CN1302340C - 采用一维触发面的刻蚀技术以及在存储介质上产生数字全息图的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于在存储介质上产生数字全息图的方法，其中解决的技术问题是，使用光学刻蚀仪(lithography)来写入计算机全息图的速度尽可能快，并且减小了同时精确控制定时触发和写入光束定位的复杂性。因为写入光束被聚焦在存储介质上，并相对于存储介质进行一维移动；而扫描光束被聚焦在一个包含多条触发线的触发面上，并相对于触发线，在横向上进行一维移动。扫描光束的移动与写入光束的移动是相互耦合的，因为在对触发线进行扫描期间，根据触发线的排列产生了定时触发信号；存储介质上写入光束的强度由定时触发信号控制；通过这样逐点的引入放射能量，全息图就被逐行写入，存储介质在相对于行扫描方向的横向上，被移动预定的距离，以写入全息图的相邻行。使用刻蚀仪产生数字全息图也可解决该技术问题。
Description
本发明涉及一种在存储介质上产生数字全息图的刻蚀技术。此外，本发明还涉及一种在存储介质中产生数字全息图的方法。
数字全息图是二维的全息图，由具有不同光学特性的各个点构成，当全息图上照射有相干(coherent)电磁波，尤其是光波时，通过传播中的衍射或反射，图像和/或数据就可被重现。各个点的不同的光学特性可以是反射材料特性，例如，作为表面形貌学的结果，改变存储介质的材料中光学路径长度(折射指数)或者是改变色值。
各个点的光学特性是由计算机计算得出的，因此涉及到被称为计算机全息(CGH)的技术。在聚焦写光束的帮助下，在写全息图的过程中，全息图的各个点被写入材料中，聚焦区位于存储介质的表面上或材料中。在聚焦区内，聚焦具有在存储介质的材料上很小的区域内进行操作的效果，这样就可以在很小的区域内写入全息图的大量的点。这种情况中，各个写入点的光学特性取决于写入光束的光强。为此，使用不同的光强，在存储介质的表面上从两个方向上对写入光束进行扫描。在这种情况下，写入光束的光强的调整可以通过光源的内部调整来实现，如激光二极管，或者，通过在光源之外的写入光束的外部调整来实现，如可借助于光电器件。此外，光源可以是脉冲激光器，其脉冲长度可以控制，这样对写入光束的光强的控制可通过脉冲长度来实现。
作为光强可调节的写入光束扫描的结果，产生了具有不规则的点分布的区域，也即数字全息图。这可用来识别和区分任何所希望的对象。
扫描刻蚀***内在地得到了广泛的应用。例如，扫描光学***已被用在传统的激光打印机中。但是，这些***不能用于产生全息图，因为这种目的的应用的要求和激光打印机中的有相当的差别。在很好的打印***中，分辨率大约是2500dpi，而在产生全息图时，需要大约25000dpi的分辨率。另外，数字全息术中，只有相当小的区域被写入。举例来说，可能是1到5mm2，也可能是别的数值。使用刻蚀技术产生数字全息图的情况下，举例来说，1×1mm2的面积上写入1000×1000个点，写入模式的精确度在两个正交的方向上必须达到大约±0.1mm。此外，写入速度需要达到大约1兆像素/s，这样才能保证在任何情况下，一张全息图都能在大约1秒钟内写完。
数字全息图也可通过传统的扫描方法产生，这种方法中，入射光束的角度是通过固定光学***来调节的。例如，具有检流计和/或多边形扫描器的扫描镜面刻蚀仪是根据此原理工作的。
到目前为止已知的所有扫描方式中，有一个缺点，即在简单结构的刻蚀中，不能对写入光束进行定时控制，而该控制使得，在需要达到的一定的写入速度下，能够保持数字全息图的预定点模式。
因此，本发明基于的技术问题是，使用光学刻蚀技术，使得写入计算机全息图的速度尽可能快，并且减小了同时对定时触发和写入光束定位进行精确控制的复杂性。
通过一种在存储介质中产生数字全息图的方法，可以解决前面提到的技术问题。该方法中，写入光束聚焦在存储介质上，并相对于存储介质进行一维移动，而扫描光束聚焦在一个含有多条触发线的触发面上，相对于触发线在横向上移动；扫描光束的移动与写入光束的移动是相耦合的；在扫描触发线时，根据触发线的排列产生定时触发信号；通过定时触发信号，可以控制照到存储介质上的写入光束的光强；通过这样逐点的引入放射能量，全息图就被逐行写入，存储介质在相对于行扫描方向的横向上，被移动预定的距离，以写入全息图的相邻行。
本发明中的一维移动是指基本在一个方向上延伸的移动。因此，一维移动特别指直线运动，但本发明中所指的一维移动也可以沿着曲线运动，也就是说偏离了直线运动。
