近，烘焙器20置于第一传送器81附近。
涂胶机10在基板1上涂覆光致抗蚀剂(未示出)。
烘焙器20对涂覆有光致抗蚀剂的基板1进行软烘焙。软烘焙将光致抗蚀剂中的残留溶剂蒸发掉，因而增强了光致抗蚀剂和基板1之间的粘着性。
曝光机40将掩模(未示出)和基板1对准，并通过掩模将基板1曝光，该掩模具有将被转印到基板1用以在其上形成各部件的主要图案。
边缘曝光机60通过另一掩模将基板1曝光，该掩模具有代表有关基板1等信息的第二图案，并且其置于边缘附近。可以连同边缘曝光机60一起设置一个字幕拍录装置。
显影机70对基板1上的光致抗蚀剂显影以及硬烘焙。
缓冲器31和51以及转台32和52临时性地存放基板1。参照图2，可以转动的转台32和52被置于缓冲器31和32的下方。但是，转台32和52也可以置于缓冲器31和51的上方。第二缓冲器51可以包括一个输送机，或被省略。
第一传送器81被涂胶机10、烘焙器20以及第一对缓冲器31和转台32所围绕以便传送基板1，第二传送器82被第一对缓冲器31和转台32，曝光机40以及第二对缓冲器51和转台52所围绕，以便传送基板1。第一和第二传送器81和82可以旋转或在垂直方向上移动，并且可以包括可以在水平面内移动的机械臂。
参照图3详细地描述该光刻装置的运作。
图3是示出图1和图2所示光刻装置中基板传送的流程图。
用涂胶机10在基板1上涂覆光致抗蚀剂(未示出)，从涂胶机10中取出基板1，并由第一传送器81将其送进第一缓冲器31(S100)。在烘焙器20可以处理基板1之前，第一缓冲器31临时性存放基板1。
当烘焙器20就绪时，从第一缓冲器31中取出基板1，并由第一传送器81将其送到烘焙器20(S200)。基板1在烘焙器20中软烘焙后从中取出，并由第一传送器81将其装载载第一转台32上(S300)。在这种情况中，软烘焙和曝光没有间断地依次进行。如果在软烘焙和曝光中间需要等待时间，那么基板1从烘焙器20中取出后可以存放在第一缓冲器31中。然而，也可以根据软烘焙和曝光两种处理时间差来控制从基板1到烘焙器20的装载时间，使得软烘焙和曝光没有间断地依次进行。也即是，装载到烘焙器20的时间由烘焙器20的处理时间和曝光机40准备所需的时间来确定。因此，同曝光机40就绪之前烘焙器20的处理时间一样早地将基板1装载到烘焙器20中去。
通过第一转台32将基板1转动，并经由第二传送器82将其传送到曝光机40(S400)。在曝光之后，通过第二转台82将基板1从曝光机40中取出并装载到第二转台52上(S500)。
通过第二转台52将基板1转动，并经由第二传送器82将其传送到第二缓冲器51(S600)。由输送器(未示出)将装在第二缓冲器51中的基板1传送到边缘曝光机60(S700)，在那经过二次曝光。
在二次曝光之后，输送器(未示出)将基板1传送到显影机70(S800)，并将涂覆在基板1上的光致抗蚀剂显影以形成想要的图案。
最好根据曝光机40的节拍时间来设计上述步骤。即，能够没有间断地依次将基板1从烘焙器20中取出馈送到曝光机40，使得曝光机不会停下来，并且在经过曝光机40的曝光后的基板1被立即送到边缘曝光机60再送到显影机70，从而防止曝光的光致抗蚀剂变质劣化。
如上所述，在烘焙器20和曝光机40之间提供两个传送器81和82以及两个转台32和52，并且缓冲器31和51以及转台32和52相互垂直对准。因而减少了瓶颈现象，使得总节拍时间减少了，因而光刻装置能够高效地运行。这里，节拍时间指的是从装进基板到取出基板设备所花的时间，总节拍时间表示从装进基板到取出基板该光刻装置所花的时间。此外，光刻***的设置得到简化。
下面，参照图4详细地描述本发明另一个实施例中的光刻装置。
图4是本发明另一实施例中的光刻装置的示意性布局图。
象图1所示的光刻装置一样，图4所示的光刻装置包括涂胶机10，烘焙器20，一对第一缓冲器31和第一转台32，曝光机(或者对准器)40，一对第二缓冲器51和第二转台52，边缘曝光机60，显影机70，以及第一和第二传送器81和82，它们以和图1所示的方式类似设置。
但是，和图1所示的不同，这个实施例中的光刻装置还包括设置在第二转台52和边缘曝光机60之间的第三传送器83。第三传送器83将放置在第二缓冲器51上的基板1取出并将其送到边缘曝光机60。
上述图1和图2所示的光刻装置的许多特征适用于图4所示的光刻装置。
下面参照图5和图6详细地描述本发明另一实施例中的光刻装置。
图5和6是本发明另一实施例中光刻装置的示意性布局图。
象图1所示的光刻装置一样，图4所示的光刻装置包括涂胶机10、烘焙器20、一对第一缓冲器31和第一转台32、一对第二缓冲器51和第二转台52、边缘曝光机60、显影机70以及第一和第二传送器81和82，它们以和图1所示的方式类似设置。
但是，在这个实施例的光刻装置中，用一对第一和第二曝光机41和42代替图1所示的单个曝光机40，并且包括设置在曝光机41和42之间的第三缓冲器4。第一曝光机41和涂胶机10、第一传送器81以及第一对缓冲器31和转台32对准，第二曝光机42和曝光机70、边缘曝光机60以及第二对缓冲器51和转台52对准。
此外，第一和第二曝光机41和42彼此分开形成一条通道，并且第二传送器82可以沿着这条通道从图5所示的位置移动到图6所示的位置，以便它能够达到第三缓冲器4和曝光机41、42，以及第一和第二缓冲器31和51，第一和第二转台32和52。
