CN1192075C - 层叠荧光体和el板 - Google Patents

Abstract

本发明的目的是提一种不需要滤色片，色纯度良好的，特别适宜白色单色EL用的层叠荧光体和EL板。为达到此目的，该层叠荧体至少具有第一薄膜和第二薄膜，上述第一薄膜的母体材料是以铝酸钡盐为主成分，该母体材料中含有硫元素、进而含有作为发光中心的Eu，上述第二薄膜的母体材料是以硫化锌为主成分。

Description

层叠荧光体和EL板

本发明涉及无机EL元件中使用的发光层，特别涉及发光层中使用的白色荧光体薄膜层叠体，和使用该层叠体的EL板。

近年来，作为小型或大型轻量的平面显示器，广泛研究薄膜EL元件。使用由发橙黄色光的添加锰的硫化锌形成的荧光体薄膜的单色薄膜EL显示器，如图2所示，使用薄膜绝缘层2、4的二层绝缘型构造已实用化。图2中，在基板1上形成规定图形的下部电极5，在该下部电极5上形成第1绝缘层2。在该第1绝缘层2上依次形成发光层3、第2绝缘层4，同时在第2绝缘层4上，由规定图形形成上部电极6，以便与上述下部电极5构成矩阵变换电路。

作为显示器，为了与计算机用、TV用、其他显示用相对应，彩色化是必不可少的。使用硫化物荧光体薄膜的薄膜EL显示器，虽然可靠性、耐环境性优良、但是，目前以红色、绿色、兰色三种原色发光的EL用荧光体的特性很不理想，不适宜彩色使用。兰色发光荧光体，作为母体材料使用SrS、作为发光中心使用Ce的SrS:Ce和ZnS:Tm、作为红色发光荧光体ZnS:Sm、CaS:Eu、作为绿色发光荧光体ZnS:Tb、CaS:Ce等都是备选用的，研究仍在继续。

这些以红色、绿色、兰色三种原色发光的荧光体薄膜，在发光辉度、效率、色纯度方面仍存在问题。现在，彩色EL面板还不能达到实用化。特别是，兰色，使用SrS:Ce，虽然可获得较高的辉度，但作为全色显示板用的兰色，辉度不够，色度也偏重于绿色一侧，所以希望开发更好的兰色发光层。

为了解决这些课题，正如特开平7-122364号公报、特开平8-134440号公报、信学技报EID98-113、19-24页、和JPn.J.Appl.Phy.Vol 38、(1999)pp.L1291-1292讲述的，开发了SrGa₂S₄:Ce、CaGa₂S₄:Ce和BaAl₂S₄:Eu等硫代镓酸盐(チオガレ-ト)或硫代铝酸盐系的兰色荧光体。这些硫代镓酸盐系荧光体，虽然没有色纯度问题，但辉度低、特别是由于多元组成，很难得到组成均匀的薄膜。因组成控制性差引起结晶性差，由于硫脱离引起缺陷产生、混入杂质等，得不到高质量的薄膜，由此，辉度也不能提高。特别是，硫代铝酸盐的组成控制性极为困难。

另一方面，单色显示器中，使用橙色的荧光体ZnS:Mn已成品化。当考虑到显示易见度时，对白色的单色提出要求。对于这种要求研究了各种白色荧光体，如“显示与成象”(1994)Vol.3.159-171页中所示。

以前，作为白色用荧光体，已知有将Pr作为发光中心添加的ZnS:Pr薄膜，由于发光光谱由辉线构成，这种薄膜呈现的薄膜干涉效果，对视角有依赖性，而且辉度也低，与其相反，以SrS:Ce的兰绿荧光体为基质，利用添加Eu、Mn等红色成分的方法，实现了很多种白色荧光体。例如有：

(1)将Ce和Eu两种作为发光中心添加到SrS母体材料中，利用SrS:Ce，Eu的方法、

(2)以多层结构使用SrS:Ce和SrS:Eu，利用SrS:Ce/SrS:Eu的方法、

(3)以多层结构使用SrS:Ce和CaS:Eu，利用SrS:Ce/CaS:Eu的方法、

(4)以多层结构使用SrS:Ce和ZnS:Mn，利用SrS:Ce/ZnS:Mn的方法，等等。

这些SrS:Ce基质的白色荧光体薄膜，发光光谱很宽，作为白色发光，虽说是理想材料，但辉度很低，而且，得到的白色也近似于黄色，为所谓的薄胎白，从生物工艺学的角度看，纸白，即CIE色度座标接近于X＝0.3、Y＝0.3的，除了使用过滤片外，是得不到的。

