CN117164331B - 一种镜面防滑陶瓷砖及其生产工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种镜面防滑陶瓷砖及其生产工艺，既具有如同镜面的高亮高折射效果，还同时具备优秀的防滑效果。包括以下步骤：(1)取原料混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；(2)取原料混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；取原料13‑15重量份的硅藻土微粒、15‑18重量份的石英砂微粒，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B，保温备用；(3)布基础原料，压制，得基础坯体层；(4)接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，压制，得优化坯体层；(5)施底釉、喷墨；(6)施面釉；(7)烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷砖领域，尤其涉及一种镜面防滑陶瓷砖及其生产工艺。
背景技术
陶瓷砖，历史悠久，主要用于建筑装修、设计，铺设在墙面、地面或产品的表面。
随着社会的进步和发展，使用者对瓷砖的要求越来越高，既要保持瓷砖表面的的效果，还要求持有良好的防滑性能，换句话即要陶瓷砖同时具有多种功能特性。
在现有技术中，需要获得良好的防滑效果，可以进行抛光，也可以使用化学物质对瓷砖产生一定程度的腐蚀，从而获得防滑效果，但是这些方法无法保证瓷砖的高亮度和高折射效果，也会对瓷砖造成一定的伤害，顾此失彼。
可见，如何对陶瓷砖进行进一步的产品优化和质量提升，是本领域技术人员研发的方向之一。
发明内容
本发明公开了一种镜面防滑陶瓷砖及其生产工艺，既具有如同镜面的高亮高折射效果，还同时具备优秀的防滑效果。
本发明的一种镜面防滑陶瓷砖，依次设置基础坯体层、优化坯体层、底釉层、图案层、面釉层。
本发明还提供一种镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，包括以下步骤：
(1)取原料，包括：19-23重量份的高岭土、20-26重量份的长石、20-25重量份的硅砂、10-15重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、10-12重量份的水磨料，3-5重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；
(2)取原料，包括：15-18重量份的高岭土、18-23重量份的长石、10-13重量份的硅砂、8-10重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、1-3重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；
取原料13-15重量份的硅藻土微粒、15-18重量份的石英砂微粒，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B备用；
(3)布基础原料，压制，得基础坯体层；
(4)接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，压制，得优化坯体层；
(5)施底釉、喷墨；
(6)施面釉；
(7)烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
优选地，所述步骤(2)中的硅藻土微粒和所述石英砂微粒的粒径均为20-100μm。
优选地，所述优化坯体层占两坯体层总高的20-25％。
优选地，所述原料B均匀散落的排布方式为原料B按照60目、80目、100目的顺序依次均匀散布。
优选地，所述原料B的60目、80目、100目量比例为1:1:1。
优选地，所述底釉包括基础底釉、硅藻土微粒、石英微粒。
优选地，所述底釉的硅藻土微粒和石英微粒的粒径均为20-40μm。
优选地，所述面釉包括镜面釉料、硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒。
优选地，所述面釉的硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒的粒径均为0.1-18μm。
本发明公开的镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，砖坯整体经过两次压制，一是基础坯体层在布料后的压制，二是添加优化坯体层之后的压制。使得陶瓷砖高抗压的基础坯体层的原料保持结构更加紧密的结合，在烧制后分子间粘合度高更加结实。二次的压制工艺的力度得到有效利用，优化坯体层相对薄，压制次数相对少的话能对优化坯体层原料位置得到合理控制，基础坯体层需要更强大的压力保持其结构。
原料B在制备过程中，湿磨后干燥，控制不同的干燥时间和温度，可以有效控制其成团粒径，硅藻土和石英在烧制后，能产生一定的空隙和良好的吸附性能，陶瓷砖在使用过程中，通过如吸盘的方式，踩在陶瓷砖上能实现吸附，从而提高摩擦力，进而实现防滑效果。
具体实施方式
本发明公开了一种镜面防滑陶瓷砖及其生产工艺，既具有如同镜面的高亮高折射效果，还同时具备优秀的防滑效果。
本发明提供的一种镜面防滑陶瓷砖，依次设置基础坯体层、优化坯体层、底釉层、图案层、面釉层。
本发明还提供一种镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，包括以下步骤：
(1)取原料，包括：19-23重量份的高岭土、20-26重量份的长石、20-25重量份的硅砂、10-15重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、10-12重量份的水磨料，3-5重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；
(2)取原料，包括：15-18重量份的高岭土、18-23重量份的长石、10-13重量份的硅砂、8-10重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、1-3重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；
