CN1617019A - 利用真空的蒙片支撑装置和曝光***及其使用方法 - Google Patents

利用真空的蒙片支撑装置和曝光***及其使用方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1617019A
CN1617019A CNA2004100884422A CN200410088442A CN1617019A CN 1617019 A CN1617019 A CN 1617019A CN A2004100884422 A CNA2004100884422 A CN A2004100884422A CN 200410088442 A CN200410088442 A CN 200410088442A CN 1617019 A CN1617019 A CN 1617019A
Authority
CN
China
Prior art keywords
heat absorbing
frisket
absorbing glass
vacuum
bracing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2004100884422A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100342284C (zh
Inventor
李昌原
裴龙熙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Weihai dianmei Shiguang electromechanical Co Ltd
Original Assignee
Display Manufacturing Services Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Display Manufacturing Services Co Ltd filed Critical Display Manufacturing Services Co Ltd
Publication of CN1617019A publication Critical patent/CN1617019A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100342284C publication Critical patent/CN100342284C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
    • G03B27/52Details
    • G03B27/62Holders for the original

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

一种蒙片支撑装置,包括具有至少一个真空孔的吸收玻璃;具有预定式样的蒙片,该蒙片连接在吸收玻璃的底面上;在吸收玻璃和蒙片之间的吸收垫,用于在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间。通过真空孔排出该空间中的空气,以将蒙片牢固地固定在吸收玻璃上。