本发明的目的是提供一种不需要滤色片，良好色***色，特别是适用于纸白单色EL板用的层叠荧光体和EL板。

这样的目的通过下述(1)～(4)任何一种构成即可达到。

(1)是至少具有第一薄膜和第二薄膜的层叠荧光体、上述第一薄膜的母体材料，是以铝酸钡盐为主成分，在该母体材料中含有硫元素，进而含有Eu作为发光中心，上述第二薄膜的母体材料以硫化锌为主成分。

(2)上述硫元素的混合量与母体材料的氧元素的摩尔比率，S/(S+O)为0.02～0.5的上述(1)层叠荧光体。

(3)上述硫元素的混合量与母体材料的氧元素的摩尔比率，S/(S+O)为0.7～0.9，而且，钡元素Ba与铝元素Al的比率Al/Ba为1.5～3.0的上述(1)的层叠荧光体。

(4)上述第一薄膜和第二薄膜的发光合成色是以CIE色度座标X＝0.27～0.39、Y＝0.27～0.38的白色的上述(1)或(2)的层叠荧光体。

(5)具有上述(1)～(4)任何一种层叠荧光体的EL板。

图1是可适用本发明方法的装置，或本发明制造装置构成的实例示意断面图。

图2是利用本发明方法、装置可制造的无机EL元件构成实例的部分示意断面图。

以下对本发明实施形态进行详细说明。

本发明是由第一薄膜和第二薄膜形成层叠的荧光体薄膜层叠体，所得层叠荧光体将各个层的发光进行合成，发射出白色的光。

本发明的第一薄膜，作为母体材料使用氧化物的铝酸钡盐。

以前，将碱土类铝酸盐薄膜作为EL用的薄膜荧光体，没有研究实例，据推测，认为碱土类铝酸盐很难得到结晶化薄膜，不能用作EL发光的荧光体薄膜。碱土类铝酸盐，只研究了PDP用或荧光灯用。添加碳酸钡等的Ba原料和氧化铝等的Al原料及Eu在1100℃～1400℃下烧成，合成粉体。通过合成，用作兰色荧光体。

发明者们发现，将铝酸钡盐作为EL用的薄膜荧光体形成薄膜化。虽然使用这种薄膜制成了EL元件，但不能获得发光。在1100℃下进行退火时，才逐渐观察到EL发光。但是，是2cd/m²低辉光度，为了应用于EL元件的板，必须高辉度化和降低工艺温度。

根据该结果发现，在该系的荧光体薄膜中，经研究通过在铝酸钡盐母体材料中添加硫，可极大地提高辉度。

本发明的第一薄膜在氧化物的铝酸钡盐母体材料中含有硫，进而含有作为发光中心的Eu元素。

荧光体薄膜最好是以Ba_xAl_yO_zS_w:Eu表示的。

上式中，X、Y、Z、W分别表示Ba、Al、O、S的摩尔比。X、Y、Z最好是

X＝1～5

Y＝1～15

Z＝3～30

W＝3～30

对于铝酸钡盐母体材料，所含硫的最好范围，以原子比S/(S+O)为0.01～0.95，更好为0.02～0.7。即，在上式W/(Z+W)的值为0.02～0.7，最好为0.02～0.50、更好为0.03～0.35。此时，Y/X的最佳范围为5～7。

特别是在上述式中，W/(Z+W)的值为0.7～0.9，最好为0.75～0.85时，上述元素Ba和元素Al的原子比Al/Ba，即Y/X为1～3，最好1.5～3.0，更好为2.0～2.5的范围。

硫具有极大提高荧光体薄膜EL发光辉度的效果。当碱土类铝酸盐中含有硫时，认为该母体材料成膜时或成膜后的退火等后处理时促进了结晶化，在母体材料内添加的Eu成为2价，在化合物结晶场内具有有效的迁移，获得高辉度的发光。

对于发光元件，随着发光时间的推移，存在着辉度劣化的寿命。氧和硫的混在组成，可提高寿命特性，也可防止辉度劣化。母体材料与纯粹的硫化物比较，通过与氧的化合物混合，在空气中达到稳定。认为这是由于稳定的氧化物成分由氧保护了膜中的硫化物成分。因此，根据发明者们的研究，在硫化物和氧化物的组成之间存在着最佳值。

