CN114057397B - 一种细干粒岩板表面微光处理方法 - Google Patents

一种细干粒岩板表面微光处理方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开一种细干粒岩板表面微光处理方法。所述方法包括以下步骤：利用岩板基料压制成砖坯；在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施干粒釉；所述干粒釉的矿物组成包括：以质量百分比计，高温干粒13~18%；低温干粒3~5%；高温缎光釉1.5~2.5%；将施干粒釉后的砖坯烧成，获得表面微光的细干粒岩板。所述方法通过调整干粒釉的组成使出窑产品形成磨砂釉面。

Description

一种细干粒岩板表面微光处理方法
技术领域
本发明涉及一种细干粒岩板表面微光处理方法，属于陶瓷砖生产加工领域。
背景技术
随着岩板在装饰材料中的推广应用，人们对家装应用的岩板提出更高要求，常规缎光岩板和抛釉面岩板已经无法满足装饰材料的应用。近年来细干粒釉面的陶瓷产品引爆岩板家具市场，其形貌特征表现为超细颗粒磨砂釉面。另外，细干粒釉面的陶瓷产品细腻质感提升了岩板装饰档次，得到广大消费者的认可，但是仍存在干粒堆积不均匀、高温干粒间的肉眼不可见的间隙导致干粒产品在使用过程中容易藏污纳垢、出窑产品手感粗糙、光泽度差异大、防滑性能差的缺陷。这些性能缺陷导致细干粒釉面的陶瓷产品在市场推广受阻。
发明内容
针对上述问题，本发明提供一种细干粒岩板表面微光处理方法，所述方法通过调整干粒釉的组成使出窑产品形成磨砂釉面，此外还利用轻刷将烧成后不平整的干粒釉面调整为相邻干粒的间距接近等微米级分布，所得干粒面产品不易藏污，釉面光泽度为6～8度，灯光照射在釉面形成均匀漫反射，可以营造舒适温馨的人居环境，且釉面质感更加细腻，增加了岩板的高级感。
第一方面，本发明提供一种细干粒岩板表面微光处理方法。所述方法包括以下步骤：利用岩板基料压制成砖坯；
在砖坯表面施面釉；
在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；
在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施干粒釉；所述干粒釉的矿物组成包括：以质量百分比计，高温干粒13～18％；低温干粒3～5％；高温缎光釉1.5～2.5％；
将施干粒釉后的砖坯烧成，获得表面微光的细干粒岩板。
较佳地，所述干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：55～57％、Al2O3：17～19％、碱土金属氧化物：14～18％、碱金属氧化物：4～6％、ZnO：3～4％。
较佳地，高温干粒的始融温度为920～950℃；优选地，高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：56～58％、Al2O3：18～20％、碱土金属氧化物：13～17％、碱金属氧化物：4～6％、ZnO：3～4％。所述高温干粒的硅含量高、铝含量低、高温熔剂多，利于气体排出，促进获得质感更佳的干粒釉面。
较佳地，低温干粒的始融温度为900～930℃；优选地，低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：52～54％、Al2O3：16～18％、碱土金属氧化物：15～19％、碱金属氧化物：6～8％、ZnO：3～4％。
较佳地，高温缎光釉的始融温度为870～900℃；优选地，高温缎光釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：49～51％、Al2O3：18～20％、碱土金属氧化物：19～22％、碱金属氧化物：4～6％。所述高温缎光釉与高温干粒和低温干粒组合形成干粒釉，能够提高对坯体及釉料的排气效果，釉面质量高，防污性能好。
较佳地，高温缎光釉的始融温度低于高温干粒；优选地，高温缎光釉和高温干粒的始融温度差值控制在40～60℃。
较佳地，所述干粒釉的施加方式为喷釉，比重为1.21～1.23g/cm3，施釉量为70～90g/m2。
较佳地，最高烧成温度为1200～1220℃，烧成周期为135～165min。
较佳地，所述制备方法还包括使烧成后陶瓷砖的干粒釉面上相邻干粒的间距接近等微米级分布的轻刷处理。
较佳地，所述细干粒岩板的釉面光泽度为6～8度。
附图说明
图1是轻刷前釉面的SEM图；
图2是轻刷后釉面的SEM图；
图3是轻刷前藏污测试放大150倍效果图，黑点为藏污；
图4是轻刷后藏污测试放大150倍效果图，黑点为藏污。
具体实施方式
通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。
以下示例性说明本发明所述细干粒岩板表面微光处理方法。