根据本发明可以知道，在其运动与写入光束相耦合的扫描光束的协助下，通过一个与条形码类似的一维触发面可以产生一个定时触发信号。此种情况中，触发线最好平行排列，也就是说呈正交图案，但这并不是绝对必须的。在基本上不依赖于触发面而独立产生的定时触发信息以及此外的光强信息的协助下，数字全息图可以被逐点地一行一行连续写入。因此，写入光束和存储介质之间的移动被相互协调起来。例如，一旦当前行写完后，存储介质被移一个预设的距离，这样下一行才可以被写入。在存储介质相对于扫描方向横向移动时，同样也可以连续地移动存储介质，并向存储介质的材料中写入全息图的各行。
如上述所说，扫描触发线时，根据触发线的排列会产生一个定时触发信号。特别是在扫描光束和将要被扫描的一条扫描线相一致时会产生该定时触发信号。其中，一致性或者是指，到达或离开触发线、或触发线之间任意的中间区域，都能作为反射光束的门限值被测量到，或被触发面传输，或者是指，触发面具有有源器件，能够在预设的光照强度处产生定时触发信号。这个门限值要设定在测量精度内，以确保能够在所需速度下实现控制。
扫描光束最好按照预设的运动关系相对于写入光束移动。因此，扫描光束能够扫描比要写入的存储介质面积大的触发面。例如，如果触发面比要产生的全息图大10倍，扫描光束的移动就相对于写入光束的移动按照比例10∶1放大。因此，例如，如果需要写入一个面积为1×1mm2的全息图，扫描光束就要扫描面积为10×10mm2的触发面。
另外，扫描光束聚焦的大小应最好最多与触发面的触发线尺寸相当。这确保能足够精确地感应到与触发线的一致性，以及能够产生一个足够精确的定时触发信号。
触发线的光学特性可以以不同的方式来形成，在每一种情况中，都利用现有技术中常用的技术，尤其是光存储介质，如光盘(CD)或数字化通用光盘(DVD)。
在第一实施例中，触发面的触发线的反射系数与触发线邻近的横向的周围表面不同，这样，触发面的表面反射出的光能够被探测器探测到。从聚焦在探测器表面上的反射的扫描光束的光强就可得到触发信号。
在第二实施例中，触发面的触发线的透射特性与触发线邻近的横向的周围表面不同，这样，触发面透射出的光能够被探测器探测到。从测量到的透射光束的光强可以得到触发信号。
具有反射和透射特性的部分也互相可以合并在一条触发线上。
在第三实施例中，触发面上的触发线具有表面结构，如以凹槽结构的形式，这样能够检测到触发面上折射产生的衍射光束。随后，触发信号从反射光束的光强中得出，主要由衍射的两个第一顺序和零叠加而来。
上面通过举例提及的本发明的全部实施例所依据的事实是：扫描光束受触发面的光学特性影响，这种影响的方式使得可以从中探测与触发线的一致性，并可转换成控制信号，用来控制写入光束的光强。
触发面的进一步配置在于它具有有源像素，因此能够直接产生定时触发信号。通过对像素进行不同的驱动，实际上，不移动触发面本身，也可以产生不同的触发轨迹。
这里使用的有源触发面最好是空间光调制器(SLM)，那么也可实现随时间变化可调节的触发面。根据本发明中第二实施例，上面列出的技术问题可由具有权利要求15的特征的刻蚀仪来解决。
本发明上面描述的功能和最佳配置也便于用在扫描中，特别是共焦***，显微镜。此种类型的显微镜中，使用光束对需要查验的表面进行扫描或观测，同时测量反射光强度。扫描表面时，图像从反射光的测量光强之中聚合而产生。因此，如上所述，就可以按照某种模式来对表面进行扫描。
为此，在本实施例中，在反射光束的光学路径中设置了一个分光器(beam splitter)，用来把反射光引导到一个光学传感器，分光器可放在物镜的前面，或者，最好放在后面。光学传感器用来测量反射光强。
使用这种类型的显微镜，尽可能快并且不费力地观测或扫描表面的技术问题就得到了解决。这与前面描述的刻蚀仪所基于的技术问题是一致的。上面所说的刻蚀技术的优点，在此类型的显微镜中也同样能得到。
下面，将通过示范性的实施例，并参照附图，对本发明进行详细描述。附图中：
附图1显示了根据本发明的刻蚀仪的一个示范性实施例。
附图2显示了触发面的一个示范性实施例。
附图3显示了根据本发明的一个显微镜，它的结构大体上相应于与图1所示的刻蚀的结构。
图1显示了根据本发明的刻蚀仪2的第一个示范性实施例，用来在安置在载体6上的存储介质4中生成数字全息图。用来产生写入光束10的光源8最好是激光器或激光二极管，这样写入光束10是激光束。
刻蚀仪2还包括驱动装置，用来驱动写入光束10相对于存储介质4做一维运动。驱动装置可以由一个电流测定驱动扫描镜12形成，使写入光束偏转到与附图1的平面成直角的方向上。因此，扫描镜12包括一个x轴扫描镜装置。也可以用可旋转的多边形扫描镜来代替电流测定扫描镜12。
