JP2005501270A - 1次元トリガマスクを有するリソグラフ及び記憶媒体にデジタルホログラムを生成する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、記憶媒体にデジタルホログラムを生成するリソグラフに関する。更に,本発明は、記憶媒体にデジタルホログラムを生成する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
デジタルホログラムは異なる光特性を有する個別の点(ポイント)で構成される2次元ホログラムであり、コヒーレントな電磁波、特に光波で照明した時に、透過及び/又は反射における回折によりそこから画像及び/又はデータが再生される。個別の点の異なる光特性は、例えば表面形状の結果として、記憶媒体の材料における光路長(回折指数)又はカラー値が変化する反射材料特性である。
【0003】
個別の点の異なる光特性は、コンピュータにより演算され、それにはコンピュータ生成ホログラム(CGH)として知られていることも含まれる。ホログラムの書込み中には、集束された書込みビームを使用して、ホログラムの個別の点が材料に書き込まれ、焦点は記憶媒体の表面の領域又は材料内に位置する。焦点の領域において、焦点合わせは記憶媒体の材料上の作用範囲を小さくする効果を有し、小さな範囲にホログラムの多数の点を書くことができる。このようにしてそれぞれ書き込まれた点の光特性は、書込みビームの強度に依存している。このため、書込みビームは異なる強度で記憶媒体の表面上を2次元に走査される。書込みビームの強度の変調は、この場合、例えばレーザダイオードのような光源の内部変調、又は例えば光電要素を利用して光源の外での書込みビームの外部変調により実行される。更に、光源はパルス長が制御可能なパルスレーザで形成することができ、書込みビームの強度の制御はパルス長により実行される。
【0004】
強度変調された書込みビームの走査の結果、不規則な点配置を有する領域がデジタルホログラムに生成される。これは、所望の目標を確認して区別するのに使用できる。
【0005】
走査型リソグラフィシステムは本当に普及している。例えば、走査光システムは、従来のレーザプリンタに組み込まれている。しかし、これらのシステムは、ホログラムの製造には使用できない。それは、この目的の応用における要求は、レーザプリンタにおけるそれと異なるからである。良好な印刷システムの場合には、解像度は約2500dpi程度であるが、ホログラムの製造においては、約25000dpiの解像度が要求される。更に、デジタルホログラフィでは、相対的に小さな領域だけに書き込まれる。他の大きさも可能であるが、例えば、それらは1から5mm2である。例えば1×1mm2の領域に1000×1000の点(ポイント)のデジタルホログラムの製造のためのリソグラフの場合の書込みパターンの精度は、直角な両方向において約±0.1mmでなければならない。更に、ホログラムを約1秒以内に書くには、書込み速度は約1M画素/秒(s)でなければならない。
【0006】
デジタルホログラムは、入射ビームの角度が固定光学系により変化される従来の走査方法により製造できる。例えば、ガルバノミラー及び/又はポリゴンミラーを有する走査ミラーリソグラフがこの原理で動作する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
これまでに知られているすべての走査方法において、1つの欠点は、単純な構造のリソグラフでは、達成される書込み速度でのデジタルホログラムの所定の点パターンを維持するのを可能にする書込みビームの時間制御が可能でないことである。
【0008】
従って、本発明は、光リソグラフィによるコンピュータ生成ホログラムの書込みにおいて、できるだけ高速に、時間的なトリガと書込みビームの位置決めの正確な制御の両方を簡単に行えるという技術的な問題に基づいている。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記の技術的な問題は、書込みビームが記憶媒体上に集束され、そして前記記憶媒体に対して1次元で移動され、走査ビームは複数のトリガラインを有するトリガマスク上に収束され、そして前記トリガラインに対して横切るように1次元に移動され、前記走査ビームの移動は前記書込みビームの移動と関連付けられており、前記トリガラインの前記走査の間、時間的なトリガ信号が前記トリガラインの配置の関数として発生され、前記時間的なトリガ信号により、前記記憶媒体上での前記書込みビームの強度が制御され、そして前記ホログラムは放射エネルギを点毎に当てることによりライン毎に書き込まれ、前記ホログラムの隣接するラインを書くように前記ラインの前記走査方向に対して横方向に所定の距離だけ前記記憶媒体が変位される記憶媒体にデジタルホログラムを生成する方法により達成される。
