CN1461422A - 具有一致的集成间隔件的液晶显示装置 - Google Patents
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Abstract
反射式液晶显示装置包括多个开口(222),其在该装置的使绝缘层(212)暴露的***区域中的像素金属层(220)中形成图案;在像素金属层中的开口之下的多个光屏蔽岛(224);和多个在岛上围绕开口并大致在岛和像素金属层之间延伸的壁(226)。多个间隔件(234)设置绝缘层的暴露区域上,以支承透明层(例如玻璃)(218)并为液晶材料提供间隙。本发明的结构通过使形成在***区域上的间隔件与形成在该装置的像素区域中的间隔件紧密配合从而提高了显示一致性。该结构防止光到达该装置的***区域上的基板并允许形成在该装置的***区域上的第二金属层可用于信号发送。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示装置(LCD)领域,例如在硅基板上的液晶(LCOS)装置,尤其涉及一种用于此种设置有一致的间隔件的装置的结构。
背景技术
反射式LCD装置是公知的。这种装置的示例以及特别是有源矩阵装置的示例在美国专利Nos.6023309和6052165中披露。参照以下描述,假定对于这种装置的常规特征是熟知的,以便描述仅与本发明相关的特征。
图1示出了现有技术的典型的反射式LCD装置100。该反射式LCD装置100通常被划分成像素区域100a(有源区域)和***区域100b。像素区域100a包括像素元件的阵列,而***区域100b包括用于将驱动信号输送给每一像素元件的驱动器电路105。
在相关部分中,LCD装置100包括硅基板110、绝缘层112、液晶层114、透明电极116以及透明层118(例如玻璃),该透明电极例如铟锡氧化物(ITO)。反射镜面(像素)金属层120设置在液晶层114之下的绝缘层112上。该镜面金属层120包括多个在像素区域100a内的独立的反射像素电极120a以及在LCD装置200的***区域100b内形成的大致连续的***部分120b。透光区域122定位在像素电极120a之间。
光屏蔽金属层124和线路确定金属层128、130也设置在绝缘层112中以及镜面金属层120与基板110之间。在像素区域100a中,金属层128、130形成相互正交的行线和列线,其连接到用于形成在底层基板110中像素元件的MOS(金属氧化物半导体)晶体管(图1中未示出)的栅电极和源电极上。在***区域100b中,金属层128、130形成用于发送驱动器电路的不同信号的信号发送线。另外,金属插塞或通路132设置用来将光屏蔽金属层124的不同部分与该第三和第四金属层128、130彼此连接。
设置金属层124以防止例如经像素电极120a之间的透光区域122进入该装置的光到达基板110,在该基板处光会感应出漏电流,以干扰装置的适当工作。虽然金属层128或130的某些部分可能偶然地阻挡进入该装置的一小部分光,但是图1中的结构需要分离的金属层124,该金属层用于在***区域100b中提供所需程度的光阻挡。
多个间隔件或柱状件设置用来支承透明层118并提供用于液晶层114的间隙。在像素区域100a中,间隔件134a直接放置在绝缘层112上。在***区域100b中,间隔件134b设置在镜面金属层120的***部分120b上。
为了保持液晶元件间隙的一致,对于在***区域100b中的间隔件必需具有与在像素区域100a中的间隔件相同的高度。然而,形成在***区域100b中的镜面金属层120上的间隔件134b比形成在像素区域100a中的绝缘层112上的间隔件134a要高,这是因为金属层120的额外高度导致的,这样产生了不一致的显示。
因此,所希望的是提供一种在反射式LCD装置的像素区域和***区域中具有高度更一致的间隔件的液晶显示装置。其它和进一步的目的和优点将在以下描述中清晰地显示出来。
发明内容
因此本发明的目的在于提供一种具有一致的间隔件结构的液晶显示装置(LCD)。
依据本发明的一个方面,LCD装置设置成具有像素区域和邻接该像素区域的***区域,该装置包括:硅基板;在该基板上的绝缘层;在该绝缘层上的第一金属层,该金属层包括在像素区域内的像素电极的阵列以及在***区域内的***部分,该***部分具有多个在其中的开口;多个间隔件位于该开口中;在第一金属层和基板之间的第二金属层;以及多个壁,每一壁对应于多个开口中的一个相应开口并大致在第二金属层和第一金属层之间延伸。
附图说明