可选择地，也可以在光束路径中安置展光器件或瞄准镜15，放在扫描镜12后面，以产生展宽的写入光束10。
第一物镜16把写入光束10聚焦到要写入的存储介质4上，这样，在聚焦区17上，根据写入光束10聚焦后的光强，存储介质4的光学特性发生改变或保持不变。
根据本发明，还提供了一个二维触发面18，通过分光器20与写入光束10相耦合的扫描光束22，通过第二物镜24聚焦到聚焦区25上。
扫描光束22是第二光源26产生的，并由分光器28耦合到第一扫描镜12前的写入光束10的光束路径中。扫描光束22的波长或偏振与写入光束10不同，因此分光器28是一个二向性的或偏振分光器。那么相应地，分光器20也是二色性或偏振分光器，以将扫描光束22从共用光束路径中分离出来。
因此扫描光束22不依赖于写入光束10的光强调节，因此后者就可被关掉，也就是说把光强设置为零。
另一方面，也可以从写入光束中分离一部分光束作为扫描光束22，而不需要一个单独的光源来产生扫描光源22。那么分光器20和28就可以是部分透明的分光器。
两个物镜16、24每个都包括一个含有三个透镜的聚焦透镜***。但是物镜16、24的精密配置在这里并不重要。物镜16和24在X方向上的角度偏移最好设置成互相线性相关，使得在聚焦区17和25的移动之间产生线性耦合。
如图1中看到的刻蚀仪2的结构，驱动装置，也就是扫描镜12，不仅能驱动写入光束10，而且还驱动扫描光束22。这主要因为分光器20被放在写入光束10的光学路径中扫描镜12的后面。因此，扫描光束22和写入光束10以同样的方式做一维运动，这样扫描光束22就相对于触发面18的表面移动。这就导致了扫描光束22的移动与写入光束10的移动相互耦合。
另外，还提供了探测器30’或探测器30”，可以选用其中之一或两个都用，用来探测扫描光束22。扫描光束22的光强通过触发面18的各个触发线的光学特性来调节。这两个不同的位置如图1中所示。探测器30’和30”的功能相似，在下面将详细解释。
此外，还有用来产生触发信号的控制装置36，连接到探测器30’和/或30”。为此，提供了线40和42(如图1中在A点的中断处所示)。这样就产生了与探测器信号相一致的定时触发信号。
另外，控制装置36还产生了一个光强控制信号，该信号通过一条线送到光源8，用来控制写入光束10的光强，这里未示出该线。控制装置36可以是一台计算机。通过发送的光强控制信号，根据触发面18上扫描光束22的聚焦区25的位置，对写入光束10进行调节，而该位置和存储介质4上写入光束10的聚焦区17的位置是耦合的。
换句话说，写入光束10被设定能够以两个或更多的不同光强值记录全息图的点。在二进制写入情况中，根据是否要写像素点，光强在两个不同的值之间来回切换。同样，写入具有灰度等级的全息图的像素点也是可能的和现实的。
但是，如果如上所述，从写入光束中分离一部分光束作为扫描光束22，而不再需要一个单独的光源，那么，为了记录触发面18上的聚焦区25，就需要写入光束10的较低或最低的光强值不为零。因为它能确保扫描光束22始终有一个用于产生触发信号的最小光强值。
此外，如图1中所示的刻蚀仪2的结构，在存储介质4上的写入光束10和触发面18上的扫描光束22的移动之间，预先设定了一个和长度相关的透射率(transmission ratio)。这通过使用两个不同焦距的物镜16、24来实现。例如，如果第一个物镜16的焦距比第二个物镜24的焦距小，其系数为10，那么触发面18上扫描光束22的聚焦区25的移动比存储介质4的表面上聚焦区17的移动大的倍数就是该系数10。图1中，因为空间的关系，只示出了大约为2的焦距比。然而，这表明，在本发明的现有配置中，一个特定的比值并不重要。
另外如图所示，载体6还与驱动器50相连，在所有情况下，驱动器50都能够在待写入的全息图的两行之间，一步步地相对于写入光束移动存储介质。该移动方向如图1中的双箭头所示，并在图1的平面中水平移动。产生的结果就是，能够以正交模式写入全息图的各行。此外，驱动器也能相对于写入光束连续移动载体6，这样，在扫描镜12的帮助下，如果在扫描过程中存储介质4移动的话，全息图的各行就不再按照正交模式写入。
如图2所示，触发面18上有许多条触发线44。它们排列为垂直图案，互相之间的间距基本相同。但在一般应用中，触发线44的排列图案甚至也可预先设定为任意的形式，因此可以是曲线，之间的间距也可以不同。这是因为触发线44的排列图案再现了要写的数字全息图的点模式。