第二传送器82从第一转台32中取出基板1，移至曝光机41和42，并且将基板送入曝光机41和42之一。在经过曝光之后，第二传送器82从曝光机41和42中取出基板1，移至第二转台52，并将基板1装在第二转台52上。第二传送器82重复这个操作。这里，在曝光机41和42就绪前，第三缓冲器4临时性存放基板1。
因而，这个实施例中的光刻装置解决了以前单个曝光机的瓶颈问题。因为形成有机绝缘层的曝光时间一定程度上比正常光致抗蚀剂的要长，并且曝光的节拍时间较长，所以这个***有效地用于在例如液晶显示面板这样的显示面板的基板上形成有机绝缘层的光刻工艺。
上述图1和图2所示的光刻装置的许多特征适用于图5和图6所示的光刻装置。
下面，参照图7详细地描述本发明另一实施例中的光刻装置。
图7是本发明另一实施例中光刻装置的示意性布局图。
象图5和图6所示的光刻装置一样，图7所示的光刻装置包括涂胶机10、烘焙器20、一对第一缓冲器31和第一转台32、一对第一和第二曝光机(或者对准器)41和42、一对第二缓冲器51和第二转台52、边缘曝光机60、显影机70、第三缓冲器5以及第一和第二传送器81和82，并且它们以和图5和图6所示的类似方式被设置。
但是，与图5和图6所示不同的是，这个实施例中的光刻装置还包括设置在第一曝光机41和第二曝光机42之间的第三传送器83，并且将第三缓冲器5放在第二传送器82和第三传送器83之间。第二传送器82不是将从第一转台32中取出的基板1移向第一和第二曝光机41和42，而是将其装载到第三缓冲器5上，并且第三传送器83拾取基板1并将其传送到第一和第二曝光机41和42。
上述图5和图6所示的光刻装置的许多特征适用于图7所示的光刻装置。
下面参照图8详细地描述本发明另一实施例中的光刻装置。
图8是本发明另一实施例中光刻装置的示意性布局图。
象图5和图6所示的光刻装置一样，图8所示的光刻装置包括涂胶机10、烘焙器20、一对第一缓冲器31和第一转台32、一对第一和第二曝光机(或者对准器)41和42、一对第二缓冲器51和第二转台52、边缘曝光机60、显影机70以及第一和第二传送器81和82，并且它们以和图5和图6所示的类似方式设置。
但是，与图5和图6所示不同的是，这个实施例中的光刻装置还包括放置在靠近第一对缓冲器31和转台32的第三传送器83，并且和第二传送器82相对，第一和第二曝光机41和42分别放置在靠近第三传送器83和第二传送器82的地方。此外，这个实施例中的光刻装置还不包括第三缓冲器。
第三传送器83从能够以大约180度范围角度进行旋转的第一转台32中将基板1卸下，并且将其送入第一曝光机41，而第二传送器82将从第一转台32中取出的基板1送入第二曝光机42。在第一曝光机41中曝光后，第三传送器83从第一曝光机41中取出基板1，并将其装在第一转台32上。第一转台32转动大约180度，通过第二传送器82将这个第一转台32上从第一曝光机41传送来的基板1传送到第二转台52。通过第二传送器82把在第二曝光机42中曝过光的基板1取出并将其传送到第二转台52。
上述图5和图6所示的光刻装置的许多特征适用于图8所示的光刻装置。
如上所述，本发明这些实施例中的光刻装置减少了基板传送期间的空载时间，并且通过减少传送器的装载以及增加曝光的次数使得总节拍时间和(多个)曝光机的节拍时间一致。
尽管参照优选实施例已经详细地描述了本发明，但本领域普通技术人员会理解，在不脱离本发明所附权利要求阐述的精神和范围的前提下，可以进行各种变化和替换。

Claims (20)

1.一种光刻装置，包括：
一在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机；
一存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器；
一对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器；
一转动从烘焙器提供的基板的第一转台；
一使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台相互通信的第一传送器；
一对从第一转台提供的基板进行曝光的曝光机；
一对从曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机；以及
一使基板与第一转台、曝光机以及显影机相互通信的第二传送器。
2.如权利要求1所述的光刻装置，其中，第一转台和第一缓冲器彼此相互垂直对准。
3.如权利要求1所述的光刻装置，还包括转动从曝光机提供的基板的第二转台。
4.如权利要求3所述的光刻装置，还包括与第二转台垂直对准的第二缓冲器。
5.如权利要求4所述的光刻装置，其中，第二传送器使得基板与第二缓冲器和第二转台相互通信。
6.如权利要求5所述的光刻装置，其中，第一传送器被置于涂胶机、烘焙器和第一转台的附近。
7.如权利要求6所述的光刻装置，其中，第一传送器将基板从涂胶机中取出，将其送入第一缓冲器和烘焙器并从中取出，和将基板送入第一转台。
8.如权利要求5所述的光刻装置，其中，第二传送器被置于第一缓冲器、曝光机和第二缓冲器的附近。
9.如权利要求8所述的光刻装置，其中，第二传送器把基板从第一转台中取出，将其送入曝光机和第二缓冲器并从中取出，和将基板送入第二转台。
10 如权利要求4所述的光刻装置，还包括一个置于第二转台和显影机之间的辅助曝光机。
11.如权利要求10所述的光刻装置，还包括一个把基板从第二缓冲器传送到辅助曝光机和显影机中的输送器。