Ba_xAl_yO_zS_w:Eu中，也可以用Mg、Ca、Sr置换一部分Ba，也可用B、Ba、In、T1置换一部分Al。通过这种置换可调整白色的色度。

进而，作为发光中心，最添加Eu。作为Eu的添加量，对于钡原子最好添加1～10mol％，也可将其他的稀土类元素与Eu一起添加，也可单独添加。例如，稀土类元素，虽然可从Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Ho、Er、Tm、Lu、Sm、Eu、Dy、及Yb中选出，但是，除了Eu外，最好添加Ce、Tb、Ho、Sm、Yb、Nd。通过添加这些其他的稀土类元素，可调整白色的色度。

作为膜厚，虽然没有特殊限制，但过厚时，EL驱动电压上升，过薄时，发光效率降低。具体为50～1000nm，最好100～400nm。为了形成白色荧光体，最重要的是与后述的第二薄膜的膜厚比。

本发明的第二薄膜，是母体材料以硫化锌为主成份的薄膜。母体材料是以ZnS为主成分，可以是MgS、SrS、BaS等与ZnS的固溶体，也可以是层叠体。作为发光中心。可以是从Mn，Cu等过渡金属元素、稀土类金属元素、Pb、和Bi中选出的1种或2种以上的元素。最好是以前用作橙色荧光体薄膜的ZnS:Mn系荧光体。在第二母体材料中，将Mn作为发光中心，对于第二母体材料添加0.1～1.0mol％，优选0.2～0.6mol％，更优选0.3～0.4mol％。当和上述的ZnS形成固溶体时，可调整ZnS:Mn的橙色色度，可调整本发明的白色色度。

作为膜厚没有特殊限制，但过厚时，EL驱动电压上升，过薄时，发光效率降低。具体为300～2000nm，最好400～800nm。

对于第一薄膜和第二薄膜的层叠顺序和层叠次数没有特殊限制。可以以相同或不同的组成使用多个第一薄膜和第二薄膜。例如，对于第二薄膜，可以使用多个ZnS:Mn荧光膜和固溶体的ZnMgS:Mn荧光膜。使用本发明的白色，可利用滤色片滤出红、绿、兰。应用于全色用的显示器时，可利用上述的多个膜调整红、绿、兰。这些膜，可在成膜温度高的条件下制作的膜首先进行成膜。即，最好是将成膜温度高的薄膜形成在基板侧上。通常是在第一薄膜上形成第二薄膜。

通过调整第一薄膜的合计膜厚T₁与第二薄膜的合计膜厚T₂之比T₂/T₁，可调整白色(色度)。当T₂/T₁的值过大时，形成近似黄色的白色，过小时形成兰白的白色。

本发明的层叠体，可获得第一薄膜和第二薄膜的发光合成色在CIE色度座标X＝0.27～0.39、Y＝0.27～0.38，特别是X＝0.30～0.36、Y＝0.30～0.35的高***色。

为了获得这样的第一薄膜，例如，最好利用以下反应性蒸镀法。

例如，优选的方法有：使用添加Eu的氧化钡颗粒、氧化铝颗粒、H₂S气体的二元反应性蒸镀；或者，不使用添加Eu的硫化钡颗粒、氧化铝颗粒、气体的二元真空蒸镀；使用添加Eu的氧化钡颗粒、氧化铝颗粒、H₂S气体的二元反应性蒸镀；不使用添加Eu的硫化钡颗粒、氧化铝颗粒、气体的二元真空蒸镀；不使用添加Eu的氧化钡颗粒、硫化铝颗粒、气体的二元真空蒸镀；使用添加Eu的硫化钡颗粒、硫化铝颗粒、H₂S气的二元反应性蒸镀，使用添加Eu的硫化钡颗粒、硫化铝颗粒、O₂气的二元反应性蒸镀等方法。在形成硫化物薄膜后，在氧化环境气中进行退火，也可获得添加硫的铝酸钡盐薄膜。