【0010】
本発明における1次元移動は、実質的に1方向に伸びる移動を意味する。従って1次元移動は特に直線移動であるが、本発明における1次元移動は曲線に沿っていてもよく、すなわち直線から外れていてもよい。
【0011】
本発明によれば、書込みビームの動きに関連付けられる走査ビームを使用して、時間的なトリガ信号がバーコードに類似した1次元のトリガマスクで発生される。この場合、トリガラインは平行に、すなわち直角パターンで配置されることが望ましいが、これは絶対に必要なことではない。時間的なトリガ情報及び原理的にトリガマスクとは独立に発生できる強度情報の付加的な項により、デジタルホログラムは連続して点毎にラインに書き込まれる。従って、書込みビームと記憶媒体の移動は互いに整合している。一旦現在のラインが書かれると、例えば次に記憶媒体が所定の距離だけ変位され、別のラインが書かれる。同様に、記憶媒体を連続して変位させ、走査方向に対して記憶媒体を横方向に変位させる間に、記憶媒体の材料中にホログラムのラインを書くことが可能である。
【0012】
上記のように、トリガラインの走査中に、時間的なトリガ信号がトリガラインの配置の関数として発生される。特に、時間的なトリガ信号は走査ビームが走査されるトリガラインの1つに一致した時に発生できる。この場合、一致とは、トリガライン又はトリガラインの間の任意の中間領域に到達するか又はそこから離れることが、トリガマスクにより反射又は透過されるビームの閾値として測定されるか、又はトリガマスクが所定の照明強度で時間的なトリガ信号を発生できる能動的な要素を有するのいずれかを意味する。この値は測定精度内に設定され、制御は要求速度で実行される。
【0013】
走査ビームは、書込みビームに対して所定の移動関係で移動することが望ましい。これにより、走査ビームは書き込まれる記憶媒体の領域より大きな領域のトリガマスクを走査できる。例えば、トリガマスクが作られるホログラムの10倍であれば、走査ビームの移動は比率10:1で書込みビームの移動に比例して拡大される。従って、もし1×1mm2の面積のホログラムを書くならば、走査ビームは10×10mm2の面積のトリガマスクを走査する。
【0014】
更に、走査ビームは、たかだかトリガマスクのトリガラインの大きさに対応する大きさに集束されることが望ましい。これは、トリガラインとの一致が十分に正確に検出され、十分な精度のトリガ信号が発生できることを保証する。
【0015】
トリガラインの他の特性は異なる方法で形成され、それぞれの場合に従来技術、特にコンパクトディスク(CD)又はデジタルバーサタイルディスク(DVD)のような光記憶媒体から良く知られた技術が利用される。
【0016】
第1の実施例においては、トリガマスクのトリガラインは、トリガラインの回りの側方を囲む表面とは異なった反射率を有し、トリガマスクの表面から反射されるビームは検出器により検出できる。トリガ信号は、検出器表面に集束された反射された走査ビームの強度から導出される。
【0017】
第2の実施例においては、トリガマスクのトリガラインは、トリガラインの回りの側方を囲む表面とは異なった透過率を有し、トリガマスクにより透過されたビームは検出器により検出できる。トリガ信号はこのようにして測定された透過ビームの強度から導出される。
【0018】
反射及び透過特性の部分は互いにトリガラインに組み合わせることもできる。
【0019】
第3の実施例では、トリガマスク上のトリガラインは、例えば溝の形状の表面構造を有し、トリガマスクの表面で屈折的に回折されたビームが検出できる。トリガ信号は反射されたビームの強度から導出され、実質的にゼロ次と2つの1次の回折の重ね合わせになる。
【0020】
上記で例として言及した本発明の実施例はすべて、走査ビームはトリガマスクの光特性により影響され、トリガラインとの一致はこれから検出され、書込みビームの強度を制御する制御信号に変換できるという事実に基づいている。
【0021】