12.如权利要求10所述的光刻装置，还包括一个置于第二转台和辅助曝光机之间的第三传送器。
13.一种光刻装置，包括：
一在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机；
一存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器；
一对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器；
一转动从烘焙器提供的基板的第一转台；
一使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台相互通信的第一传送器；
一对从第一转台提供的基板进行曝光并彼此分开的第一和第二曝光机；
一装载从第一和第二曝光机提供的基板的第二转台；
一使基板与第一和第二曝光机以及第一和第二转台相互通信的第二传送器；以及
一对从第一和第二曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机。
14.如权利要求13所述的光刻装置，还包括与第二转台垂直对准的第二缓冲器。
15.如权利要求13所述的光刻装置，其中，第二传送器在第一和第二转台与第一和第二曝光机之间移动。
16.如权利要求15所述的光刻装置，还包括一个置于第一曝光机和第二曝光机之间的第三缓冲器。
17.如权利要求13所述的光刻装置，还包括：
一置于第一曝光机和第二曝光机之间并与第二传送器相互通信的第三缓冲器；以及
一使得基板与第三缓冲器以及第一和第二曝光机相互通信的第三传送器。
18.一种光刻装置，它包括：
一在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机；
一存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器；
一对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器；
一转动从烘焙器提供的基板的第一转台；
一使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台相互通信的第一传送器；
一对从第一转台提供的基板进行曝光的第一和第二曝光机；
一装载从第一和第二曝光机提供的基板的第二转台；
一使得基板与第二曝光机以及第一和第二转台相互通信的第二传送器；
一使得基板与第一曝光机和第一转台相互通信的第三传送器；以及
一对从第一和第二曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机。
19.如权利要求18所述的光刻装置，其中，第二传送器把第一转台上由第三传送器传送来的基板传送到第二转台。
20.如权利要求18所述的光刻装置，它还包括垂直对准第二转台的第二缓冲器。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101471237B (zh) * 2007-12-27 2012-02-29 细美事有限公司 基底处理装置以及使用该基底处理装置输送基底的方法
CN102566297A (zh) * 2010-12-31 2012-07-11 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻***
CN103579058A (zh) * 2012-07-24 2014-02-12 上海宏力半导体制造有限公司 一种多批次连续运行的方法
CN104820343A (zh) * 2014-02-03 2015-08-05 佳能株式会社 光刻装置、光刻***和物品的制造方法
WO2020133401A1 (zh) * 2018-12-27 2020-07-02 中国科学院光电技术研究所 超大面积扫描式反应离子刻蚀机及刻蚀方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100763227B1 (ko) * 2006-04-04 2007-10-04 삼성전자주식회사 분리 노광 방법을 이용한 포토마스크와 그 제조 방법 및 제조 장치
JP5961429B2 (ja) * 2012-03-30 2016-08-02 株式会社アドテックエンジニアリング 露光描画装置及び露光描画方法
JP6860365B2 (ja) * 2017-01-31 2021-04-14 キヤノン株式会社 基板処理装置、基板処理システム、基板処理方法、物品製造方法、およびプログラム

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4563085A (en) * 1983-06-02 1986-01-07 Ternes Norman A Method of producing lithographic plates
US4536458A (en) * 1984-01-03 1985-08-20 Xerox Corporation Migration imaging system
US4776745A (en) * 1987-01-27 1988-10-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Substrate handling system