利用岩板基料压制成砖坯。所述岩板基料的化学组成不受限制，采用普通岩板基料即可。作为示例，所述岩板基料的化学组成可包括，以质量百分比计，烧失(IL)：4～5％、SiO2：54～66％、Al2O3：20～22％、Fe2O3：0.5～0.7％、TiO2：0.3～0.6％、CaO：0.3～0.5％、MgO：0.5～0.8％、K2O：2.8～3.2％、Na2O：2.5～3.2％。
将砖坯干燥。可采用干燥窑干燥。例如，干燥时间为0.5～1.1h，干燥后坯体的水分控制在0.5wt％以内。
在干燥后的砖坯表面施面釉。作用是遮盖坯体底色和瑕疵，促进喷墨图案发色，显现干粒釉的微光光泽效果。所述面釉的化学组成可包括：以质量百分比计：SiO2：53～55％、Al2O3：22～24％、碱土金属氧化物：0.4～0.6％、碱金属氧化物：6～9％、ZrO2：8～10％。例如，所述面釉的化学组成可包括：以质量百分比计：IL：3.5～4.5％、SiO2：53～55％、Al2O3：22～24％、Fe2O3：0.2～0.3％、TiO2：0.05～0.3％、CaO：0.2～0.3％、MgO：0.2～0.3％、K2O：4～5％、Na2O：2.5～3.5％、ZrO2：8～10％。
所述面釉的施加方式可为喷釉。面釉比重可为1.45～1.48g/cm3，施釉量可为280～400g/m2。
在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案。喷墨打印设计图案的纹理和颜色根据版面设计效果作出适应性变化。
在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施干粒釉。所述干粒釉的矿物组成包括：以质量百分比计，高温干粒13～18％；低温干粒3～5％；高温缎光釉1.5～2.5％。高温缎光釉也可以称为高始融点缎光釉。本发明的干粒釉无需哑光釉浆起到辅助悬浮及熔融作用，通过高温干粒、低温干粒和高温缎光釉的组合使得出窑后产品具有更加细腻的光泽度。一些实施方式中，所述干粒釉的原料组成包括：以质量百分比计，高温干粒13～18％；低温干粒3～5％；高温缎光釉1.5～2.5％；悬浮剂70～80％。所述悬浮剂的组成不受限制，采用本领域常用的釉料悬浮剂即可。
干粒釉的温度太低，会导致烧成后产品无法呈现细干粒面。引入高温干粒能够提高干粒釉温度，增加磨砂颗粒感。高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：56～58％、Al2O3：18～20％、碱土金属氧化物：13～17％、碱金属氧化物：4～6％、ZnO：3～4％。作为示例，所述高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.2～0.6％、SiO2：56～58％、Al2O3：18～20％、SrO：4～5％、CaO：3～4％、MgO：1～2％、K2O：3～4％、Na2O：1～2％、ZnO：3～4％、BaO：5～6％、Fe2O3：0.1～0.2％。上述高温干粒的始融温度为920～950℃。引入氧化锶能够增加釉料的熔融范围。
将干粒釉中高温干粒的质量百分比控制在13～18％的范围内，可以满足产品的光泽度及质感。高温干粒在干粒釉中的质量百分比低于13％，釉面光泽度偏高，釉面质感较差。高温干粒在干粒釉中的质量百分比高于18％，釉面光泽度太低，防污性能差。
低温干粒在烧成过程中与高温干粒形成相互补充叠加的堆积，有利于提高产品手感和光泽度的均匀性。低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：52～54％、Al2O3：16～18％、碱土金属氧化物：15～19％、碱金属氧化物：6～8％、ZnO：3～4％。作为示例，所述低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.3～0.7％、SiO2：52～54％、Al2O3：16～18％、SrO：3～4％、CaO：3～4％、MgO：0.1～0.5％、K2O：2～3％、Na2O：4～5％、ZnO：3～4％、BaO：9～10％、Fe2O3：0.1～0.2％。上述低温干粒的始融温度为900～930℃。
将干粒釉中低温干粒的质量百分比控制在3～5％的范围内，低温干粒可以更好地与高温干粒形成互相补充的作用，得到理想釉面效果。低温干粒在干粒釉中的质量百分比低于3％，釉面手感粗，放大后可以看到干粒堆积空洞较多，尤其是图案纹理为浅色的陶瓷产品吸污更加严重。低温干粒在干粒釉中的质量百分比高于5％，釉面整体光泽度偏高，釉面质感差。
在实验中发现，仅使用高温干粒或者仅使用低温干粒均无法得到理想的釉面效果。仅使用高温干粒则釉面光泽度偏哑，手感粗，防污效果差；仅使用低温干粒，则釉面光泽度偏亮，磨砂质感差。
一些实施方式中，所述高温干粒和低温干粒的质量比为2～6：1，优选4:1左右。本发明中高温干粒的用量明显高于低温干粒，这是由于本发明旨在形成细干粒面，所以干粒的颗粒级配较细，因此需要高占比的高温干粒才可以形成细腻质感、光泽度符合要求的细干粒面产品。