Description

利用真空的蒙片支撑装置和曝光***及其使用方法
技术领域
本发明涉及蒙片支撑装置、曝光***及其使用方法。更具体地,涉及一种利用真空牢固地支撑蒙片的蒙片支撑装置,以改进统一平面度,从而提高形成式样的准确度,还涉及一种利用这样的蒙片固定装置的曝光***和方法。
背景技术
近年来,在个人电脑、电视等各种应用中已经广泛地采用了液晶显示器(LCD)等平板显示器。众所周知,LCD包括薄膜晶体管(TFT)衬底、滤色镜衬底和位于薄膜晶体管衬底与滤色镜衬底之间的液晶层。在这里,利用公知的影印石版处理过程来形成TFT、象素电极和滤色镜等元件。
当LCD的尺寸增大时,通常趋势下,用于在衬底上形成各元件式样的蒙片的尺寸和衬底的尺寸都将增大。
当蒙片的尺寸变大时,将会发生弯曲现象,这将导致在曝光过程中很难在衬底上准确地形成式样。
因此,为了解决这个问题,已经开发出具有特别固定单元的曝光器械,该特别固定单元用于固定大尺寸的蒙片。
图1所示为传统的曝光***。
如该图所示,传统的曝光***包括光源1、部署在光源1的下面并且具有预定式样3的蒙片5、多个用于支撑蒙片5的栓4和用于安放显示衬底的安装基座,通过穿过蒙片5的光在显示衬底上形成预定的式样。
光源1发出的光透射过透光玻璃2和蒙片5的式样3,并到达显示衬底8。然后,通过蚀刻过程形成该预定的式样。
然而,利用栓来支撑大尺寸蒙片的方法在支撑蒙片的效率上仍然具有局限性。
而且,由于从光源发出的光可能会被栓折射,形成式样的精确度也可能会降低。
发明内容
本发明致力于解决现有技术的上述问题。
相应地,本发明的一个目的是提出一种使用真空而不使用栓的蒙片支撑装置,它可高效率地支撑大尺寸的蒙片,而且还提供一种曝光***和使用这种蒙片支撑装置的方法。
本发明的另一目的是不使用支撑元件来支撑蒙片,以防止光折射,从而提高形成式样的精确度。
为实现上述目的,本发明提供一种蒙片支撑装置,它包括:具有至少一个真空孔的吸收玻璃;具有预定式样的蒙片,该蒙片连接在吸收玻璃的底面上;在吸收玻璃和蒙片之间的吸收垫,用于在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间,其中通过真空孔排出该空间中的空气,以牢固地将蒙片固定在吸收玻璃上。
在本发明的另一方面,提供一种曝光***,它包括:显示板安装基座;具有真空孔的吸收玻璃,该吸收玻璃可分离地安装在该基座上部并通过真空孔与真空管道连结;用于支撑吸收玻璃的固定夹具;和位于吸收玻璃上面的光源,其中当放置蒙片在吸收玻璃的下面时,通过真空管道形成的真空将蒙片牢固地固定在吸收玻璃上。
在本发明的再一方面,提供一种使用包括吸收玻璃的曝光装置的曝光方法,该吸收玻璃具有真空孔并被支撑在固定夹具上,该方法包括这些步骤:将在进入位置具有预定式样的蒙片与吸收玻璃的底面对准;通过真空孔吸引吸收玻璃上的蒙片;以及经过该蒙片向衬底发射光。
附图说明
附图用于提供对本发明的进一步理解,附图之间互相结合并且构成本申请的一部分,而且附图对本发明的各个实施方式进行图示,并且和说明书一起用于对本发明的原则进行说明。在附图中:
图1为传统蒙片支撑装置的截面图;
图2为应用了本发明一实施例的蒙片支撑装置的曝光***的截面图;
图3为在图2所示的蒙片支撑装置的吸收玻璃上形成的槽的仰视图;
图4为对图3进行改进的例子的仰视图;
图5为对图3的另一个进行改进的例子的仰视图;
图6为与图2所示的蒙片支撑装置的吸收玻璃连接的垫的仰视图;
图7为对图6进行改进的例子的仰视图;
图8为使用根据本发明一实施例的蒙片支撑装置的流程图,该流程图图示出曝光过程;
图9为使用根据本发明另一实施例的蒙片支撑装置的流程图,该流程图图示出曝光过程。
具体实施方式
下面将详细阐述本发明的优选实施方式,在附图中图示了这些优选实施方式的示例。只要可能,各个附图中都使用相同的参考标号来表示相同或相似的部件。
参照图2和图3,本发明的曝光***包括光源10;用于支撑蒙片18的蒙片支撑单元12,该蒙片支撑单元在光源10的下面并且具有预定的式样;用于安放显示衬底的显示衬底安装基座25,穿过蒙片18的光在显示衬底上形成预定的式样。