添加Eu是以金属、氟化物、氧化物或硫化物的形式添加到原料中。添加量随原料和形成的薄膜而异，所以调整原料的组成以便组成适当的添加量。

蒸镀中的基板温度为100～600℃，最好150～300℃。基板温度过高时，母体材料的薄膜表面激烈地形成凹凸状、在薄膜中产生气孔，在EL元件中会产生电流泄漏的问题。所以最好在上述温度范围。成膜后最好进行退火处理。退火温度最好600～1000℃，更好800～900℃。

形成的氧化物荧光薄膜最好是高结晶性的薄膜。结晶性的评价，例如可利用X射折射进行。为了提高结晶性，只能使基板温度形成高温。形成薄膜后，在真空中、大气中、O₂中、N₂中、Ar中、S蒸气中、H₂S中等的退火也是有效的。

蒸镀时的压力最好为1.33×10^-4～1.33×10^-1Pa(1×10^-6～1×10^-3Torr)。通入H₂S等气体时，调整压力，为6.65×10^-3～6.65×10^-2Pa(5×0^-5～5×10^{- 4}Torr)。压力比这更高时，E枪的工作变得不稳定，组成控制也变得极难。作为气体通入量，根据真空***的能力，最好为5～200SCCM，更好10～30SCCM。

根据需要，蒸镀时可移动或旋转基板。通过移动、旋转基板、可形成均匀膜组成，并能减少膜厚分布的偏差。

旋转基板时，作为基板的转速，在10次/min以上，最好10～50次/min、更好10-30次/min。基板的转速过快时，向真空室内导入时又很容易发生密封性等问题。过慢时，在槽内的膜厚方向上会产生组成不均，导致所制作的发光层特性降低。作为旋转基板的旋转装置，可以利用公知的旋转机构构成，如电机、油压旋转机构等的动力源、和将齿轮、皮带、皮带轮等组合的动力传递机构，减速机构等。

蒸发源和加热基板的加热装置最好是具有规定的热容量、反应性等，例如有钽线加热器、间断加热器、碳精电极加热器等。利用加热装置的加热温度，最好为100～1400℃，湿度控制精度为1000℃±1℃，最好±0.5℃。

图1示出了形成本发明发光层的装置构成实例之一。此处是将硫化铝和硫化钡作为蒸发源，一边通入氧气一边添加S制作铝酸钡：Eu方法为例。图中，在真空槽层11内配置着形成发光层的基板12和EB蒸发源14、15。

形成硫化铝和硫化钡蒸发装置的EB(电子束)蒸发源14、15具有盛装添加发光中心的硫化钡14a和硫化铝15a的“坩埚”40、50，和内藏释放电子用的热丝41a、51a的电子枪41、51。电子枪41、51内安装有控制电子束的机构。该电子枪41、51与交流电源42、52和偏置电源43、53连接。控制由电子枪发出的电子束，交替地，以预先设定的功率，以规定的比率蒸发添加了发光中心的硫化钡和硫化铝。用一个E枪同时进行多元蒸镀的蒸镀方法是所谓的多元脉冲蒸镀法。在该实施例中，作为硫化铝和硫化钡的蒸发源虽然使用EB蒸发源，但任何一个或两个都可用电阻加热蒸发源等其他蒸发源来代替。

真空槽11具有排气孔11a、通过由该排气孔排气可使真空槽11内形成规定的真空。该真空槽11具有送入硫化氢气体的原料气导入孔11b。

将基板12固定在基板固定架12a上，该基板固定架12a的固定轴12b，由未图示的旋转轴固定装置从外部形成自由旋转的固定，并保持真空槽11内的真空度。同样利用未图示的旋转装置根据需要可以规定的转速进行旋转。由加热丝等构成的加热装置13紧密固定在基板固定架12a上，加热基板并保持在规定的温度。

使用这样的装置，将从EB蒸发源14、15蒸发的硫化钡蒸气和硫化铝蒸气堆积在基板12上，与通入的氧结合，形成添加S的氧化物荧光层。此时，可根据需要旋转基板12，可更均匀地形成堆积发光层的组成和膜厚分布。

第二薄膜，可通过使用ZnS:Mn颗粒的蒸镀法或使用ZnS靶子的喷溅法等公知的方法形成。

如上所述，利用本发明的荧光薄膜材料和蒸镀的制造方法，可很容易地形成发高辉度白色光的层叠结构的荧光体薄膜。

为了使用本发明的发光层3制得的无机EL元件也可以形成例如图2所示的结构。在基板1、电极5、6、厚膜绝缘层2、薄膜绝缘层4的各层之间可设有提高贴紧性的层、缓和应力的层、防止反应的层等中间层。厚膜表面也可进行研磨，或使用平坦层等，来提高厚膜表面的平坦性。