扫描光束横向扫描触发线，最好和触发线的方向成直角，这与登记条形码的情况类似。因为触发线44长度延伸了，触发面18上的扫描光束22的精确调节就不重要了。在触发线44的起始端和/或末端，最好在扫描方向上形成特定的代码，以便使得，从受触发面影响的光束中能够产生起始和/或结束信号。其中，代码可以，例如，被包含在不同宽度的触发线内，这与条形码的情形类似。
触发面18的表面可以有不同的反射特性。为此，触发面18上在一定程度具有反射层。同样，触发面的材料的不同色调也能形成不同的反射特性。材料的不同折射特性同样也会影响不同的反射特性。最后，触发面能够成为一个空间光调制器(SLM)。结果是，方便地实现了一个随时间变化的触发面。
另外，触发面18的表面也可以具有地形表面结构，这样扫描光束22就被折射性地反射。
对于光束引导面的两种配置(它们都能把扫描光束反射回光源26的方向)，在扫描光束22的光学路径中提供了一个输出光耦合器46，放在沿光束方向的扫描镜12的前面。上述耦合器把反射出的扫描光束22引导到探测器30’。在那里生成探测信号，以作为控制装置36的控制信号。
此外，触发面18的表面还可以具有不同的透射特性。因此，能够以不同的光强值，通过扫描光束22。扫描光束22允许通过的部分被光学***48聚焦到探测器30”的表面上。在那里产生了控制装置36的控制信号，再通过传输线42传输。
这种情况下，触发面18的材料也可以用不同的方式构成。本身为半透明的材料的不同色调可以产生不同的透射特性。但这种情况中，触发面18也能够成为一个空间光调制器(SLM)。结果是，方便地实现了一个随时间变化的触发面。
用于产生定时触发信号的控制装置36含有与探测器30’和/或30”相连的计算机装置。上述装置把探测器检测到的信号和期望值进行比较，以此产生用于光强控制的控制信号。
控制装置36同样也可用于产生光强控制信号。为此，控制装置36含有存储装置，其中存储了在沿着触发线44的预设位置处的光强值，在任何情况下，都可读出这些值并用来控制光源8的光强。
上面描述的刻蚀仪的配置的另一个特征是，图1中存储介质4和物镜16间的距离可以调节成不同的值。这由一个标注为“Z”的双向箭头表示。为了调节Z方向上距离，提供了图中并未示出的装置。该装置可为任何能用电动机或手工驱动的线性调节装置。通过调节该距离的装置，存储介质4的聚焦区的位置能够设置在不同的深度；同样，对于不同厚度的存储介质4来调节聚焦区也是可能的。最后，向存储介质4的不同平面上至少能写入两个数字全息图，目的是能够生成所谓的多层全息图。
图3描述了根据本发明的一个显微镜，其结构与图1中的刻蚀仪相对应。因此，这里使用了和图1中一样的标注来标明同样的器件，尽管如此，还是使用了其他的标注来详细区分写入和观测的不同处。
相比起图1所示的结构，增加了一个偏转面60，它放在表面反射光的光学路径中，在物镜16的后面，也就是说上方。这可使用半透明镜或分光器来实现，对观测光束不会产生影响或影响很小。
偏转面60把反射光束横向偏转到图7中的左边，这样，反射光束到达光敏器件62，光敏器件62用来测量反射光的光强。
相对于显微镜下要观察的目标物4，改变观测光束10，由此扫描目标物的表面并逐点测量反射系数。由此可以汇聚被扫描表面的图像。
如果光源8发出的光束，其在显微镜***中指定为观测光束，具有基本不变的光强，那么反射光束的测量光强值就可作为被扫描表面的反射系数的量度。
Claims (30)
1、在存储介质中生成数字全息图的方法，
—其中写入光束被聚焦到存储介质上，并相对于存储介质做一维运动，
—其中扫描光束被聚焦在含有多条触发线的触发面上，并相对于触发线做横向的一维运动，扫描光束的运动和写入光束的运动是相耦合的，
—其中，在扫描触发线的过程中，根据触发线的排列产生一个定时触发信号，
—其中，借助于定时触发信号可以控制存储介质上写入光束的光强，以及
—其中，通过逐点引入放射能量，可以逐行写入全息图，存储介质在相对于行扫描方向上，被横向移动了预定距离，以写入全息图的相邻行。
2、如权利要求1中所述的方法，其中，触发线呈平行排列。
3、如权利要求1或2中所述的方法，其中，借助于定时触发信息以及另外的光强度信息，数字全息图被逐点地按行连续写入。
4、如权利要求3中所述的方法，其中，光强度信息的产生与触发面无关。
5、如权利要求1中所述的方法，其中，当正在写入一行时，存储介质相对于写入光束保持不动，而在写入光束改变行时，存储介质被移动一行的距离。