高温缎光釉的作用是在烧成过程中促使干粒之间良好地熔融，降低釉面孔隙率。高温缎光釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：49～51％、Al2O3：18～20％、碱土金属氧化物：19～22％、碱金属氧化物：4～6％。作为示例，所述高温缎光釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：6～8％、SiO2：49～51％、Al2O3：18～20％、CaO：9～10％、MgO：5～6％、K2O：1～2％、Na2O：3～4％、ZrO2：0.01～0.04％、BaO：5～6％、Fe2O3：0.1～0.2％。上述高温缎光釉的始融温度为870～900℃。
将干粒釉中高温缎光釉的质量百分比控制在1.5～2.5％的范围内，可以使釉面更加细腻而不失磨砂质感。高温缎光釉在干粒釉中的质量百分比低于1.5％，不利于防污，同时光泽度偏低。高温缎光釉在干粒釉中的质量百分比高于2.5％，出窑产品的釉面质感差。
作为优选，高温缎光釉的始融温度低于高温干粒。这样设计的目的是及时封闭釉层，阻止更多气体排出不当形成熔不平的针孔缺陷。作为优选，高温缎光釉和高温干粒的始融温度差值控制在40～60℃为宜。
所述高温缎光釉的釉面光泽度为12～16度，如此可以确保产品釉面保持微光效果。如果在干粒釉的组成中省略高温缎光釉，会出现釉面防污差，光泽度偏哑，质感不够柔和。
所述高温干粒和低温干粒的颗粒级配包括：以质量百分比计，200目以上0.1～2％、200～325目20～30％、325目以下70～80％。
所述干粒釉的施加方式为喷釉。例如采用五组喷嘴孔径为0.36mm的高压水刀机喷枪喷干粒釉。一些实施方式中，所述干粒釉的比重为1.21～1.23g/cm3，施釉量70～90g/m2。干粒釉的施釉量控制在此范围内能够同时均衡成本和釉面质感，利于大批量生产。
将施干粒釉的砖坯干燥。可采用电窑干燥。干燥温度控制在110～130℃，干燥后砖坯水分控制在0.5wt％以内。
烧成。可通过辊道窑高温慢烧。最高烧成温度为1200～1220℃，烧成周期为135～165min。慢烧能够满足岩板对切割性能以及坯釉结合性能的高要求，还促进干粒熔融，使产品光泽更加均匀细腻。
轻刷处理。轻刷处理使使烧成后陶瓷砖的干粒釉面上相邻干粒的间距接近等微米级分布。例如采用不同目数的纤维模块及不同压力的组合，调整皮带线速度和转盘转速对釉面进行轻刷处理。轻刷将不平整的干粒釉面处理成干粒之间接近等微米级间隙，产品不易藏污。本发明优先使用纤维模块组而非弹性模块，这样更利于控制光泽度在6～8度的范围，对釉层的保护作用更佳。
一个优选示例在成品出窑后先通过14组400目牙刷纤维模块轻刷岩板表面，去掉凸起的不均匀大颗粒，再通过6组400目压缩尼龙布拉纤维模块轻刷岩板表面，使釉面更加平滑，防污效果更好。此时压力为0.08～0.15Mpa，转盘转速为1200～1250r/min，皮带变频为13～14HZ。
另一优选示例中选用10组240目牙刷纤维模块和10组320目牙刷纤维模块组合也能够达到同样效果。压力为0.1～0.25Mpa，转盘转速为1300～1450r/min，皮带变频为14～16HZ。
本发明所述细干粒岩板表面微光处理方法获得的釉面光泽度为6～8度，灯光照射在釉面形成均匀的漫反射，可以营造舒适温馨的人居环境。釉面遇水还可形成近等大的吸盘效应，增加防滑性能。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
所述细干粒岩板表面微光处理方法包括以下步骤：
步骤1.将岩板基料压制成砖坯；
步骤2.将砖坯入干燥窑干燥，干燥时间0.5～1.1h，干燥坯水分控制在0.5wt％以内；
步骤3.在砖坯表面喷面釉，面釉比重为1.45～1.48g/cm3，施釉量为280～400g/m2；
步骤4.在喷面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；
步骤5.在喷墨打印设计图案后的砖坯表面喷干粒釉；所述干粒釉的原料组成包括：以质量百分比计，高温干粒13～18％；低温干粒3～5％；高温缎光釉1.5～2.5％；悬浮剂70～80％；所述高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.2～0.6％、SiO2：56～58％、Al2O3：18～20％、SrO：4～5％、CaO：3～4％、MgO：1～2％、K2O：3～4％、Na2O：1～2％、ZnO：3～4％、BaO：5～6％、Fe2O3：0.1～0.2％；所述低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.3～0.7％、SiO2：52～54％、Al2O3：16～18％、SrO：3～4％、CaO：3～4％、MgO：0.1～0.5％、K2O：2～3％、Na2O：4～5％、ZnO：3～4％、BaO：9～10％、Fe2O3：0.1～0.2％；所述高温缎光釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：6～8％、SiO2：49～51％、Al2O3：18～20％、CaO：9～10％、MgO：5～6％、K2O：1～2％、Na2O：3～4％、ZrO2：0.01～0.04％、BaO：5～6％、Fe2O3：0.1～0.2％；干粒釉的比重为1.21～1.23g/cm3，施釉量为70～90g/m2；