图2是使用本发明层叠荧光体的无机EL元件结构的部分断面示意斜视图。图2中，基板1上形成规定图形的下部电极5，在该下部电极5上形成厚膜的第1绝缘层2(厚膜电介质层)。在该第1绝缘层2上依次形成发光层3、第2绝缘层4(薄膜电介质层)，同时，在第2绝缘层4上以规定图形形成与上述下部电极5构成矩阵电路的上部电极6。同样将上述积荧光体用于发光层。

用作基板的材料，使用能忍耐厚膜形成温度、及EL荧光层形成温度、EL元件退火温度的耐热温度，或者熔点在600℃以上、最好700℃以上、更好800℃以上的基板，通过在其上形成的发光层等功能性薄膜可形成EL元件，并能保持规定的强度，对此没有特殊限定。具体讲，有玻璃或、氧化铝(Al₂O₃)、镁橄榄石(2MgO·SiO₂)、块滑石(MgO·SiO₂)、莫来石(3Al₂O₃·2SiO₂)、贝里利耐火材料(BeO)、氮化铝(AIN)、氮化硅(SiN)、碳化硅(SiC+BeO)等陶瓷基板、结晶化玻璃等耐热性玻璃基板。这些中最好的是耐热温度在1000℃以上的。这些中特别好的是氧化铝基板、结晶化玻璃，对热传导性有要求时，最好是贝里利耐火材料、氮化铝、碳化硅等。

除此之外，也可以使用石英，热氧化硅晶片等、钛、不锈钢、铬镍铁合金、铁系等金属基板。在使用金属等导电性基板时，最好是在基板上形成内部具有电极的厚膜结构。

作为电介质厚膜材料(第1绝缘层)可使用公知的电介质厚膜材料。最好是电介率比较大的材料。例如可使用钛酸铅系、铌酸铅系、钛酸钡系等材料。

作为电介质厚膜的电阻率在10⁸Ω·cm以上，最好是10¹⁰～10¹⁸Ω·cm。最好是具有电介率比较高的物质，作为其电介率ε，最好是ε＝100～10000。作为膜厚最好为5～50μm，更好为10～30μm。

绝缘层厚膜的形成方法没有特殊限定，可以是能比较容易获得10～50μm厚膜的方法，最好是溶胶凝胶法、印刷烧成法等。

利用印刷烧成法时，适当地使材料的粒度一致，与粘合剂混合，形成适当粘度的糊。利用屏帘印刷法将该糊涂布基板上，进行干燥。将这种未烧成的板在适当温度下进行烧成，得到厚膜。

作为薄膜绝缘层(第2绝缘层)的构成材料，例如有二氧化硅(SiO₂)、氮化硅(SiN)、氧化钽(Ta₂O₅)、钛酸锶(SrTiO₃)、氧化铱(Y₂O₃)、钛酸钡(BaTiO₃)、钛酸铅(PbTiO₃)、PZT、氧化锆(ZrO₂)、硅氧氮化物(SiON)、氧化铝(Al₂O₃)、铌酸铅、PMN-PT系材料等以及它们的多层或混合薄膜。作为使用这些材料形成绝缘层的方法，可以使用蒸镀法、喷溅法、CVD法、溶胶凝胶法、印刷烧成法等公知的方法。作为这时绝缘层的膜厚，最好为50～1000nm，更好100～500nm。

电极(下部电极)至少形成在基板侧或第1电介质内。厚膜形成时，和发光层同时在高温热处理下形成的电极层，作为主成分可使用钯、铑、铱、铼、钌、铂、钽、镍、铬、钛等中的1种或1种以上的常用金属电极。

除形成上部电极外其他的电极，通常为了从与基板相反侧取出发光，最好是在规定发光波长域内具有透光性的透明电极。如果基板是透明的，为了能从基板侧取出发光的光，透明电极也可用作下部电极。这时，最好使用ZnO、ITO等透明电极。ITO，以化学理论当量观点的组成含有In₂O₃和SrO，O量多少可以有些偏离。Sn₂对In₂O₃的混合比为1～20质量％，最好为5～12质量％，ZnO对IZO中In₂O₃的混合比通常为12～32质量％。

