KR960018757A - 포토마스크의 평탄성 유지하는 방법 - Google Patents
포토마스크의 평탄성 유지하는 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 포토마스크의 평탄성 유지방법에 관한 것이다.
본 발명의 포토마스크의 평탄성 유지방법은 기판(1)의 일측면에 임의의 형상을 갖는 패턴(10)이 형성되고 그 전면에 보호막(11)이 형성된 포토마스크의 반대측에 포토마스크와 투명한 보정판(3)이 일정한 간격을 유지하도록 포토마스크와 보정판(3)의 테두리부분에 스페이서(2)를 형성하여 합착시키고 보정판의 소정부분에 구멍을 형성하여 진공장치(5)에 연결시켜 구성하여 노광공정시 포토마스크와 보정판(3) 사이의 공간으로부터 공기를 흡입하여 포토마스크의 휘어짐을 방지한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 포토마스크 평탄성을 유지하는 방법을 나타낸 단면 구조도.
Claims (1)
- 포토마스크(1)와 투명한 보정판(3)이 일정간격을 유지하도록 테두리부분에 스페이서(2)를 형성하여 합착시키고 상기 보정판의 소정부위에 구멍을 형성하여 진공장치(5)에 연결시켜 노광공정시 상기 진공장치의 흡입력으로 포토마스크의 중심부분의 휘어짐을 방지하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 평탄성 유지방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940032244A KR960018757A (ko) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 포토마스크의 평탄성 유지하는 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940032244A KR960018757A (ko) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 포토마스크의 평탄성 유지하는 방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960018757A true KR960018757A (ko) | 1996-06-17 |
Family
ID=66648447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940032244A KR960018757A (ko) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 포토마스크의 평탄성 유지하는 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960018757A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100578262B1 (ko) * | 2003-11-13 | 2006-05-11 | 주식회사 디엠에스 | 진공을 이용한 대면적 마스크 고정장치 및 그를 이용한노광장치와 노광방법 |
-
1994
- 1994-11-30 KR KR1019940032244A patent/KR960018757A/ko active IP Right Grant
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100578262B1 (ko) * | 2003-11-13 | 2006-05-11 | 주식회사 디엠에스 | 진공을 이용한 대면적 마스크 고정장치 및 그를 이용한노광장치와 노광방법 |
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