トリガマスクの別の構成は、時間的なトリガ信号を直接発生できる能動的な画素で作られる。画素を異なるように駆動することにより、トリガマスクなどを置き換えずに異なるトリガトラックを作ることも可能である。
【0022】
使用される能動的なトリガマスクは、時間的に変化可能に調整可能なトリガマスクが組み込まれた空間光変調器であることが望ましい。本発明の第2の示唆によれば、上記に挙げられた技術的な問題は、請求項15の特徴を有するリソグラフで解決される。
【0023】
本発明の上記の機能及びその好適な構成は、走査型顕微鏡、特にコンフォーカル走査型顕微鏡でも有効に使用できる。この形式の顕微鏡では、検査する表面が光ビームで走査されるか又は観察され、反射光の強度が測定される。表面の走査の間、反射光の測定した強度から画像が組み立てられる。従ってこれまで説明したように、表面はパターンで走査される。
【0024】
この場合、この目的のために、反射光を光センサへ導くように、ビームスプリッタが反射ビームのビーム経路中の対物レンズの前又は好ましくは後に配置される。センサが反射強度を測定する。
【0025】
この形式の顕微鏡には、表面の観察又は走査を簡単にできるだけ速くしたいという技術的な問題があったが、それが解決される。これは、前述のリソグラフの技術的な問題にも一致している。リソグラフについての前述の利点は、この形式の顕微鏡でも同様に達成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【0026】
以下、本発明について例示の実施例と付属の図面を参照して詳細に説明する。
【0027】
図1は、キャリア6上に配置された記憶媒体4にデジタルホログラムを作るための本発明によるリソグラフ2の第1の例示の実施例を示す。書込みビーム10を生成する光源8は、レーザ又はレーザダイオードを有し、書込みビーム10はレーザビームとして形成される。
【0028】
リソグラフ2は、記憶媒体4に対する書込みビーム10の1次元の移動のための駆動手段を有し、それはガルバノメータのように駆動される走査ミラー12として形成され、例えば図1の平面に垂直な方向に書込みビームを偏向する。従って、ミラー12はx走査ミラー配置を構成する。ガルバノメータのような走査ミラー12の替わりに、回転するポリゴンミラーを使用することも可能である。
【0029】
また、かならず必要ではないが、広げた書込みビーム10を生成するために、走査ミラー12の後にビーム拡張器又はコリメータ15をビーム経路に配置するようにしてもよい。
【0030】
第1の対物レンズ16は、書込みビーム10を書込みが行われる記憶媒体4上に集束し、焦点17では、書込みビーム10の集束強度に応じて、記憶媒体4の光特性が変化されるか又は変化せずに維持される。
【0031】
本発明によれば、2次元トリガマスク18が設けられており、ビームスプリッタ20により書込みビーム10と分離される走査ビーム22が、第2対物レンズ24により焦点25に集束される。
【0032】
走査ビーム22は第2光源26により生成され、ビームスプリッタ28により第1の走査ミラー12の前の書込みビーム10のビーム経路に組み合わされる。走査ビーム22は書込みビーム10とは異なる波長又は偏光を有し、ビームスプリッタ28はダイクロイック又は偏光ビームスプリッタで形成される。走査ビーム22を共通のビーム経路から分離するために、ビームスプリッタ20は対応するダイクロイック又は偏光であるように形成される。
【0033】
従って、走査ビーム22は書込みビーム10の強度変調とは独立であり、書込みビームは消灯(オフ)するように、すなわち強度がゼロに等しくなるように切り換えることが可能である。
【0034】
一方、別の光源により走査ビーム22を生成すること無しに、走査ビーム22を書込みビームから部分ビームとして分離することも可能である。この場合、ビームスプリッタ20と28は、部分的に透明なビームスプリッタとして形成される。
【0035】
それぞれの場合における2個の対物レンズ16と24は、3個のレンズの集束レンズシステムを有する。しかし、対物レンズ16と24の正確な構成は重要でない。対物レンズ16と24は、x方向におけるその角度に対する偏向が互いに線形であるように作られることが望ましく、それにより焦点17と25の移動の間の線形な組合せを作る。
【0036】