取原料13-15重量份的硅藻土微粒、15-18重量份的石英砂微粒，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B，保温备用；
(3)布基础原料，压制，得基础坯体层；
(4)接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，压制，得优化坯体层；
(5)施底釉、喷墨；
(6)施面釉；
(7)烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
优选地，所述步骤(2)中的硅藻土微粒和所述石英砂微粒的粒径均为20-100μm。
优选地，所述优化坯体层占两坯体层总高的20-25％。
优选地，所述原料B均匀散落的排布方式为原料B按照60目、80目、100目的顺序依次均匀散布。
优选地，所述原料B的60目、80目、100目量比例为1:1:1。
优选地，所述底釉包括基础底釉、硅藻土微粒、石英微粒，比例优选为基础底釉20：硅藻土微粒2-3：石英微粒3-4。
优选地，所述底釉的硅藻土微粒和石英微粒的粒径均为20-40μm。
优选地，所述面釉包括镜面釉料、硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒，比例优选为镜面釉料20、硅藻土微粒0.5-2、石英微粒3-5、二氧化钛微粒2-3。
优选地，所述面釉的硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒的粒径均为0.1-18μm。
其中，基础原料的化学成分包括Na2O、K2O、SiO2、B2O3、ZrO2、TiO2、AL2O3、Li2O等。
原料A的化学成分包括Na2O、K2O、B2O3、ZrO2、AL2O3、Li2O等。
上述的原料组成中描述的其他，为其他常规的、应用于本领域的、现有的原料。
成团的意思是，将原料B均匀混入原料A中，先是保持湿度的状态下，也就是布料的状态下，原料B与原料A的粒径保持相仿，实现更好的混料，在烧制后，原料B能实现有效的善于储水的孔隙，通过釉面通入的水汽能实现良好的吸盘作用，提高防滑效果。
并且，利用底釉和面釉有效因子硅藻土和石英的作用，组成从下至上由大至小的孔隙，能实现深沉地吸附防滑能力。
基础底釉是现有技术中常规底釉，在此不累赘描述。
镜面釉料也是现有技术中使用的镜面釉料，是现有技术，在本领域中常见，例如市面上销售的氧化铝PG80F陶瓷釉，型号PG70/HTM30/SRN70，包含AL2O3、Na2O等。
本申请是在此类釉料的制备中，添加有效成分，将陶瓷砖的本体形成毛细通道，部分砖坯开始至表层面釉，能产生如锥形的吸孔，底部孔隙大，有效保持陶瓷砖毛细孔的水分，从而在使用过程中，吸盘吸附鞋面，从而形成防滑效果。
再有，面釉采用的有效分子粒径小，形成的细孔小，能够保持高硬度，还能有效水气进入毛细孔，但避免杂质进入，并还能保持良好的反射效果，使得表面光亮度足够，从而保持其镜面的观赏感。
具体实施例
一种镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，包括以下步骤：
(1)取原料，包括：19-23重量份的高岭土、20-26重量份的长石、20-25重量份的硅砂、10-15重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、10-12重量份的水磨料，3-5重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；
(2)取原料，包括：15-18重量份的高岭土、18-23重量份的长石、10-13重量份的硅砂、8-10重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、1-3重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；
取原料13-15重量份的硅藻土微粒、15-18重量份的石英砂微粒，微粒粒径均为20-100μm，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B，保温备用；
(3)布基础原料，压制，得基础坯体层；
(4)接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，按照60目、80目、100目的顺序依次均匀散布，压制，得优化坯体层；
优化坯体层占两坯体层总高的20-25％；
原料B的60目、80目、100目量比例为1:1:1；
(5)施底釉、喷墨；
底釉包括基础底釉、硅藻土微粒、石英微粒，其中微粒的粒径均为20-40μm；
(6)施面釉；
面釉包括镜面釉料、硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒，微粒的粒径均为0.1-18μm；
(7)烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
实施例1
一种镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，包括以下步骤：
(1)取原料，包括：19重量份的高岭土、20重量份的长石、20重量份的硅砂、10重量份的滑石、3重量份的膨润土、10重量份的水磨料，3重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；
(2)取原料，包括：15重量份的高岭土、18重量份的长石、10重量份的硅砂、8重量份的滑石、3重量份的膨润土、1重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；
取原料13重量份的硅藻土微粒、15重量份的石英砂微粒，微粒粒径均为50-80μm，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B，保温备用；
(3)布基础原料，压制，得基础坯体层；
(4)接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，按照60目、80目、100目的顺序依次均匀散布，压制，得优化坯体层；
优化坯体层占两坯体层总高的20％；
原料B的60目、80目、100目量比例为1:1:1；
(5)施底釉、喷墨；
底釉包括基础底釉、硅藻土微粒、石英微粒，其中微粒的粒径均为30-32μm；
(6)施面釉；