图1是现有技术的液晶显示(LCD)装置的一部分的简化截面图;
图2是简化截面图,其示出了依据本发明的一个或多个方面的、具有集成间隔件的LCD装置的一个实施例的一部分;和
图3是图2所示的LCD装置的一部分的顶视平面图。
具体实施方式
图2是简化截面图,其示出了依据本发明的一个或多个方面的LCD装置的一部分。为了简化,示出了那些与本发明相关的装置的部分。反射式LCD装置200通常被划分成像素区域200a(有源区域)和***区域200b。像素区域200a包括像素元件的阵列,而***区域200b包括用于将驱动信号输送给每一像素元件的驱动器电路(在图2中未示出)。
在相关部分中,LCD装置200包括硅基板210,绝缘层212、液晶层214、透明电极216以及透明层218(例如玻璃)依次设置在该基板上,该透明电极例如铟锡氧化物(ITO)。第一金属层220设置在液晶层214之下的绝缘层212上。该第一金属层220包括在像素区域200a内形成的多个独立的反射像素电极220a以及在LCD装置200的***区域200b内形成的***部分220b。透光区域222定位在像素电极220a之间。多个开口220c形成在第一金属层220的***部分220b中,每一开口是绝缘层212的一部分暴露。
第二金属层224也设置第一金属层220与基板210之间。第二金属层224包括在像素区域200a中的光屏蔽部分224a以及在***区域200b中的多个信号发送线224b和光屏蔽件224c。大致在第一金属层220的***部分220b和光屏蔽件224c之间延伸的阻挡光的隔壁或壁226设置在每一光屏蔽件224c处。第三和第四金属层228和230设置在第二金属层224和基板210之间。另外,金属插塞或通路232设置用来彼此连接第二、第三和第四金属层的不同部分。
多个集成的间隔件或柱状件234设置用来支承透明电极216和透明层218并提供用于液晶层214的间隙。在像素区域200a中,间隔件234直接放置在像素电极220a之间的透光区域222中的绝缘层212上。在***区域中,间隔件234定位在第一金属层220的***部分220b中的开口220c上。优选的是,间隔件234这样形成,即通过在第一金属层220和暴露的绝缘层212上均匀地施加所需高度的涂层(例如Si3N4;SiO2)并蚀刻该施加的材料,以形成该间隔件234。间隔件234的高度和直径选择成,以提供用于液晶层214的所需间隙并提供支承透明层218所需的强度。在一个实施例中,间隔件234可具有1-2μm的高度以及小到0.4μm的直径。可较简化制造过程的较大的间隔件也可使用。
该实施例的相关的不同元件的工作将进行描述。
有利的是,第一金属层220是镜面(像素)金属层,以使该金属层阻挡直接照射到其上的光以防止其到达基板210。然而,开口220c在***区域200b中的第一金属层220的***部分220b中形成,以使在***区域200b中的间隔件234具有与像素区域200a中的间隔件234一致的高度。因此,必需防止照射到开口220c上的光到达基板210。
为了该目的,可使用第二金属层22 4作为大致连续的用于光屏蔽区域,以覆盖整个***区域220b。在该情况下,任何穿过第一金属层220的开口220c的光由第二金属层224阻挡,以防止其到达***区域200b中的基板210。
然而,如果金属层224还可用于在***区域200b中发送驱动器电路的信号,而不是仅用于阻挡光,用于驱动器电路205的所需面积可减小。
因此,在优选实施例中,第二金属层224包括在***区域200b中的光屏蔽件224c,其布置在开口220c的下方。优选的是,每一光屏蔽件224c是一孤立岛,大致与第二金属层224的其余部分分离。另外,大致在第一金属层220的***部分220b和光屏蔽件224c之间延伸的阻挡光的隔壁或壁226设置在每一光屏蔽件224c上。优选的是,壁226围绕整个开口220c连续地形成。另外,优选的是,壁226垂直地延伸以将光屏蔽件224c连接到第一金属层220的***部分220b上。
图3是顶视平面图,其示出了LCD装置200的***部分220b在第一金属层220中的一个开口220c附近的一部分。如图3所示,在一个实施例中,在第一金属层220的***部分220b中的开口220c呈十字形状,并且间隔件234定位在该十字交叉的中间处。在一个实施例中,沿“x”和“y”的每一方向该“十字”的端部到端部的长度为1.2μm。这模拟了像素电极220a之间的区域,在该处,间隔件234定位在像素区域200a中,以产生更佳的显示一致性。