步骤6.将喷干粒釉后的砖坯干燥；采用电窑干燥，干燥温度控制在110～130℃，干燥后水分控制在0.5wt％以内；
步骤7.将干燥后的砖坯入辊道窑高温慢烧，最高烧成温度为1200～1220℃，烧成周期为135～165min；
步骤8.后加工轻刷处理。
图1为轻刷前釉面的SEM图。釉面呈现锯齿状，具有较多凸起的干粒，釉面藏污现象严重，光照射到釉面形成局部强反射，长时间观看对人眼造成视觉疲劳感。
图2为轻刷后釉面的SEM图。釉面质感细腻，既有缎光手感，又有磨砂颗粒釉面，增加了岩板的高级感。
对比例1
与实施例1基本相同，区别仅在于：将干粒釉中的干粒全部替换为高温干粒。干粒釉的温度过高，导致釉面偏粗，光泽度只有2～3度，釉面熔融效果差，吸污和藏污严重，质感不够细腻。
对比例2
与实施例1基本相同，区别仅在于：将干粒釉中的干粒全部替换为低温干粒。釉面光泽度达到9～12度，但是釉面因温度过低而失去磨砂颗粒质感。
对比例3
与实施例1基本相同，区别在于：所述干粒釉的组成不含高温缎光釉。在烧成过程中缺少作为干粒之间填充剂的高温缎光釉起到辅助熔融作用，釉面光泽度不均匀，吸污藏污现象严重。
对比例4
与实施例1基本相同，区别在于：所述干粒釉的原料组成包括：以质量百分比计，高温干粒7～9％；低温干粒9～12％；高温缎光釉3～4％；悬浮剂70～80％。由于低温干粒和高温缎光釉的含量过多，导致釉面的干粒质感完全丧失。

Claims (7)

1.一种细干粒岩板表面微光处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
利用岩板基料压制成砖坯；
在砖坯表面施面釉；
在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；
在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施干粒釉；所述干粒釉的矿物组成包括：以质量百分比计，高温干粒13~18%；低温干粒3~5%；高温缎光釉1.5~2.5%；
高温干粒的始融温度为920~950℃；所述高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.2~0.6%、SiO2：56~58%、Al2O3：18~20%、SrO：4~5%、CaO：3~4%、MgO：1~2%、K2O：3~4%、 Na2O：1~2%、ZnO：3~4%、BaO：5~6%、Fe2O3：0.1~0.2%；
低温干粒的始融温度为900~930℃；所述低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.3~0.7%、SiO2：52~54%、Al2O3：16~18%、SrO：3~4%、CaO：3~4%、MgO：0.1~0.5%、K2O：2~3%、Na2O：4~5%、ZnO：3~4%、BaO：9~10%、Fe2O3：0.1~0.2%；
高温缎光釉的始融温度为870~900℃；所述高温缎光釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：6~8%、SiO2：49~51%、Al2O3：18~20%、CaO：9~10%、MgO：5~6%、K2O：1~2%、Na2O：3~4%、ZrO2：0.01~0.04%、BaO：5~6%、Fe2O3：0.1~0.2%；
将施干粒釉后的砖坯烧成，获得表面微光的细干粒岩板。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：55~57%、Al2O3：17~19%、碱土金属氧化物：14~18%、碱金属氧化物：4~6%、ZnO：3~4%。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，高温缎光釉和高温干粒的始融温度差值控制在40~60℃。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述干粒釉的施加方式为喷釉，比重为1.21~1.23 g/cm3，施釉量为70~90 g/m2。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，最高烧成温度为1200~1220℃，烧成周期为135~165min。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述制备方法还包括使烧成后陶瓷砖的干粒釉面上相邻干粒的间距接近等微米级分布的轻刷处理。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述细干粒岩板的釉面光泽度为6~8度。
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