図1のリソグラフ2の構造から、駆動手段、すなわち走査ミラー12は書込みビーム10だけでなく走査ビーム22も駆動する。これは、ビームスプリッタ20が書き込みビーム10のビーム経路内の走査ミラー12の後に配置されているからである。これにより、走査ビーム22は書込みビーム10と同じように1次元に移動され、走査ビーム22はトリガマスク18の表面に対して移動される。これにより、走査ビーム22の移動は書込みビーム10の移動に関連付けられる。
【0037】
更に、検出器30’又は検出器30’’のいずれか又は両方が設けられており、トリガマスク18のそれぞれのトリガラインの光特性により強度が変化する走査ビーム22を検出する。図1では2つの異なる位置が示されている。検出器30’と検出器30’’の機能は、類似しており、以下詳細に説明される。
【0038】
更に、検出器30’と検出器30’’に接続され、トリガ信号を発生する制御手段36が設けられている。このため、ライン40と(図1において点Aで切られるように示された)ライン42が設けられている。時間的なトリガ信号が検出器からの信号に応じて発生される。
【0039】
更に、制御手段36は強度制御信号を発生し、それは書込みビーム10の強度を制御するために、図示はしていないラインを介して光源8に送られる。制御手段36は、コンピュータで形成される。送られた強度制御信号により、書込みビーム10はトリガマスク18上の走査ビーム22の焦点25の位置の関数として変調され、それは記憶媒体4上の書込みビーム10の焦点17の位置に対応する。
【0040】
言い換えれば、書込みビーム10は2つ以上の異なる強度値を有するホログラム点を書き込むように設定される。2値書き込みの場合には、強度は点が書かれるか書かれないかに応じて、2つの異なる値の間で交互に切り替えられる。同様に、グレイ値の階調を有するホログラム点を書くのも可能で実際に行える。
【0041】
しかし上記のように、もしトリガマスク18上の焦点25を識別するために走査ビーム22が必要な別の光源の無い部分ビームとして書込みビーム10から分離されるならば、書込みビーム10の強度を低くするか又は最小にしてもゼロにならないようにすることが必要である。これにより、走査ビーム22はトリガ信号の発生のための最小強度を常時有することが保証される。
【0042】
更に、図1に示したリソグラフ2の構造の場合には、記憶媒体4上の書込みビーム10とトリガマスク18上の走査ビーム22の移動の間の長さ関係の送り比率はあらかじめ決められている。これは、2個の対物レンズ16と26の異なる焦点距離により決められる。例えば、もし第1の対物レンズ16の焦点距離が第2の対物レンズ24の焦点距離より計数10だけ短ければ、走査ビーム22の焦点25のトリガマスク18上の移動は、記憶媒体4上の表面上の焦点17の移動より同じ計数の10倍だけ大きい。図1においては空間的な理由で、約2の焦点距離比率だけが示されている。しかし、これは本発明のこの構成においては特定の比率は重要でないことを示している。
【0043】
更に、概略的に示されるように、キャリア6はドライブ50に接続され、それはそれぞれの場合において記憶媒体を書き込まれるホログラムの2つのラインの間を段階的に(ステップ・バイ・ステップで)変位させる。変位の方向は、図1において2重矢(両端矢)で示され、図1の平面内を水平の方向である。その結果、直角パターンにおけるホログラムのラインを書き込むことを可能にする。さらに、ドライブはキャリア6を連続して移動させ、もし記憶媒体4が走査ミラー12による走査の間移動されるならば、ラインは直角でないパターンに書かれる。
【0044】
図2に示すように、トリガマスク18は複数のトリガライン44を有する。これらは直角パターンに配置され、互いに実質的に同一の間隔を有する。しかし、非常に一般化した場合には、トリガライン44さえ曲線であったり互いの間隔が変化する任意の形で走る形状を有する所定の配置であってもよい。これは、トリガライン44の再生が書き込まれるデジタルホログラムの点パターンを再生するからである。
【0045】
走査ビームは、バーコードを識別する場合と同様に、トリガラインを横切るように、望ましくはそれに対して直角で走査する。トリガライン44の延長され具合のため、トリガマスク18上の走査ビーム22の正確な調整は重要でない。トリガライン44の開始及び/又は終了において、特定のコードが走査方向に形成されていることが望ましく、開始及び/又は終了信号がトリガマスクにより影響されるビームから発生されることを可能にする。この場合、例えばコードは、バーコードの場合と同様に、異なる幅のトリガラインに含むことが可能である。