电极也可以具有硅。这种硅电极层可以是多结晶硅(p-Si)，也可以是非结晶硅(a-Si)，根据需要也可是单结晶硅。

为了确保电极的导电性，电极除向主成分硅外也可掺杂杂质。用作杂质的掺杂剂，若确保规定的导电性，可使用硅半导体中通常使用的掺杂剂。具体有B、P、As、Sb、Al等，这些中最好的是B、P、As、Sb和Al。作为掺杂剂的浓度，最好0.001～5at％。

作为用这些材料形成电极层的方法可使用蒸镀法、喷溅法、CVD法、溶胶凝胶法、印刷烧成法等已知的方洗，特别在基板上制作形成内部具有电极的厚膜的结构时，最好是与电介质厚膜相同的方法。

为了向发光层有效地付与电场，作为电极层的最佳电阻率为1Ω·cm以下，更好为0.003～0.1Ω·cm。作为电极层的膜厚，根据形成材料，最好为50～2000nm，更好100～1000nm。

以上对本发明的发光层应用于无机EL元件的情况进行了说明，若是可使用本发明荧光体薄膜的元件，若使用其他形态的元件、发白色光的元件，可应用于显示器用的单色板。

以下示出了本发明的具体实施例，并进一步说明本发明。

实施例1

图1示出了可用于本发明制造方法的一例蒸镀装置。其中，使用1台E枪、1台电阻加热池代替2套控制枪。

在真空槽11内设置装有添加5mol％Eu的BaS粉的EB源15、装入Al₂S₃粉的电阻加热池源(14)，同时使各源进行蒸发，加热到400℃，在旋转的基板上形成Ba_xAl_yO_zS_w:Eu层膜。调节各蒸发源的蒸发速度，以便形成的薄膜为1nm/sec。这时通入20SCCM的H₂S气体。薄膜形成后，在750℃的大气环境中进行10分钟退火，形成膜厚300nm的第1薄膜。

在其上使用添加了0.5mol％Mn的ZnS颗粒，利用EB蒸镀形成膜厚400nm的第二薄膜。

另一种方法制作第一薄膜Ba_xAl_yO_zS_w:Eu薄膜，利用荧光X线分析，组成分析结果，以原子比为Ba∶Al∶O∶S∶Eu＝7.40∶19.18∶70.15∶2.90∶0.36。

进一步制作使用该光层的的EL元件。通过向电极施加1KHz脉冲宽度50μs的电场，获得再现良好的500cd/m²白色发光辉度。得到的发光色在CIE色度座标为X＝0.352、Y＝0.303的纸白色。

如以上所述本发明的层叠荧光体，即使不用滤色片，也可以得到色纯度良好，且发高辉度白光的荧光体薄膜材料。

使用了这种层叠荧光体的EL元件可形成发光特性优良、特别是白色EL元件和单色EL板，实用价值极大。

如以上所述，根据本发明不需要滤色片，就能提供色纯度良好的，特别适宜白色单色EL用的层叠荧光体和EL板。

Claims (5)

1、一种积层荧光体，是至少具有第一薄膜和第二薄膜的积层荧光体，其特征是，上述第一薄膜的母体材料是以Ba_xAl_yO_zS_w为主成分，发光中心为Eu的材料，上述x为1～5，y为1～15，z为1～15，z为3～30，W为3～30，且S/(S+O)，为0.01～0.95，上述第二薄膜的母体材料是以硫化锌为主成分，发光中心是选自过渡金属、稀土金属、Pb及Bi中的1种或2种以上的元素。

2、根据权利要求1的积层荧光体，其特征是上述硫元素的混合量与母体材料中氧元素的摩尔比率S/(S+O)为0.02～0.5，铝元素与钡元素的摩尔比率Al/Ba为5～7。

3、根据权利要求1的积层荧光体，其特征是上述硫元素的混合量与母体材料中氧元素的摩尔比率S/(S+O)为0.7～0.9，而且，钡元素Ba与铝元素Al的比率Al/Ba为1.5～3.0。

4、根据权利要求1的积层荧光体，其特征是上述第一薄膜和第二薄膜发出的合成色光是在CIE色度座标X＝0.27～0.39、Y＝0.27～0.38的白色光。

5、具有权利要求1中积层荧光体的EL板。