6、如权利要求1中所述的方法，其中，存储介质在写入过程中是连续移动的。
7、如权利要求1中所述的方法，其中，扫描光束按照预先设定的与写入光束之间的运动关系移动。
8、如权利要求1中所述的方法，其中，扫描光束的聚焦区的大小最多和触发面的触发线的尺寸相当。
9、如权利要求1中所述的方法，其中，触发面的触发线的反射率与触发线旁边横向的周围表面不同，并且其中触发信号是从触发面表面的反射光强度得到的。
10、如权利要求1中所述的方法，其中，触发面的触发线的透射特性与触发线旁边横向的周围表面不同，并且其中触发信号是从透过触发面的光束强度得到的。
11、如权利要求1中所述的方法，其中，触发面的触发线具有表面结构，并且其中触发信号是从触发面的表面上反射性地衍射出的光束强度得到的。
12、如权利要求1中所述的方法，其中，触发面具有有源像素，并且其中定时触发信号直接由有源像素生成。
13、如权利要求12中所述的方法，其中，使用的有源触发面是一个空间光调制器。
14、如权利要求1中所述的方法，其中，调节物镜和存储介质之间的距离，以便在存储介质中不同的深度处写入。
15、一种刻蚀仪，用来在存储介质(4)中产生数字全息图，
—具有一个光源(8)，用来产生写入光束(10)，
—具有驱动装置(12)，用来驱动写入光束(10)相对于存储介质(4)做一维运动，以及
—具有一个第一物镜(16)，用于把写入光束(10)聚焦到待写入的存储介质(4)上，
其特征在于，
—触发面(18)上有多条触发线，
—具有一个产生扫描光束(22)的装置(20)，
—具有第二物镜(24)，用于把扫描光束(22)聚焦到触发面(18)上，
—驱动装置(12)相对于触发面(18)的表面移动扫描光束(22)，扫描光束(22)的移动和写入光束(10)的移动相耦合，
—具有探测器(30’，30”)，以检测扫描光束(22)，其光强由触发线(44)的光学特性来改变，
—提供了控制装置(36)，用于根据探测器(30’，30”)的信号产生一个触发信号，并且所述控制装置(36)还用来产生一个用于控制写入光束(10)的光强的信号。
16、如权利要求15中所述的刻蚀仪，其特征在于，
—驱动装置(12)是一个X/Y扫描镜装置，用来移动写入光束(10)，以及
—产生扫描光束(22)的装置(20)具有用于在驱动装置(12)后面，从写入光束(10)的光束路径中输出耦合部分写入光束(10)作为扫描光束(22)的装置。
17、如权利要求16中所述的刻蚀仪，其特征在于，所述刻蚀仪具有
—一个第二光源(26)，用来产生一个波长或偏振与写入光束不同的扫描光束(22)，以及
—输入耦合装置(28)，用来在驱动装置(12)之前，把扫描光束(22)耦合入写入光束(10)的光学路径中，以及
—输出耦合装置用于把扫描光束(22)分离出来。
18、如权利要求15至17中的任一项所述的刻蚀仪，其特征在于，设置了用于相对于写入光束(10)移动存储介质(4)的装置。
19、如权利要求15中所述的刻蚀仪，其特征在于，在触发面(18)上的扫描光束(22)和存储介质(4)上的写入光束(10)的相对运动之间设置了一个基于长度的透射比。
20、如权利要求19中所述的刻蚀仪，其特征在于，第二物镜(24)的焦距比第一物镜(16)的焦距大一个预设的因数。
21、如权利要求15中所述的刻蚀仪，其特征在于触发面(18)有多条触发线(44)。
22、如权利要求21中所述的刻蚀仪，其特征在于触发线(44)排列成图案。
23、如权利要求15中所述的刻蚀仪，其特征在于触发面(18)的触发线具有与触发线旁边横向的周围表面不同的反射特性。
24、如权利要求23中所述的刻蚀仪，其特征在于触发面(18)是一个空间光调制器。
25、如权利要求15中的所述的刻蚀仪，其特征在于触发面(18)的触发线具有一个地形表面结构。
26、如权利要求15中所述的刻蚀仪，其特征在于触发面(18)的触发线具有与触发线旁边横向的周围表面不同的透射特性。
27、如权利要求26中所述的刻蚀仪，其特征在于触发面(18)是一个空间光调制器。
28、如权利要求26或27中所述的刻蚀仪，其特征在于提供了一个光学聚焦***，用来把透射的光线聚焦到探测器(30”)上。
29、如权利要求15中所述的刻蚀仪，其特征在于设置了用于调节存储介质(4)和物镜(16)之间距离的装置。
30、用来扫描目标物的显微镜，
—具有一个产生扫描光束(10)的光源(8)，
—具有一个驱动装置(12)，用来驱动扫描光束(10)相对于目标物的一维运动，以及
—具有一个第一物镜(16)，用来把扫描光束(10)聚焦到目标物上，