【0046】
トリガマスク18は、異なる反射特性を有することができる。このため、トリガマスク18にはある程度まで反射層が設けられている。同様に、異なる反射特性をトリガマスクの材料の異なるカラー化で形成することも可能である。同様に、材料の異なる回折特性も、異なる反射特性を生み出せる。最後に、トリガマスクは空間光変調器(SLM)でも形成できる。その結果、時間で変化可能なトリガマスクを組み込むことが効果的ある。
【0047】
更に、トリガマスク18は、地形的な表面構造を有する表面を有することも可能であり、そこでは走査ビーム22は回折的に反射される。
【0048】
走査ビームを光源26に戻す方向に反射するビームガイドマスクの両方の構成で、走査ビーム22のビーム経路中のビーム方向における走査ミラー12の前に、出力ビームカプラ46が設けられている。このカプラは反射された走査ビーム22を検出器30’に導く。そこでは、検出信号が制御手段36の制御信号として発生される。
【0049】
更に、トリガマスク18は、異なる透過特性を有する表面を持つことも可能である。従って、走査ビーム22は異なる強度で通過するようにされる。通過する走査ビーム22のある部分は光学系48により検出器30’’の表面に集束される。そこでは、制御手段36の制御信号が発生されてライン42を介して送られる。
【0050】
この場合も、トリガマスク18の材料は異なる方法で形成できる。異なる透過特性は、真に半透明な材料の異なるカラー化により作られる。しかしこの場合も、トリガマスク18は空間光変調器(SLM)でも形成できる。その結果、時間で変化可能な透過トリガマスクを組み込むことが効果的ある。
【0051】
時間的なトリガ信号を発生させる制御手段36は、検出器30’及び/又は30’’に接続されるコンピュータ手段を有する。この手段は、検出器により検出された信号を所望の値と比較し、強度制御するための制御信号が発生される。
【0052】
制御手段36は、同様に強度制御信号を発生するのに使用できる。このため、制御手段36はトラック44に沿った所定の位置に関係する強度値を記憶した記憶手段を有し、それぞれの場合に読み出されて光源8の強度の制御に使用される。
【0053】
リソグラフの前述の構成の更なる特徴は、図1において記憶媒体4と対物レンズ16の距離が変化するように調整できることである。これは”Z”で示される二重矢で示される。z方向の距離の調整のため、図示していない手段が設けられている。これらは、モータ又は手動で駆動できるどのようなリニアな調整手段でもよい。距離を調整する手段により、記憶媒体4における焦点の位置は各種の深さに調整でき、同様に異なる厚さの記憶媒体4に対する焦点の調整も可能である。最後に、多層ホログラムとして知られているものを作るために、少なくとも2つのホログラムが記憶媒体4内の異なる平面に書き込まれる。
【0054】
図3は、本発明による顕微鏡を示し、この顕微鏡はその構造において図1に示したリソグラフに対応する。従って、厳密にいえば書込みと観察の間の違いを明確にするために他の参照符号が使われているが、同一の参照符号は図1を参照して説明した要素と同一の要素を示す。
【0055】
図1に示した構造に加えて、偏向平面60が、表面から反射された光のビーム経路内の対物レンズ16の後、すなわち上に配置されている。これは半透明ミラー又はビームスプリッタにより実現でき、観察ビームには影響を及ぼさないか又は小さな影響しか及ぼさない。
【0056】
偏向平面60は、反射されたビームを図7における左側である側方に反射し、反射光の強度を測定する光センサ62を入射する。
【0057】
対物レンズ4に対して顕微鏡の下で観察される観察ビーム10を変化させることにより、表面が走査され、反射は点毎に測定される。走査される表面の画像はこうして組み立てられる。
【0058】
もし顕微鏡での観察ビームを示すことができる光源8により出射された光ビームが実質的に同じ強度で生成されるならば、反射されたビームの測定された強度は走査される表面の反射の測定である。
【図面の簡単な説明】
【0059】
【図1】図1は、本発明によるリソグラフの例示の実施例を示す。
【図2】図2は、トリガマスクの例示の実施例を示す。
【図3】図3は、図1に示したリソグラフの構造に実質的に対応する構造を有する本発明による顕微鏡を示す。
Claims (32)
- 記憶媒体にデジタルホログラムを生成する方法であって、