蒙片支撑单元12包括:具有至少一个真空孔28的吸收玻璃14;具有预定式样的蒙片18,该蒙片连接在吸收玻璃14的底面上;吸收玻璃14和蒙片之间18的吸收垫16,用于在吸收玻璃14和蒙片18之间界定出空间。
吸收玻璃14由诸如石英、玻璃,以及碱石灰氧化钙和钠或者氢氧化钾的混合物(Soda lime)等透光物质形成,以允许光源10发出的光高效地穿过吸收玻璃。
真空孔28在吸收玻璃14的边缘上。各个真空孔28通过槽15而互相连接,所以空气可以在其中流动。真空汞(没有示出)与真空孔28连接,以执行产生真空的操作。
蒙片18由紫外线可以穿过的衬底形成,在蒙片18上形成用于屏蔽发射到蒙片18的光的光屏蔽式样。
因此,衬底20暴露在穿过该具有光屏蔽式样的蒙片18的光下。
为了感光耐蚀过程而执行曝光过程,感光耐蚀过程用于形成光敏层式样。另外,执行曝光过程,以使得用于连接TFT衬底22和滤色镜衬底21的密封物质***。
可以沿着吸收玻璃的边缘连接吸收垫16,也就是,吸收垫16的上表面与吸收玻璃14的底面连接,蒙片18与吸收垫16的下表面连接。
因此,通过吸收垫16,在吸收玻璃14和蒙片18之间界定出了空间30。
在上述情形中,通过真空孔28连接真空泵,因此可通过真空孔28排出在空间30中的空气,从而在空间30中形成真空。
结果,真空产生的吸收力把蒙片18吸引到吸收玻璃14,因此牢固地支撑住蒙片18。
在产生真空的操作中,由于空间30的中心部分的空气移动到真空孔28,并且紧接着被排出到外部,气流时间可能会延长。为了缩短气流时间,如图4所示,可在横向和纵向方向上形成槽37。也就是,在吸收玻璃34底面的横向和纵向方向上形成槽37,槽37连接真空孔38。
因此,当通过将真空泵与真空孔38连接而执行产生真空的操作时,可以经过横向槽和纵向槽,并通过真空孔38快速地排出在吸收玻璃34和蒙片18之间的空间30中的空气。
可选地,可以如图5所示对角线地形成槽37。也就是,在吸收玻璃44底面的对角线方向上形成槽47,以连接真空孔48。
因此,当将真空泵与真空孔48连接以执行产生真空的操作时,经过对角槽37,可以通过真空孔48快速地排出在吸收玻璃34和蒙片18之间的空间30中的空气。
此时,虽然可以如图3所示沿着吸收玻璃14的边缘形成吸收垫16,吸收垫也可以执行和槽(37,47)一样的功能。
也就是,如图6所示,吸收垫57可在吸收玻璃54的底面的横向和纵向方向上,也可以在吸收玻璃54的边缘上。在此处,吸收垫57由允许光穿过的透光物质形成。通过上述方式部署吸收垫可以快速地实现产生真空的操作。
可选地,如图7所示,吸收垫67可在吸收玻璃64底面的对角线上,也可以在吸收玻璃64的边缘上。
下面描述利用了上述本发明的蒙片支撑单元12的曝光过程。
如图8和图9所示,首先设置蒙片支撑单元12(S100)。也就是,将具有真空孔28的吸收玻璃14放置在固定夹具11上。在这里,仅仅通过将吸收玻璃14放置在固定夹具11上,夹具11便可以精确地定位,这样可以完成对蒙片支撑单元12的设置。吸收垫16连接到吸收玻璃14上。
因此,通过下面的过程,蒙片18可以通过吸收垫16连接到吸收玻璃14上。
然后,蒙片18与曝光位置对准(S110)。也就是,利用传统的自动机械70将蒙片18移到固定夹具的下部,蒙片18还贴合在吸收垫16上。在这里,通过吸收垫16在吸收玻璃14和蒙片18之间界定了空间30。
接着,执行蒙片吸收过程(S120)。也就是,真空泵与真空孔28连接,并且接着执行产生真空的操作。
当通过真空孔28排出空间30中的空气时,蒙片18被吸引到吸收玻璃14。在这里,由于吸收垫与吸收玻璃14连接,蒙片18牢固地与吸收玻璃14连接。
接着,衬底20移动到发光位置(S130)。也就是,通过传送组件(没有示出)传送衬底20到设备25,设备25将衬底升起放置在曝光位置。
当衬底20处在曝光位置时,光源10发出光。光穿过具有预定式样的蒙片18,并且到达衬底20,以使得如密封物质***。
如上所述,可以不使用别的支撑元件,而使用真空牢固地支撑蒙片。
由于没有用到支撑元件,可以避免由支撑元件造成的光折射。
本领域的技术人员显然可以意识到可以对本发明进行各种变化和修正,因此,本发明包括在权利要求范围内的各种变化和修改。