同时,光屏蔽件224c可以是任何适当尺寸或形状的孤立岛,只要其至少与开口220c一样大即可。在一个实施例中,沿“x”和“y”的每一方向该光屏蔽件的长度为3.5μm。壁2 26可以是任何适当的尺寸或形状,只要其大致包围开口220c即可,并且不大于光屏蔽件224c。
优选的是,通过使绝缘层212中的垂直延伸的通路形成图案并且在沉积第一金属层220之前在其中沉积光阻挡材料,从而形成该壁226。该壁226在与连接到像素电极220a的金属插塞232形成的相同的步骤中形成。另外,优选的是,该壁226由钨制成。在这种情况下,壁226由与绝缘层212中的通路232相同的材料制成,这样就不需要额外的处理步骤。然而,也可使用其它的光阻挡材料和制造方法。在一个实施例中,壁226具有约1μm的高度,以便在第一金属层220和第二金属层224之间垂直地延伸并将其连接起来。在这种情况下,壁226的厚度约为0.4μm。
尽管参照其优选实施例特别地示出了并描述了本发明,对于本领域的普通技术人员应当理解,可在不脱离由权力要求书限定的本发明的范围的情况下做出不同的详细变型。
Claims (22)
1.一种液晶显示装置(200),其具有像素区域(200a)和邻接该像素区域(200a)的***区域(200b),该装置包括:
硅基板(210);
在该基板(210)上的绝缘层(212);
在该绝缘层(212)上的第一金属层(220),该金属层包括:
在该像素区域(200a)内的像素电极(220a)的阵列,以及
在该***区域(200b)内的***部分(220b),该***部分具有多个在其中的开口(222),该开口使该绝缘层(212)的一些部分暴露;
在***区域(200b)内的绝缘层(212)的暴露部分(222)上的多个间隔件(234);
在第一金属层(220)和基板(210)之间的第二金属层(224),该金属层包括:
在第一金属层(220)的***部分(220b)内处于该开口(222)之下的多个光屏蔽件(224c),以及
在***区域(200b)内的多个信号发送线(224b);以及
多个壁(226),每一所述壁对应于多个开口(222)中的一个相应开口并大致在第二金属层(224)和第一金属层(220)之间延伸。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置(200),其特征在于,每一所述壁(226)围绕相应的开口(222)是大致连续的。
3.如权利要求1所述的液晶显示装置(200),其特征在于,该壁(226)包括不透明的材料。
4.如权利要求1所述的液晶显示装置(200),其特征在于,多个光屏蔽件(224c)中的每一个是孤立岛。
5.如权利要求1所述的液晶显示装置(200),其特征在于,多个壁(226)中的每一个壁处于所述光屏蔽件(224c)中的相应的一个光屏蔽件上。
6.如权利要求1所述的液晶显示装置(200),其特征在于,其还包括在第二金属层(224)和基板(210)之间的第三金属层(228)和第四金属层(230),该第三金属层(228)和第四金属层(230)均包括多个在***区域(200b)内的附加的信号发送线。
7.如权利要求1所述的液晶显示装置(200),其特征在于,其还包括在像素区域(200a)内的像素电极(220a)之间的绝缘层(212)上多个间隔件(234)。
8.如权利要求1所述的液晶显示装置(200),其特征在于,其还包括在像素区域(200a)内的像素电极(220a)之间的至少一个间隔件(234),该间隔件具有与***区域(200b)内的多个间隔件(234)中的至少一个间隔件相同的高度。
9.一种液晶显示装置(200),其具有像素区域(200a)和邻接该像素区域(200a)的***区域(200b),该装置包括:
基板(210);
在该基板(210)上的绝缘层(212);
在该绝缘层(212)上的第一金属层(220),该金属层包括:
在该像素区域(200a)内的像素电极(220a)的阵列,以及
在该***区域(200b)内的***部分(220b),该***部分具有在其中的开口(222);
在***区域(200b)内的第一金属层(220)中的开口(222)中的间隔件(234);
在第一金属层(220)和基板(210)之间的第二金属层(224),以及
在***区域(200b)内的第一金属层(220)中的开口(222)之下的壁(226),该壁大致在第二金属层(224)和第一金属层(220)之间延伸。
10.如权利要求9所述的液晶显示装置(200),其特征在于,所述壁(226)围绕该开口是大致连续的。