書込みビームは前記記憶媒体上に集束され、そして前記記憶媒体に対して1次元で移動され、
走査ビームは複数のトリガラインを有するトリガマスク上に収束され、そして前記トリガラインを横切るように1次元に移動され、前記走査ビームの移動は前記書込みビームの移動と関連付けられており、
前記トリガラインの前記走査の間、時間的なトリガ信号が前記トリガラインの配置の関数として発生され、
前記時間的なトリガ信号により、前記記憶媒体上での前記書込みビームの強度が制御され、そして
前記ホログラムは放射エネルギを点毎に当てることによりライン毎に書き込まれ、前記ホログラムの隣接するラインを書くように前記ラインの前記走査方向に対して横方向に所定の距離だけ前記記憶媒体が変位される方法。 - 前記トリガラインは平行に配置され、望ましくは直角パターンで配置されている請求項1に記載の方法。
- 前記時間的なトリガ情報及び強度情報の付加的な項により、前記デジタルホログラムはラインにおいて連続して点毎に書き込まれる請求項1又は2に記載の方法。
- 前記強度情報は、前記トリガマスクとは独立して発生される請求項3に記載の方法。
- 前記記憶媒体は、ラインを書く時には前記書込みビームに対して変化しないように維持され、前記書込みビームのライン変化の間1つのラインの間隔だけ移動される請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記記憶媒体は、書込みの間連続して変位される請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記走査ビームは、前記書込みビームに対して所定の移動関係で移動される請求項1から6のいずれかに記載の方法。
- 前記走査ビームは、たかだか前記トリガマスクの前記トリガラインの大きさに対応する大きさに集束される請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記トリガマスクの前記トリガラインは、前記トリガラインの回りの側方を囲む表面とは異なった反射率を有し、前記トリガ信号は前記トリガマスクの表面から反射される前記ビームの強度から導出される請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 前記トリガマスクの前記トリガラインは、前記トリガラインの回りの側方を囲む表面とは異なった透過率を有し、前記トリガ信号は前記トリガマスクを通過して送られた前記ビームの強度から導出される請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 前記トリガマスクの前記トリガラインは、例えば溝の形状の表面構造を有し、前記トリガ信号は前記トリガマスクの表面で反射して回折された前記ビームの強度から導出される請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 前記トリガマスクの前記トリガラインは、能動的な画素を有し、前記時間的なトリガ信号は前記能動的な画素により直接発生される請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 使用される前記能動的なトリガマスクは、空間光変調器である請求項12に記載の方法。
- 対物レンズと前記記憶媒体の間の距離は、前記記憶媒体内の異なる深さに書き込むように調整される請求項1から13のいずれかに記載の方法。
- 記憶媒体(4)にデジタルホログラムを生成するリソグラフであって、特に請求項1から13のいずれかに記載の方法を行い、
書込みビーム(10)を生成する光源(8)を有し、
前記記憶媒体(4)に対して前記書込みビーム(10)の1次元移動を行う駆動手段(12)を有し、
書込みビーム(10)を書き込まれる前記記憶媒体(4)上に集束する第1の対物レンズ(16)を有するリソグラフであって、
複数のトリガラインを有するトリガマスク(18)が設けられ、
走査ビーム(22)を生成する手段(20)が設けられ、
前記走査ビーム(22、22’)を前記トリガマスク(18)上に集束する第2の対物レンズ(24)が設けられ、
前記駆動手段(12)は前記トリガマスク(18)の表面に対して前記走査ビーム(22)を移動し、前記走査ビーム(22、22’)の移動は前記書込みビーム(10)の移動に関連しており、
前記トリガライン(44)の光特性により強度が変化する前記走査ビームを検出するために検出器(30’、30’’)が設けられており、