JPH09107013A (ja) * 1995-10-09 1997-04-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板受け渡し装置
KR100348938B1 (ko) * 1999-12-06 2002-08-14 한국디엔에스 주식회사 포토리소그라피 공정을 위한 반도체 제조장치
JP4915033B2 (ja) * 2000-06-15 2012-04-11 株式会社ニコン 露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法
US6461986B2 (en) * 2000-07-24 2002-10-08 Tokyo Electron Limited Substrate processing method apparatus and substrate carrying method
US6950196B2 (en) * 2000-09-20 2005-09-27 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining a thickness of a structure on a specimen and at least one additional property of the specimen
JP2002184671A (ja) * 2000-12-14 2002-06-28 Tokyo Electron Ltd 基板処理システム及び基板処理方法
US6949638B2 (en) * 2001-01-29 2005-09-27 Affymetrix, Inc. Photolithographic method and system for efficient mask usage in manufacturing DNA arrays
US6525805B2 (en) * 2001-05-14 2003-02-25 Ultratech Stepper, Inc. Backside alignment system and method
US6664012B2 (en) * 2002-05-10 2003-12-16 Anvik Corporation Through-the-lens alignment for photolithography
US6826451B2 (en) * 2002-07-29 2004-11-30 Asml Holding N.V. Lithography tool having a vacuum reticle library coupled to a vacuum chamber
SG102718A1 (en) * 2002-07-29 2004-03-26 Asml Holding Nv Lithography tool having a vacuum reticle library coupled to a vacuum chamber
WO2004049408A1 (ja) * 2002-11-28 2004-06-10 Tokyo Electron Limited 基板処理システム、塗布現像装置及び基板処理装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101471237B (zh) * 2007-12-27 2012-02-29 细美事有限公司 基底处理装置以及使用该基底处理装置输送基底的方法
CN102566297A (zh) * 2010-12-31 2012-07-11 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻***
CN102566297B (zh) * 2010-12-31 2013-11-06 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻***
CN103579058A (zh) * 2012-07-24 2014-02-12 上海宏力半导体制造有限公司 一种多批次连续运行的方法
CN103579058B (zh) * 2012-07-24 2016-08-03 上海华虹宏力半导体制造有限公司 一种多批次连续运行的方法
CN104820343A (zh) * 2014-02-03 2015-08-05 佳能株式会社 光刻装置、光刻***和物品的制造方法
US9760016B2 (en) 2014-02-03 2017-09-12 Canon Kabushiki Kaisha Lithography apparatus, lithography system, and method of manufacturing article
WO2020133401A1 (zh) * 2018-12-27 2020-07-02 中国科学院光电技术研究所 超大面积扫描式反应离子刻蚀机及刻蚀方法

Also Published As

Publication number Publication date
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