11.如权利要求9所述的液晶显示装置(200),其特征在于,第二金属层(224)包括在第一金属层(220)内的***部分(220b)中的开口(222)之下的光屏蔽件(224c),并且该壁(226)大致在光屏蔽件(224c)和第一金属层(220)之间延伸。
12.如权利要求9所述的液晶显示装置(200),其特征在于,其还包括在像素区域(200a)内的至少一个间隔件(234),该间隔件具有与***区域(200b)内的间隔件(234)相同的高度。
13.如权利要求9所述的液晶显示装置(200),其特征在于,所述开口(222)使绝缘层(212)的一部分暴露,并且间隔件(234)处在该绝缘层(212)的暴露部分上。
14.一种液晶显示装置(200),其具有像素区域(200a)和邻接该像素区域(200a)的***区域(200b),该装置包括:
基板(210);
在该基板(210)上的绝缘层(212);
在该基板(210)之上的第一金属层(220),该金属层包括:
在该像素区域(200a)内的像素电极(220a)的阵列,以及
在该***区域(200b)内的***部分(220b),该***部分具
有在其中的开口(222);
在***区域(200b)内的第一金属层(220)中的开口(222)中的间隔件(234);
在第一金属层(220)和基板(210)之间的第二金属层(224),该金属层包括:
在第一金属层(220)的***部分(220b)内处于该开口(222)之下的光屏蔽件(224c),以及
在***区域(200b)内的多个信号发送线(224b);以及
在第二金属层(224)和基板(210)之间的第三金属层(228)和第四金属层(230),该第三金属层(228)和第四金属层(230)均包括多个在***区域(200b)内的附加的信号发送线。
15.如权利要求14所述的液晶显示装置(200),其特征在于,该第三金属层(228)和第四金属层(230)形成用于液晶显示装置(200)的相互正交的行线和列线。
16.如权利要求14所述的液晶显示装置(200),其特征在于,光屏蔽件(224c)是孤立岛。
17.如权利要求14所述的液晶显示装置(200),其特征在于,其还包括在像素区域(200a)内的至少一个间隔件(234),该间隔件具有与***区域(200b)内的间隔件(234)相同的高度。
18.一种制造液晶显示装置(200)的方法,该液晶装置具有像素区域(200a)和邻接该像素区域(200a)的***区域(200b),该方法包括:
在基板(210)上形成绝缘层(212);
在该基板(210)之上形成第一金属层(224),
在该第一金属层(224)之上形成像素金属层(220),该像素金属层(220)包括在像素区域(200a)内的像素电极(220a)的阵列以及在该***区域(200b)内的***部分(220b),该***部分具有在其中的多个开口(222),该开口使该绝缘层(212)的一些部分暴露;以及
形成多个壁(226),每一所述壁对应于多个开口(222)中的一个相应开口并大致在第一金属层(224)和该像素金属层(220)的***部分(220b)之间延伸。
19.如权利要求18所述的方法,其特征在于,形成第一金属层(224)的步骤包括:
在像素金属层(220)的***部分(220b)内直接处于该开口(222)之下形成多个光屏蔽件(224c),以及
在***区域(200b)内形成多个信号发送线(224b);以及
20.如权利要求18所述的方法,其特征在于,每一所述壁(226)围绕相应的开口(222)是大致连续的。
21.如权利要求18所述的方法,其特征在于,该壁(226)由不透明的材料制成。
22.一种液晶显示装置(200),其具有像素区域(200a)和邻接该像素区域(200a)的***区域(200b),该装置包括:
基板(210);
在该基板(210)上的绝缘层(212);
在该绝缘层(212)上的第一金属层(220),该金属层包括:
在该像素区域(200a)内的像素电极(220a)的阵列和多个在
其之间的第一凹部(222),以及
在该***区域(200b)内的***部分(220b),该***部分具
有在其中的多个第二凹部(222);以及
在多个第一凹部(222)和多个第二凹部(222)中的间隔件(234),至少一个在多个第一凹部(222)中的间隔件(234)与至少一个在多个第二凹部(222)中的间隔件(234)具有相同的高度。
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