其特征在于，
—设置了一个含有许多条触发线的触发面(18)，
—设置了一个用于产生扫描光束(22)的装置(20)，
—设置了一个第二物镜(24)，用于把扫描光束(22)聚焦到触发面(18)上，
—驱动装置(12)驱动扫描光束(22)相对于触发面(18)的表面移动，扫描光束(22)的移动和扫描光束(10)的移动相耦合，
—设置了探测器(30’，30”)，以检测扫描光束(22)，其光强由触发线(44)的光学特性来改变，以及
—设置了控制装置(36)，用来根据探测器(30’，30”)的信号产生一个触发信号，并且所述控制装置(36)还来用产生一个用于控制扫描光束(10)的光强的信号。
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| DE102007006120A1 (de) * | 2007-02-02 | 2008-08-07 | Tesa Scribos Gmbh | Speichermedium mit einer optisch veränderbaren Speicherschicht |
| JP2009212498A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-09-17 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
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| CN102103332B (zh) * | 2011-03-14 | 2012-12-12 | 张雯 | 高速数字扫描直写光刻装置 |
| CN103226294A (zh) * | 2013-04-27 | 2013-07-31 | 苏州微影光电科技有限公司 | 一种提高曝光图形位置精度的光刻***及方法 |
| CN103472685A (zh) * | 2013-09-13 | 2013-12-25 | 苏州微影光电科技有限公司 | 同步装置、扫描式激光成像***及同步方法 |
| DE102016217929A1 (de) * | 2016-09-20 | 2018-03-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0094788A1 (en) * | 1982-05-14 | 1983-11-23 | Nippon Oil Co. Ltd. | Cathode-precipitating electrodeposition coating composition |
| US4688932A (en) * | 1985-02-12 | 1987-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| EP0950924A2 (en) * | 1998-04-14 | 1999-10-20 | Asm Lithography B.V. | Lithographic projection apparatus |
| EP0965888A2 (en) * | 1998-06-16 | 1999-12-22 | Asm Lithography B.V. | Lithography apparatus |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3925785A (en) * | 1974-08-09 | 1975-12-09 | Bell Telephone Labor Inc | Pattern generating apparatus |
| US4393411A (en) * | 1974-11-08 | 1983-07-12 | American Hoechst Corporation | Laser read-write system for the production of engravings |
| US4312590A (en) * | 1977-06-10 | 1982-01-26 | Eocom Corporation | Optical scanner and system for laser beam exposure of photo surfaces |