制御手段(36)が前記検出器(30’、13’’)からの前記信号の関数としてトリガ信号を発生することを特徴とするリソグラフ。 - 前記制御手段(36)は、前記書込みビーム(10)の強度を制御する信号も発生する請求項15に記載のリソグラフ。
- 前記駆動手段(12)は、前記書込みビーム(10)を移動させるためのx/y走査ミラー配置として形成され、
前記走査ビーム(22)を生成する前記手段は、前記書込みビーム(10)の前記ビーム経路内の前記駆動手段(12)の後に走査ビーム(22)として前記書込みビーム(10)の一部を分離する手段(20)を有することを特徴とする請求項15又は16に記載のリソグラフ。 - 前記走査ビーム(22)を生成する前記手段は、
前記書込みビーム(10)と異なる波長又は偏光を有する走査ビーム(22)を生成する第2の光源(26)と、
前記書込みビーム(10)の前記ビーム経路中の前記駆動手段(12)の前に、前記走査ビーム(22)を結合する入力結合手段(28)とを備え、
前記出力分離手段(20)は前記走査ビーム(22)を分離することを特徴とする請求項17に記載のリソグラフ。 - 前記記憶媒体(4)を前記書込みビーム(10)に対して移動させる手段(15)が設けられていることを特徴とする請求項15から18のいずれかに記載のリソグラフ。
- 前記トリガマスク(18)上の前記走査ビーム(22)と前記記憶媒体(4)上の前記前記書込みビーム(10)の移動の間の長さに基づく設定比率が設けられていることを特徴とする請求項15から19のいずれかに記載のリソグラフ。
- 前記第2の対物レンズ(24)の焦点距離は、前記第1の対物レンズ(16)の焦点距離より、所定の計数だけ大きいことを特徴とする請求項20に記載のリソグラフ。
- 前記トリガマスク(18)は、複数のトリガライン(44)を有することを特徴とする請求項15から21のいずれかに記載のリソグラフ。
- 前記トリガライン(44)は、あるパターンで配置されており、特に直角パターンで配置されていることを特徴とする請求項22に記載のリソグラフ。
- 前記トリガマスク(18)は、異なる反射特性の表面を有することを特徴とする請求項15から23のいずれかに記載のリソグラフ。
- 前記トリガマスク(18)は、空間光変調器として形成されることを特徴とする請求項24に記載のリソグラフ。
- 前記トリガマスク(18)は、前記走査ビームが反射される地形的な表面構造の表面を有することを特徴とする請求項15から23のいずれかに記載のリソグラフ。
- 前記トリガマスク(18)は、異なる透過特性の表面を有することを特徴とする請求項15から23のいずれかに記載のリソグラフ。
- 前記トリガマスク(18)は、空間光変調器として形成されることを特徴とする請求項27に記載のリソグラフ。
- 前記透過した放射を前記検出器(30’’)上に集束する集束光学系(48)が設けられていることを特徴とする請求項27又は28に記載のリソグラフ。
- 前記記憶媒体(4)と前記対物レンズ(16)の間の距離を調整する手段が設けられていることを特徴とする請求項15から29のいずれかに記載のリソグラフ。
- 物体(4)を走査する顕微鏡であって、
走査ビーム(10)を生成する光源(8)を有し、
前記物体(4)に対して前記走査ビーム(10)の1次元移動を行う駆動手段(12)を有し、
前記走査ビーム(10)を前記物体(4)上に集束する第1の対物レンズ(16)を有する顕微鏡において、
複数のトリガラインを有するトリガマスク(18)が設けられ、
走査ビーム(22)を生成する手段(20)が設けられ、
前記走査ビーム(22、22’)を前記トリガマスク(18)上に集束する第2の対物レンズ(24)が設けられ、
前記駆動手段(12)は前記トリガマスク(18)の表面に対して前記走査ビーム(22)を移動し、前記走査ビーム(22、22’)の移動は前記走査ビーム(10)の移動に関連しており、
前記トリガライン(44)の光特性により強度が変化する前記走査ビームを検出するために検出器(30’、30’’)が設けられており、
制御手段(36)が前記検出器(30’、30’’)からの前記信号の関数としてトリガ信号を発生することを特徴とする顕微鏡。 - 請求項15から30のいずれかに記載の1つ以上の特徴を有する請求項31に記載の顕微鏡。
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