Claims (14)

1、一种蒙片支撑装置,包括:
具有至少一个真空孔的吸收玻璃;
具有预定式样的蒙片,该蒙片连接在吸收玻璃的底面上;和
在吸收玻璃和蒙片之间的吸收垫,用于在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间,
其中,通过真空孔排出该空间中的空气,以牢固地将蒙片固定在吸收玻璃上。
2、根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中该吸收玻璃由从包括石英、玻璃以及碱石灰氧化钙和钠或者氢氧化钾的混合物(Soda lime)的组中所选择的物质形成。
3、根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中该吸收玻璃的底面具有横向槽和纵向槽。
4、根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中该吸收玻璃的底面具有对角线槽。
5、根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中吸收玻璃和吸收垫由可穿过紫外线的透光物质形成。
6、根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中吸收垫在横向和纵向方向上与吸收玻璃的底面连接。
7、根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中吸收垫在对角线方向与吸收玻璃的底面连接。
8、一种曝光***,包括:
显示板安装基座;
具有真空孔的吸收玻璃,该吸收玻璃可分离地安装在该基座上部并通过真空孔与真空管道连接;
用于支撑吸收玻璃的固定夹具;和
位于吸收玻璃上面的光源,
其中,当蒙片在吸收玻璃的下面时,通过真空管道形成的真空将蒙片牢固地固定在吸收玻璃上。
9、根据权利要求8所述的曝光***,其中该吸收玻璃具有与真空管道连接的槽。
10、根据权利要求8所述的曝光***,进一步包括与吸收玻璃连接的吸收垫,以在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间。
11、一种使用具有吸收玻璃的曝光装置的曝光方法,该吸收玻璃具有真空孔并被支撑在固定夹具上,该方法包括以下步骤:
将在进入位置具有预定式样的蒙片与吸收玻璃的底面对准;
通过真空孔吸引该吸收玻璃上的蒙片;和
经过该蒙片向衬底发射光。
12 根据权利要求11所述的曝光方法,其中通过自动机械将蒙片与发光位置对准。
13、根据权利要求11所述的曝光方法,其中该吸收玻璃具有与真空孔连接的槽。
14、根据权利要求11所述的曝光方法,其中吸收垫与吸收玻璃的底面连接,以在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间。
CNB2004100884422A 2003-11-13 2004-10-29 利用真空的蒙片支撑装置和曝光***及其使用方法 Expired - Fee Related CN100342284C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030080249 2003-11-13
KR1020030080249A KR100578262B1 (ko) 2003-11-13 2003-11-13 진공을 이용한 대면적 마스크 고정장치 및 그를 이용한노광장치와 노광방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1617019A true CN1617019A (zh) 2005-05-18
CN100342284C CN100342284C (zh) 2007-10-10

Family

ID=34567722

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100884422A Expired - Fee Related CN100342284C (zh) 2003-11-13 2004-10-29 利用真空的蒙片支撑装置和曝光***及其使用方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7206061B2 (zh)
JP (1) JP4128171B2 (zh)
KR (1) KR100578262B1 (zh)
CN (1) CN100342284C (zh)
TW (1) TWI290267B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102402131A (zh) * 2011-11-11 2012-04-04 深南电路有限公司 一种曝光***
CN101730865B (zh) * 2007-05-17 2013-11-06 Kse株式会社 用于紫外线曝光装置的真空吸附器
CN104020643B (zh) * 2013-03-01 2016-08-24 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100742385B1 (ko) * 2006-01-23 2007-07-24 삼성에스디아이 주식회사 마스크 정렬장치 및 그 정렬방법
KR100828969B1 (ko) * 2007-06-29 2008-05-13 주식회사 디엠에스 실란트 경화장치의 마스크글라스 고정유닛
JP5112151B2 (ja) * 2008-04-08 2013-01-09 株式会社アルバック 光照射装置
JP5523206B2 (ja) * 2010-05-31 2014-06-18 株式会社トプコン 露光装置
JP6096515B2 (ja) * 2013-01-15 2017-03-15 株式会社アドテックエンジニアリング Itoパターン露光装置
JP6986317B2 (ja) * 2017-12-05 2021-12-22 株式会社アドテックエンジニアリング マスクユニット及び露光装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4054383A (en) * 1976-02-02 1977-10-18 International Business Machines Corporation Jig and process for contact printing
JPS60146674A (ja) * 1984-01-05 1985-08-02 Canon Inc チヤツク装置
GB2224136B (en) * 1988-10-19 1992-08-12 Dainippon Screen Mfg Auxiliary sheet for use with film holder of step-and-repeat machine
JPH04298753A (ja) * 1990-08-02 1992-10-22 Canon Inc レチクル支持装置
KR960018757A (ko) * 1994-11-30 1996-06-17 엄길용 포토마스크의 평탄성 유지하는 방법
KR970051901A (ko) * 1995-12-28 1997-07-29 이우복 대면적 하드 마스크용 마스크 홀더
KR200141130Y1 (ko) * 1996-10-07 1999-04-01 문정환 마스크 검사기의 마스크 흡착장치
SE9704193D0 (sv) * 1997-11-14 1997-11-14 Micronic Laser Systems Ab Device and method for flat holding of a substrate in microlithography
JP4048592B2 (ja) * 1998-04-03 2008-02-20 ソニー株式会社 露光装置
JP2002251017A (ja) * 2001-02-23 2002-09-06 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
JP2003100619A (ja) * 2001-09-27 2003-04-04 Nikon Corp マスク保持装置、マスク保持方法、および露光装置
KR100522725B1 (ko) * 2002-04-04 2005-10-20 주식회사 디엠에스 대면적 마스크 및 이를 구비한 노광 시스템
KR20030082729A (ko) * 2002-04-18 2003-10-23 주식회사 디엠에스 노광 시스템
US6822731B1 (en) * 2003-06-18 2004-11-23 Asml Holding N.V. Method and apparatus for a pellicle frame with heightened bonding surfaces