| US5822092A (en) * | 1988-07-18 | 1998-10-13 | Dimensional Arts | System for making a hologram of an image by manipulating object beam characteristics to reflect image data |
| US5289407A (en) * | 1991-07-22 | 1994-02-22 | Cornell Research Foundation, Inc. | Method for three dimensional optical data storage and retrieval |
| US5617500A (en) * | 1994-05-20 | 1997-04-01 | Nikon Corporation | System for detecting an optical information and scanning microscope system |
| EP0947884B1 (en) | 1998-03-31 | 2004-03-10 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus with substrate holder |
| EP1542061B1 (en) * | 1999-04-21 | 2010-07-14 | FUJIFILM Corporation | Correcting method of light beam position in a scanning apparatus |
| DE10116059B4 (de) * | 2001-03-30 | 2007-03-01 | Tesa Scribos Gmbh | Lithograph mit bewegter Linse und Verfahren zum Herstellen digitaler Hologramme in einem Speichermedium |
| DE10116060B4 (de) * | 2001-03-30 | 2005-01-13 | Tesa Scribos Gmbh | Lithograph mit Triggermaske und Verfahren zum Herstellen digitaler Hologramme in einem Speichermedium |
| DE10116058B4 (de) * | 2001-03-30 | 2006-05-11 | Tesa Scribos Gmbh | Verfahren zum Herstellen digitaler Hologramme in einem Speichermedium und Lithograph zum Herstellen digitaler Hologramme in einem Speichermedium |
| DE10293414B4 (de) * | 2001-07-27 | 2007-03-01 | Tesa Scribos Gmbh | Lithograph mit bewegtem Zylinderlinsensystem |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0094788A1 (en) * | 1982-05-14 | 1983-11-23 | Nippon Oil Co. Ltd. | Cathode-precipitating electrodeposition coating composition |
| US4688932A (en) * | 1985-02-12 | 1987-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| EP0950924A2 (en) * | 1998-04-14 | 1999-10-20 | Asm Lithography B.V. | Lithographic projection apparatus |
| EP0965888A2 (en) * | 1998-06-16 | 1999-12-22 | Asm Lithography B.V. | Lithography apparatus |
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