面釉包括镜面釉料、硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒，微粒的粒径均为3-5μm；
(7)烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
实施例2
一种镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，包括以下步骤：
(1)取原料，包括：23重量份的高岭土、26重量份的长石、25重量份的硅砂、15重量份的滑石、5重量份的膨润土、12重量份的水磨料，5重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；
(2)取原料，包括：18重量份的高岭土、23重量份的长石、13重量份的硅砂、10重量份的滑石、5重量份的膨润土、3重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；
取原料15重量份的硅藻土微粒、18重量份的石英砂微粒，微粒粒径均为40-70μm，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B，保温备用；
(3)布基础原料，压制，得基础坯体层；
(4)接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，按照60目、80目、100目的顺序依次均匀散布，压制，得优化坯体层；
优化坯体层占两坯体层总高的25％；
原料B的60目、80目、100目量比例为1:1:1；
(5)施底釉、喷墨；
底釉包括基础底釉、硅藻土微粒、石英微粒，其中微粒的粒径均为30-32μm；
(6)施面釉；
面釉包括镜面釉料、硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒，微粒的粒径均为3-5μm；
(7)烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
实施例3
一种镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，包括以下步骤：
(1)取原料，包括：21重量份的高岭土、24重量份的长石、22重量份的硅砂、13重量份的滑石、4重量份的膨润土、11重量份的水磨料，4重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；
(2)取原料，包括：16重量份的高岭土、20重量份的长石、12重量份的硅砂、9重量份的滑石、4重量份的膨润土、2重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；
取原料14重量份的硅藻土微粒、17重量份的石英砂微粒，微粒粒径均为40-50μm，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B，保温备用；
(3)布基础原料，压制，得基础坯体层；
(4)接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，按照60目、80目、100目的顺序依次均匀散布，压制，得优化坯体层；
优化坯体层占两坯体层总高的23％；
原料B的60目、80目、100目量比例为1:1:1；
(5)施底釉、喷墨；
底釉包括基础底釉、硅藻土微粒、石英微粒，其中微粒的粒径均为30-32μm；
(6)施面釉；
面釉包括镜面釉料、硅藻土微粒、石英微粒、二氧化钛微粒，微粒的粒径均为5-6μm；
(7)烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
以上对本发明所提供的一种镜面防滑陶瓷砖及其生产工艺进行了详细介绍，对于本领域的一般技术人员，依据本发明实施例的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (5)
1.一种镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：
（1）取原料，包括：19-23重量份的高岭土、20-26重量份的长石、20-25重量份的硅砂、10-15重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、10-12重量份的水磨料，3-5重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐得基础原料备用；
（2）取原料，包括：15-18重量份的高岭土、18-23重量份的长石、10-13重量份的硅砂、8-10重量份的滑石、3-5重量份的膨润土、1-3重量份的其他，进行混合、球磨、放浆、除铁、喷粉、陈腐，得原料A备用；
取原料：13-15重量份且粒径为50-100μm的硅藻土微粒、15-18重量份且粒径为50-100μm的石英砂微粒，混合湿磨，除铁去杂，干燥后保持成团湿度，过60目、80目和100目筛，得到原料B，保温备用；
（3）布基础原料，压制，得基础坯体层；
（4）接着在基础坯体层上布原料A，在布料过程中将原料B均匀散落在原料A之间，压制，得优化坯体层；
（5）施底釉、喷墨；
所述底釉包括基础底釉、粒径为20-40μm的硅藻土微粒、粒径为20-40μm的石英微粒；
（6）施面釉；
所述面釉包括镜面釉料、粒径为0.1-18μm的硅藻土微粒、粒径为0.1-18μm的石英微粒、粒径为0.1-18μm的二氧化钛微粒；
（7）烧制，得镜面防滑陶瓷砖。
2.根据权利要求1所述的镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述优化坯体层占两坯体层总高的20-25%。
3.根据权利要求1所述的镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述原料B均匀散落的排布方式为原料B按照60目、80目、100目的顺序依次均匀散布。
4.根据权利要求3所述的镜面防滑陶瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述原料B的60目、80目、100目量比例为1:1:1。
5.一种镜面防滑陶瓷砖，其特征在于，由权利要求1-4中任意一项所述的镜面防滑陶瓷砖的生产工艺制成，其依次设置基础坯体层、优化坯体层、底釉层、图案层、面釉层。
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