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101730865B (zh) * 2007-05-17 2013-11-06 Kse株式会社 用于紫外线曝光装置的真空吸附器
CN102402131A (zh) * 2011-11-11 2012-04-04 深南电路有限公司 一种曝光***
CN104020643B (zh) * 2013-03-01 2016-08-24 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7206061B2 (en) 2007-04-17
TWI290267B (en) 2007-11-21
KR20050046221A (ko) 2005-05-18
JP2005148747A (ja) 2005-06-09
TW200516355A (en) 2005-05-16
JP4128171B2 (ja) 2008-07-30
KR100578262B1 (ko) 2006-05-11
US20050105074A1 (en) 2005-05-19
CN100342284C (zh) 2007-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1249502C (zh) 液晶显示装置
CN1232904C (zh) 液晶显示器
CN101435940B (zh) 液晶显示模块及其装配方法
CN1209681C (zh) 用于制造显示面板的掩模
CN100342284C (zh) 利用真空的蒙片支撑装置和曝光***及其使用方法
CN1591132A (zh) 显示装置的背光组件
CN1716040A (zh) 液晶显示器件的背光单元及使用该背光单元的液晶显示器件
CN1163443A (zh) 用于电子设备的液晶显示器面板的固定结构
CN1825185A (zh) 背光单元及具有该背光单元的液晶显示器
CN1828388A (zh) 背光单元以及使用其的液晶显示器件
CN1672091A (zh) 背光组件和利用该背光组件的液晶显示器
CN1854861A (zh) 显示装置
CN1731246A (zh) 光学模块以及其中的定位框架
CN1504975A (zh) 背光组件和具有该背光组件的液晶显示装置
CN1892429A (zh) 涂覆装置及其操作方法
CN1487309A (zh) 光学件、制作该光学件的方法和具有该光学件的液晶装置
CN1550830A (zh) 液晶显示装置
CN1577000A (zh) 液晶显示装置及其制造方法
CN1873541A (zh) 具有良好平坦度的基板卡盘的曝光装置
CN1421729A (zh) 液晶显示模块
CN1831598A (zh) 液晶显示设备
CN1464976A (zh) 基板保持装置
CN1769975A (zh) 背光单元及液晶显示器件
CN1696795A (zh) 液晶显示器的背光模块以及其支撑结构
CN1908758A (zh) 液晶显示器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: WEIHAI DIANMEISHI OPTO-MECHATRONICS CO., LTD.

Effective date: 20140227

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20140227

Address after: Gyeonggi Do, South Korea

Patentee after: Display Production Service Co., Ltd.

Patentee after: Weihai dianmei Shiguang electromechanical Co Ltd

Address before: Gyeonggi Do, South Korea

Patentee before: Display Production Service Co., Ltd.

TR01 Transfer of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20071010

Termination date: 20191029

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee