CN118043652A - 峰鉴别分析程序及x射线荧光分析装置 - Google Patents
峰鉴别分析程序及x射线荧光分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN118043652A CN118043652A CN202280065516.7A CN202280065516A CN118043652A CN 118043652 A CN118043652 A CN 118043652A CN 202280065516 A CN202280065516 A CN 202280065516A CN 118043652 A CN118043652 A CN 118043652A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- list
- ray fluorescence
- line
- specified
- elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 title claims abstract description 125
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 90
- 238000012795 verification Methods 0.000 abstract description 5
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 11
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000012850 discrimination method Methods 0.000 description 1
- 238000012921 fluorescence analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2209—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using wavelength dispersive spectroscopy [WDS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
本发明的目的在于容易进行X射线荧光光谱的鉴别分析和分析结果的验证。一种峰鉴别分析程序使用于X射线荧光分析装置的计算机执行:光谱取得步骤;指定信息取得步骤;第一列表显示步骤,其将基于所指定的角度或能量而确定的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示X射线荧光光谱所包含的峰的X射线荧光的候选的第一列表;第一列表接受步骤,其从用户接受第一列表中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定;以及显示更新步骤,其在显示了第一列表的状态下,显示在第一列表中指定的元素及线型是指定的状态,并将所指定的元素及线型和该元素的其他线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表。
Description
技术领域
本发明涉及一种峰鉴别分析程序及X射线荧光分析装置。
背景技术
作为测定样品中含有的元素和该元素的浓度的装置,已知有基于将初级X射线照射到样品时产生的X射线荧光来分析样品中含有的元素等的X射线荧光分析装置。
在X射线荧光分析装置中,存在波长色散型X射线荧光分析装置和能量色散型X射线荧光分析装置。波长色散型X射线荧光分析装置取得横轴为2θ角度(以下简称为角度)、纵轴为X射线荧光的强度的X射线荧光光谱。此外,θ是X射线荧光相对于分光元件的入射角度。能量色散型X射线荧光分析装置取得横轴为X射线荧光的能量、纵轴为X射线荧光的强度的X射线荧光光谱。基于该峰出现的角度或能量以及该峰的强度,进行X射线荧光光谱中包含的峰的鉴别。
作为以往进行的鉴别方法的一例,以下说明波长色散型X射线荧光分析装置取得的X射线荧光光谱中包含的峰的鉴别方法。
首先,在X射线荧光光谱的重元素区域(元素周期表中的Ti以后的元素)中,确认来自X射线管靶元素(例如Rh)的特征X射线的散射线即汤姆逊(或瑞利)散射线和康普顿散射线的峰(步骤1)。
接着,选择X射线荧光光谱中包含的散射线以外的强度高的峰。在包含所选择的峰的角度的规定的角度范围内出现的X射线荧光中,选择强度强的线型即Kα线、Lα线和Lβ1线的候选(步骤2)。此外,“线型”这一语句有时表示元素符号(例如PbLβ1线中的Pb)和由电子的跃迁源和跃迁目的地的壳和轨道确定的记号(例如PbLβ1中Lβ1),但以下主要仅表示由后者的电子的跃迁源和跃迁目的地的壳以及轨道决定的记号。
确认在步骤2中作为候选而选择的线型的配对的线型的峰是否出现。在此,配对的线型是由于产生被选择为候选的线型的元素而产生的其他线型。例如,当候选中包含的线型为Kα线时,配对的线型是Kβ线,当候选中包含的线型为Lα线时是Lβ1线,当候选中包含的线型为Lβ1线时是Lα线(步骤3)。
在步骤3中,当确认了配对的线型的峰时,判断所选择的线型与配对的线型的强度比是否合理。当判断为强度比合理的情况下,鉴别为X射线荧光光谱中包含的峰是由所选择的线型配对的线型引起的峰。由此,确定产生该峰的元素(步骤4)。
当在步骤4中鉴别出峰时,确认在伴随线(从在步骤4中确定的元素产生的相对强度低的其他线型)出现的角度是否存在峰。如果存在峰,则确认与Kα、Lα线等强度高的线型的强度比,以判断强度比是否合理。当判定为合理的时,鉴别为X射线荧光光谱中包含的峰是伴随线。此外,对于高阶线也通过与伴随线同样的顺序进行峰的鉴别(步骤5)。
对于包含在X射线荧光光谱中的峰中未在步骤2至步骤5中鉴别的峰,实施步骤2至步骤5,并且重复进行由其他元素引起的峰的鉴别和元素的确定(步骤6)。
在残留有步骤2至步骤6中未鉴别的峰的情况下,确认在该峰的角度附近出现的Kα、Lα、Lβ1线的X射线荧光是否存在,当存在时,鉴别为是存在该峰值的Kα、Lα、Lβ1线(步骤7)。
此外,在轻元素(元素周期表中直到Ca为止的元素)的K线出现的角度区域(或能量区域),有时会出现重元素的L线或M线的峰。特别是在存在X射线强度高的重元素的情况下,考虑到在该角度区域出现原子编号大的重元素的L线、M线、高阶线的可能性,还一并进行在该角度区域以外出现的峰的鉴别。
近年来,已经通过软件进行上述步骤。此外,还进行用户手动地按照上述步骤确认基于软件的鉴别结果是否存在错误。当用户手动进行峰的鉴别时,也存在辅助上述步骤的X射线荧光分析装置(参照下述专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2005-114658号公报
发明内容
发明所要解决的课题
以往,在通过软件对峰鉴别X射线荧光的线型的情况下,由用户确认鉴别结果是否正确。在该软件中,作为进行确认时辅助用户的功能,安装有以下两个操作功能。
一个功能是在用户指定了角度(在能量色散型装置中为能量)时,在计算机的操作画面上显示所指定的角度附近的X射线荧光的线型、角度及相对强度的功能。另一个功能是当用户指定元素时显示所指定的元素的X射线荧光的线型、角度和相对强度的功能。
在使用上述两个功能进行峰的鉴别结果的确认和修正的情况下,存在当峰存在多个X射线荧光的线型中的任一种的可能性的情况下,鉴别结果的确认操作非常繁琐的问题。
本发明是鉴于上述课题而提出的,其目的在于提供一种即使是X射线荧光分析不熟练者也能够容易地进行X射线荧光光谱的鉴别分析和分析结果的验证的峰鉴别分析程序以及X射线荧光分析装置。
用于解决课题的方案
(1)本公开一个方面的峰鉴别分析程序的特征在于,使用于X射线荧光分析装置的计算机执行:光谱取得步骤,其取得包含多个峰的X射线荧光光谱;指定信息取得步骤,其取得用户对所述X射线荧光光谱指定的角度或能量;第一列表显示步骤,其将基于所指定的角度或能量而确定的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示所述X射线荧光光谱所包含的峰的X射线荧光的候选的第一列表;第一列表接受步骤,其从用户接受所述第一列表中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定;以及显示更新步骤,其在显示了所述第一列表的状态下,显示在所述第一列表中指定的元素及线型是指定的状态,并将所指定的元素及线型和该元素的其他线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表。
(2)根据本公开的上述方式,其特征在于,在所述显示更新步骤中,进而在所述X射线荧光光谱的对应位置显示所述第二列表中显示的元素及线型。
(3)根据本发明的上述方式,其特征在于,在对所述第一列表指定了多个元素和线型的情况下,所指定的元素和线型以与所指定的顺序对应的不同的方式显示在所述X射线荧光光谱上。
(4)根据本公开的上述方式,其特征在于,所述显示更新步骤中的元素及线型的显示是指定的元素的元素符号、线型名称及纵线的显示。
(5)本公开的另一方面的X射线荧光分析装置的特征在于,包括:光谱取得部,其取得包含多个峰的X射线荧光光谱;指定信息取得部,其取得用户对所述X射线荧光光谱指定的角度或能量;第一列表显示部,其将基于所指定的角度或能量而确定的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示所述X射线荧光光谱所包含的峰的X射线荧光的候选的第一列表;第一列表接受部,其从用户接受所述第一列表中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定;以及显示更新部,其在显示了所述第一列表的状态下,显示在所述第一列表中指定的元素及线型是指定的状态,并将所指定的元素及线型和该元素的其他线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表。
发明效果
根据本发明,即使是X射线荧光分析不熟练者也能够容易地进行X射线荧光光谱的鉴别分析和分析结果的验证。
附图说明
图1是表示X射线荧光分析装置的概要的一例的图。
图2是表示运算设备的功能模块的图。
图3是表示X射线荧光光谱的一例的图。
图4是表示线型检索图像的一例的图。
图5是表示显示了元素和线型的状态的X射线荧光光谱的一例的图。
图6是表示在被鉴别的状态下的X射线荧光光谱的一例的图。
图7是峰鉴别分析的流程图的一例。
图8是表示现有例中的元素及线型的候选一览表的图。
图9是表示在现有例中显示的Pb的线型一览表的图。
图10是表示在现有例中显示的As的线型一览表的图。
具体实施方式
以下,说明用于实施本发明的优选实施的方式(以下称为实施方式)。图1是表示X射线荧光分析装置100的概要的一例的图。如图1所示,X射线荧光分析装置100包括光谱取得部102和信息处理部104。
光谱取得部102取得包含多个峰的X射线荧光光谱。具体而言,例如,光谱取得部102包括X射线源106、样品台108、分光元件110、探测器112、计数器114。光谱取得部102基于从照射了初级X射线的样品116射出的次级X射线(X射线荧光或散射线),取得表示次级X射线的强度与能量的关系的光谱。
样品台108载置作为分析对象的样品116。X射线源106将初级X射线照射到样品116的表面。从照射了初级X射线的样品116射出次级X射线。
分光元件110对次级X射线进行分光。具体而言,例如,分光元件110仅对从样品116产生的多个波长的次级X射线中满足布拉格条件式的特定波长的X射线进行分光。将从样品116产生的次级X射线的前进方向与分光元件110表面所成的入射角度设为θ。
探测器112例如是闪烁计数器。探测器112测定次级X射线的强度,并输出具有与测定的次级X射线的能量对应的峰值的脉冲信号。
分光元件110和探测器112通过测角仪(未示出)保持一定的角度关系并转动。具体而言,分光元件110通过测角仪转动,使分光元件110表面的次级X射线的入射角度θ在规定的范围内变化。次级X射线由分光元件110衍射,并射出满足布拉格条件式的次级X射线(即出射角度θ的次级X射线)。探测器112通过测角器移动到从分光元件110以射出角度θ射出的次级X射线入射的位置。
计数器114根据峰值对从探测器112输出的脉冲信号进行计数。具体而言,例如,计数器114根据峰值对作为探测器112的测定强度而输出的脉冲信号进行计数,并作为X射线强度输出到信息处理部104。光谱取得部102取得计数器114的输出作为X射线荧光光谱(以下简称为光谱)。
信息处理部104控制光谱取得部102的动作。具体而言,信息处理部104是与光谱取得部102连接的计算机,并包括运算设备118、存储设备120、显示设备122、输入输出设备124。
运算设备118是作为处理器的CPU(Central Processing Unit中央处理部),并且进行各种运算。存储设备120是作为存储器的RAM(Random Access Memory随机存取存储器)、HDD(Hard Disk Drive硬盘驱动器)、SSD(Solid State Drive固态驱动器)等能够静态存储信息的装置。存储设备120存储峰鉴别分析程序等定性分析程序。峰鉴别分析程序等定性分析程序是由X射线荧光分析装置100中使用的信息处理部104执行的程序。峰鉴别分析程序是使信息处理部104执行后述的峰鉴别分析中包含的各步骤的程序。定性分析程序是根据由峰鉴别分析程序鉴别出的峰,进行得到样品116的元素信息的定性分析的程序。
显示设备122是CRT(Cathode Ray Tube阴极射线管)或所谓的平板显示器等,并且用于显示图像。输入输出设备124是计算机用于与外部设备交换信息的一个或多个接口,例如键盘、鼠标、触摸面板等,是用户用于输入信息的一个或多个设备。此外,输入输出设备124可以包括用于有线连接的各种端口和用于无线连接的控制器。
此外,图1所示的X射线荧光分析装置100为波长色散型,但X射线荧光分析装置100也可以为能量色散型。在X射线荧光分析装置100为能量色散型的情况下,不包含分光元件110及测角仪,并且在探测器中使用SDD(Silicon Drift Detector硅漂移探测器)探测器等半导体探测器。
峰鉴别分析程序是使信息处理部104执行后述的峰鉴别分析中包含的各步骤的程序。具体地,HDD中存储的峰鉴别分析程序根据需要被读出到RAM中并由CPU执行。即,RAM中存储有用于通过由CPU执行来实现图2中作为功能模块所示的各种功能的代码。该峰鉴别分析程序既可以存储在光盘、磁光盘、闪存等计算机能够读入的信息存储介质中提供,也可以通过I/O经由外部的因特网等信息通信线路提供。
当由信息处理部104执行峰鉴别分析程序时,如图2所示,计算设备118在功能上包括指定信息取得部202、第一列表显示部204、第一列表接受部206、显示更新部208和第二列表接受部210。
指定信息取得部202取得用户对X射线荧光光谱指定的角度或能量。具体地,例如,对光谱取得部102取得图3所示的光谱,并且在显示设备122上显示该光谱的情况进行说明。用户通过操作鼠标,点击图3所示的光谱的想要鉴别的峰附近(例如34度附近)。指定信息取得部202取得图3所示的光谱的点击位置所表示的角度作为指定角度。
此外,图3所示的X射线荧光光谱是波长色散型的X射线荧光分析装置100取得的X射线荧光光谱,因此横轴为角度(deg)。在X射线荧光分析装置100为能量色散型的情况下,X射线荧光光谱的横轴为能量(keV)。在这种情况下,指定信息取得部202通过用户操作鼠标而取得用户指定的能量。
此外,指定信息取得部202也可以取得用户通过操作键盘而输入的角度作为指定角度。例如,图4是当由信息处理部104执行峰鉴别分析程序时显示在显示设备122上的图像(以下称为线型检索图像402)的一例。用户通过操作键盘而将“34.00”的数值数据输入到线型检索图像402的指定角度栏。并且,也可以在用户输入了数值数据时或者点击了检索按钮404时,指定信息取得部202取得输入的数值数据作为指定角度。
第一列表显示部204将基于指定的角度或能量而确定的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示X射线荧光光谱中包含的峰的X射线荧光的候选的第一列表406。具体而言,第一列表显示部204根据理论能量表检索存在于指定角度前后的规定范围内的X射线荧光,并显示成为候选的X射线荧光的信息。显示的X射线荧光的信息为元素和线型、2θ角度(deg)、相对强度。图4的检索结果所示的表是第一列表406的一例。第一列表406包括第一列中的用户的指定信息,第二列中的元素及线型,第3列中的2θ角度(deg)、第4列的相对强度的各种信息。
用户的指定信息是表示用户是否指定对应的各行所示的X射线荧光的信息。例如,指定信息由复选框或单选按钮是否被选中来表示。在图4的例子中,在第一列表406的第一列显示复选框,并且设置在表示PbLα线及AsKα线的行上的复选框处于被选中的状态。
此外,用户的指定信息可以是同时指定多个X射线荧光的候选的信息,也可以是同时只指定一个的信息。例如,如图4所示,在第一列表406的第一列中显示复选框,在多个行的复选框为开启状态的情况下,同时指定多个X射线荧光的候选。此外,也可以在第一列表406的第一列显示单选按钮,在指定了某一行时,取消其他行的指定。此外,用户的指定信息也可以不是通过复选框的打开或关闭,而是通过行整体的显示形式(例如颜色、字体等)的不同来表示。
第一列表406的元素及线型是确定该X射线荧光的元素及线型的信息。例如,在如上所述取得了“34.00”这样的指定角度的情况下,第一列表显示部204检索在34.00度的前后0.1度以内理论上出现的X射线荧光,作为确定相应的X射线荧光的元素及线型,显示“PbLα”、“ReLβ5”及“AsKα”的元素及线型。显示的元素和线型都是表示峰的X射线荧光的候选。
第一列表406的2θ角度(deg)是作为候选的X射线荧光出现的2θ角度的理论值。例如,在上述情况下,显示“PbLα”的2θ角度为“33.915”、“ReLβ5”的2θ角度为“33.980”、“AsKα”的2θ角度为“33.980”的数值。
第一列表406的相对强度是表示作为候选显示的X射线荧光之间的强度比的值。例如,在上述情况下,显示以“PbLα”的相对强度为基准即“100.0”,“ReLβ5”的相对强度为“0.1”,以及“AsKα”的相对强度为“150.0”这样的数值。
此外,在第一列表406中显示线型不需要是同一系列(例如,相同元素相同L系列的线型)中强度最强的线型,也可以是Lβ2线、Lγ1等伴随线,或者高阶线。
第一列表接受部206从用户接受第一列表406中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定。具体地,例如,用户通过操作鼠标来操作第一列表406的第一列中所示的复选框的打开和关闭。第一列表接受部206将显示了被选中的状态的复选框的行的元素及线型作为用户指定的元素及线型来接受。
显示更新部208在显示了第一列表406的状态下,表示对第一列表406指定的元素及线型是被指定的状态,并将所指定的元素及线型和该元素的其他线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表408。具体而言,当用户选择了第一列表406的元素及线型的复选框时,显示更新部208将所指定的元素的线型的一览表显示为第二列表408。
例如,在第二列表408中包含用户的指定信息、各元素及线型、其2θ包括角度和相对强度。具体而言,与第一列表406同样,第二列表408包括第一列中的用户的指定信息、第二列中的元素及线型、第3列中的2θ角度(deg)、第4列中的相对强度的各种信息。在图4的第二列表408中,作为“Pb”的线型,显示“PbLα”以及“PbLβ1”的元素及线型、作为“As”的线型,显示“AsKα”以及“AsKβ1”的元素及线型。
此外,在第二列表408的“PbLβ1”行显示2θ角度为“28.2400”,显示相对强度为“50.0”。在第二列表408的“PbLα”行显示与第一列表406相同的信息。在第二列表408的“AsKβ1”行显示2θ角度为“30.4300”,显示相对强度为“30.0”。在第二列表408的“AsKα”行显示与第一列表406相同的信息。各2θ角度及各相对强度均为理论值。关于相对强度,因为有时在分光晶体具有能量依赖性等理论值中存在误差,所以也可以通过实测值对实验值或理论值进行修正。
此外,显示更新部208将元素和线型名称显示在X射线荧光光谱的对应位置。例如,当设置在第一列表406的显示“PbLα”以及“AsKα”的行中的复选框被选中时,显示更新部208将作为被指定的元素的Pb及As的各元素及线型、其出现的角度或能量、相对强度的一览表显示为第二列表408,并对于图3所示的光谱,将PbLα线,PbLβ1线、AsKα线及AsKβ1线显示在各个X射线荧光的理论角度的位置。例如,元素和线型的显示是被指定元素的元素符号、线型名称和纵线的显示。这里,如图4的线型检索图像的选择元素的线型所示,第二列表408可以是连续显示多个元素的一览表,也可以是按每个元素单独显示的一览表。
这里,在对第一列表406指定了多个元素和线型的情况下,所指定的元素和线型也可以以与被指定的顺序对应的不同方式在X射线荧光光谱中显示。例如,首先指定“PbLα”,接着指定“AsKα”时,表示作为Pb线型的“PbLα”以及“PbLβ1”的纵线用实线显示,表示作为As的线型的“AsKα”以及“AsKβ1”的纵线也可以用虚线显示等按每个元素以不同的线的方式显示。图5是表示对于所取得的X射线荧光光谱显示了该4种X射线荧光的元素及线型的状态的图。此外,不同的方式也可以用颜色的不同而不是实线或虚线来表现。
此外,显示更新部208根据用户对第一列表406的各元素及线型的指定切换,切换是否将所指定的元素及线型显示在X射线荧光光谱的对应位置。例如,在“AsKα”的指定被取消的情况下,包含在第二列表408中的AsKα及AsKβ1行和X射线荧光光谱的对应AsKα线和AsKβ1的元素符号、线型名称及纵线不显示。
在显示了第一列表406且对第一列表406指定了元素及线型被指定的状态下,第二列表接受部210从用户接受第二列表408中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定。这是为了根据在第二列表408中包含的各元素及线型的X射线荧光光谱的对应位置所显示的元素符号及线型名称和相对强度,确定实际的样品中包含的元素,并选择鉴别的元素及线型。
具体地,如图4所示,第一列表406处于显示状态,并且表示与对第一列表406指定的“PbLα”以及“AsKα”同一行的复选框为打开状态。在该状态下,用户通过操作鼠标来操作第二列表408的第一列所示的复选框的打开和关闭。第二列表接受部210接受由显示了被选中的状态的复选框的行表示的X射线荧光作为用户所指定的元素和线型。
在图4中,表示出与对第二列表408指定的“PbLα”以及“PbLβ1”同一行的复选框为打开状态。这是因为基于在第二列表408所包含各元素及线型的X射线荧光光谱的位置所显示的元素符号及线型名称和相对强度,用户判断为样品中含有Pb,并鉴别为X射线荧光光谱所包含的峰为“PbLα”以及“PbLβ1”线。在该状态下,当点击图4的线型检索的图像的OK按钮410时,如图6所示,显示更新部208在所取得的X射线荧光光谱显示出选择的“PbLα”以及“PbLβ1”的元素符号及线型名称。由此,进行峰鉴别分析程序的鉴别。
此外,在对第一列表406指定了多个元素及线型的情况下,显示更新部208也可以对每个指定的元素显示单独的第二列表408。具体地,例如,在图4中,显示出包含“PbLα”、“AsKα”、“PbLβ1”及“AsKβ1”的4种元素和线型的1个第二列表408,但可以单独显示出包含“PbLα”及“PbLβ1”的第二列表408和包含“AsKα”及“AsKβ1”的第二列表408。
此外,在第二列表408中显示的线型不需要是指定的元素引起的强度强的线型,也可以是Lβ2线或Lγ1等伴随线或者是高阶线。
接着,参照图7说明峰鉴别分析程序使信息处理部104执行的峰鉴别分析中包含的各步骤。
首先,光谱取得部102取得包含多个峰的X射线荧光光谱(S702)。所取得的X射线荧光光谱显示在显示设备122上(参见图3)。此外,在显示设备122上显示图4所示的线型检索图像402。此外,此时,在线型检索图像402中未显示第一列表406及第二列表408。
接下来,指定信息取得部202取得用户对X射线荧光光谱指定的角度或能量(S704)。例如,通过用户操作鼠标,点击图3所示的想要鉴别的光谱的峰附近,指定信息取得部202取得34度的指定角度。所取得的指定角度显示在图4所示的线型检索图像402的指定角度栏中。
接着,第一列表显示部204根据指定的角度或能量,将存在于指定角度前后的规定范围内的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示X射线荧光光谱所包含的峰的X射线荧光的候选即第一列表406(S706)。例如,当用户点击検索按钮404时,第一列表显示部204显示图4所示的包含“PbLα”、“ReLβ5”及“AsKα”的第一列表406。此外,此时,在线型检索图像402中未显示第二列表408。
接着,第一列表接受部206从用户接受第一列表406中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定。此外,显示更新部208对于被第一列表接受部206指定的元素及线型的元素,在第二列表408中显示该元素及线型的一览表。具体而言,显示更新部208在显示了第一列表406的状态下,显示在第一列表406中指定的元素和线型是被指定的状态,并将所指定的元素和该元素的线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表408。此外,显示更新部208在X射线荧光光谱的对应位置上显示对第二列表408指定的元素和线型(S708)。
具体而言,例如,用户通过操作鼠标,打开第一列表406的“PbLα”和“AsKα”的复选框。第一列表接受部206接受“PbLα”和“AsKα”作为指定的元素及线型。由于被第一列表接受部206指定的元素及线型中的元素是Pb和As,所以显示更新部208将“PbLβ1”、“PbLα”、“AsKα”、“AsKβ1“作为元素及线型显示在第二列表408中。此外,显示更新部208在X射线荧光光谱的各X射线荧光的理论角度的位置显示在第二列表408中显示的Pb和As的元素符号以及该元素的各线型名称。
接着,用户确认X射线荧光光谱和显示在其上的各X射线荧光的线型的位置、相对强度,以确定元素和线型,并打开确定的元素和线型的复选框。由此,第二列表接受部210从用户接受第二列表408中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定。在该状态下,例如用户点击线型检索图像402的OK按钮410。通过该操作,在X射线荧光光谱的对应的位置显示在第二列表408中指定的元素及线型的元素符号以及线型名称。具体而言,用户确定X射线荧光光谱中存在PbLβ1线和PbLα线的峰,并打开确定的PbLβ1线和PbLα的复选框。在这种情况下,第二列表接受部210接受“PbLβ1”和“PbLα”的指定。然后,当用户点击图4的线型检索的图像的OK按钮410时,如图6所示,显示更新部208在X射线荧光光谱的对应的位置显示“PbLβ1”和“PbLα”,并且该位置的峰被鉴别为是Pb引起的(S710)。
接着,重复执行S704至S710(S712)。具体而言,用户通过对每个进行鉴别的X射线荧光光谱的峰比较光谱中包含的峰的位置和指定的元素及线型的显示的位置,来判断峰的元素及线型,并适当地进行鉴别。
根据以上的步骤,用户能够在显示了第一列表406和第二列表408的状态下,显示被第一列表406指定的元素和线型为指定的状态,并比较光谱中包含的峰的出现角度和指定的元素的理论角度(或能量)。此外,能够在显示了第一列表406和第二列表408的状态下,按每个元素切换该比较。因此,即使对于X射线荧光分析不熟练的人也能够容易地进行X射线荧光光谱的鉴别分析和分析结果的验证。
以下,作为比较例,将现有方法的操作顺序的一例与本公开进行对比的同时进行说明。在现有的方法中,也进行本公开的S702至S706的步骤。即,在取得图3所示那样的X射线荧光光谱,并想要鉴别34度附近的峰的情况下,图8所示那样的元素及线型的候选与理论角度及相对强度一起显示。
当显示图8所示的候选时,由于不清楚34度附近的峰是哪个元素以及线型,所以用户针对作为候选列举的每个元素,参照X射线荧光光谱并判断该元素是否包含在样品116中。具体而言,用户关闭图8的线型候选的图像,显示表示指定元素的元素和线型的列表的图像,当指定图8所示的候选中的Pb时,显示图9所示的Pb的线型一览表。在图9中,作为线型显示PbLβ1及PBLα,作为2θ角度显示33.915度及28.240度,作为相对强度显示50.0及100.0。然后,用户判断在图3所示X射线荧光光谱中,在图9所示的2θ角度为33.915度和28.240度这两个位置是否存在峰。在图3所示的例子中,在33.915度及28.240度这两个位置存在峰,并且该峰值的强度比与图9所示的强度比一致。因此,用户能够判断样品116中含有Pb,并且在33.915度及28.240度的位置出现的峰是由Pb引起的。但是,34度附近的峰可能是PbLα线和AsKα线的峰重叠的峰。因此,用户不能判断此时在样品116中是否包含As和Re。
因此,用户删除图9所示的Pb的线型的一览表显示。然后,在再次显示图8所示的候选的基础上,删除图8的图像,并再次显示表示指定元素的元素及线型的列表的图像并指定As时,显示图10所示的As的线型一览表。As的线型一览表中包含AsKβ1及AsLα、2θ角度为30.430度和33.980度、相对强度为30.0和150.0。然后,用户判断图3所示X射线荧光光谱是否在图10所示的2θ角度为30.430度和33.980度这两个位置存在峰。在图3所示的例子中,在30.430度附近不存在峰。因此,用户判断样品116不含As。用户对Re也进行同样的操作,并判断Re不包含在样品116中。其结果,用户鉴别出在33.915度及28.240度位置出现的峰为PbLβ1和PbLα线。
如上所述,以往需要对每个元素重复进行线型的一览表的显示和非显示。上述的现有例说明了作为As及Pb的线型的一览表仅显示两种的情况,但在确认更多的线型的存在与否的情况下或多个元素的峰重叠的情况下,需要重复执行多个角度和元素的指定,并且操作非常繁琐。根据本发明,如上所述,能够在显示了第一列表406和第二列表408的状态下,显示在第一列表406中指定的元素和线型是被指定的状态,并比较光谱中包含的峰的出现角度、指定的元素的理论角度(或能量)以及线型间的强度比,因此用户能够容易地进行鉴别分析和分析结果的验证。
本公开不限于上述实施例,并可以进行各种变形。上述X射线荧光分析装置100的结构是一例,并且不限定于此。也可以用与上述实施例所示的结构实质上相同的结构、起到相同作用效果的结构或达到相同目的的结构来代替。
附图标记说明
100X射线荧光分析装置、102光谱取得部、104信息处理部、106X射线源、108样品台、110分光元件、112探测器、114计数器、116样品、118运算设备、120存储设备、122显示设备、124输入输出设备、202指定信息取得部、204第一列表显示部、206第一列表接受部、208显示更新部、210第二列表接受部、402线型检索图像、404检索按钮、406第一列表、408第二列表、410OK按钮。
Claims (5)
1.一种峰鉴别分析程序,其特征在于,使用于X射线荧光分析装置的计算机执行:
光谱取得步骤,其取得包含多个峰的X射线荧光光谱;
指定信息取得步骤,其取得用户对所述X射线荧光光谱指定的角度或能量;
第一列表显示步骤,其将基于所指定的角度或能量而确定的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示所述X射线荧光光谱所包含的峰的X射线荧光的候选的第一列表;
第一列表接受步骤,其从用户接受所述第一列表中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定;以及
显示更新步骤,其在显示了所述第一列表的状态下,显示在所述第一列表中指定的元素及线型是指定的状态,并将所指定的元素及线型和该元素的其他线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表。
2.根据权利要求1所述的峰鉴别分析程序,其特征在于,
在所述显示更新步骤中,进而在所述X射线荧光光谱的对应位置显示所述第二列表中显示的元素及线型。
3.根据权利要求1或2所述的峰鉴别分析程序,其特征在于,
在对所述第一列表指定了多个元素和线型的情况下,所指定的元素和线型以与所指定的顺序对应的不同的方式显示在所述X射线荧光光谱上。
4.根据权利要求2所述的峰鉴别分析程序,其特征在于,
所述显示更新步骤中的元素及线型的显示是所指定的元素的元素符号、线型名称及纵线的显示。
5.一种X射线荧光分析装置,其特征在于,包括:
光谱取得部,其取得包含多个峰的X射线荧光光谱;
指定信息取得部,其取得用户对所述X射线荧光光谱指定的角度或能量;
第一列表显示部,其将基于所指定的角度或能量而确定的一个或多个元素及线型的一览表显示为表示所述X射线荧光光谱所包含的峰的X射线荧光的候选的第一列表;
第一列表接受部,其从用户接受所述第一列表中包含的一个或多个元素及线型中的至少一部分的指定;以及
显示更新部,其在显示了所述第一列表的状态下,显示在所述第一列表中指定的元素及线型是指定的状态,并将所指定的元素及线型和该元素的其他线型出现的角度或能量的一览表显示为第二列表。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021176268A JP7325849B2 (ja) | 2021-10-28 | 2021-10-28 | ピーク同定解析プログラム及び蛍光x線分析装置 |
JP2021-176268 | 2021-10-28 | ||
PCT/JP2022/027113 WO2023074056A1 (ja) | 2021-10-28 | 2022-07-08 | ピーク同定解析プログラム及び蛍光x線分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN118043652A true CN118043652A (zh) | 2024-05-14 |
Family
ID=86159324
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202280065516.7A Pending CN118043652A (zh) | 2021-10-28 | 2022-07-08 | 峰鉴别分析程序及x射线荧光分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7325849B2 (zh) |
CN (1) | CN118043652A (zh) |
WO (1) | WO2023074056A1 (zh) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0744022B2 (ja) * | 1988-06-20 | 1995-05-15 | 日本電子株式会社 | X線マイクロアナライザ |
JPH04343051A (ja) * | 1991-05-20 | 1992-11-30 | Casio Comput Co Ltd | 電子線マイクロアナライザのデータ解析システム |
JP3236838B2 (ja) | 1998-07-27 | 2001-12-10 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析方法および装置 |
CA2470477A1 (en) | 2001-12-21 | 2003-07-10 | Donald P. Tuchman | Systems and methods for automated quantitative analyses of digitized spectra |
JP4343051B2 (ja) | 2004-07-20 | 2009-10-14 | 株式会社東芝 | 情報処理装置、操作画面の制御方法およびプログラム |
JP6683111B2 (ja) * | 2016-11-28 | 2020-04-15 | 株式会社島津製作所 | 試料解析システム |
JP7163874B2 (ja) | 2019-06-11 | 2022-11-01 | 株式会社島津製作所 | 分析装置及びx線回折装置 |
WO2021079184A1 (en) | 2019-10-22 | 2021-04-29 | Agilent Technologies, Inc. | Method and system for element identification via optical emission spectroscopy |
-
2021
- 2021-10-28 JP JP2021176268A patent/JP7325849B2/ja active Active
-
2022
- 2022-07-08 WO PCT/JP2022/027113 patent/WO2023074056A1/ja active Application Filing
- 2022-07-08 CN CN202280065516.7A patent/CN118043652A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023074056A1 (ja) | 2023-05-04 |
JP7325849B2 (ja) | 2023-08-15 |
JP2023065877A (ja) | 2023-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Battye et al. | iMOSFLM: a new graphical interface for diffraction-image processing with MOSFLM | |
Del Moro et al. | Mid-infrared luminous quasars in the GOODS–Herschel fields: a large population of heavily obscured, Compton-thick quasars at z≈ 2 | |
US7592591B2 (en) | X-ray analyzer using electron beam | |
US20240125717A1 (en) | Systems And Methods For Interpreting High Energy Interactions | |
JP2009053070A (ja) | クロマトグラフィー質量分析の分析結果表示方法及び表示装置 | |
JP6493531B2 (ja) | 蛍光x線分析装置及びそれに用いられるスペクトル表示方法 | |
US20090052620A1 (en) | Apparatus and Method for X-Ray Analysis of Chemical State | |
EP3454058A1 (en) | Mass spectrometry data analysis device and program for mass spectrometry data analysis | |
US20210131983A1 (en) | Sample Component Determination Method, Sample Component Determination Apparatus, Learning Method and Computer Readable Non-transitory Recording Medium | |
CN118043652A (zh) | 峰鉴别分析程序及x射线荧光分析装置 | |
US11674913B2 (en) | Sample analysis apparatus and method | |
US9829447B2 (en) | X-ray fluorescence analyzer and method of displaying sample thereof | |
KR102274965B1 (ko) | 형광 x선 분석 장치 | |
JP4255012B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
US11187664B2 (en) | Devices and methods for detecting elements in a sample | |
US6765200B2 (en) | Mass spectrometry and mass spetrometer using the same | |
Goldstein et al. | Qualitative elemental analysis by energy dispersive X-ray spectrometry | |
JP7238366B2 (ja) | 分析システム | |
JP7173277B2 (ja) | 分析装置 | |
US11282686B2 (en) | Imaging mass spectrometer | |
WO2023223777A1 (ja) | 補正方法、分析装置およびプログラム | |
JP2008026251A (ja) | X線分析装置 | |
JP2021131412A (ja) | 表示システム、分析装置、制御方法、および制御プログラム | |
JP2011043402A (ja) | X線スペクトル表示処理装置 | |
JP2019128334A (ja) | 分析制御装置、分析装置、分析制御方法および分析方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |