CN116931365A - 紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法。所述转印滚轮的制造方法包含：于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一图案转印内层；以及于所述图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，所述图案转印外层、所述图案转印内层、及所述金属滚筒共同构成所述转印滚轮。据此，通过形成有由所述氟化合物而构成的所述图案转印外层，以使得所述图案转印内层可采用紫外线曝光材质，并且所述转印滚轮所滚压的光学膜可以采用紫外线固化材质。

Description

紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法
技术领域
本发明涉及一种转印滚轮，尤其涉及一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法。
背景技术
如果现有转印滚轮的转印层采用紫外线曝光材质时，其所欲滚压转印的光学膜则需要避免采用紫外线固化材质，据以避免所述转印层于滚压所述光学膜固化时受到损伤而使其转印图案失真。于是，本发明人认为上述缺陷可改善，于是潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本发明。
发明内容
本发明实施例在于提供一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法，其能有效地改善现有转印滚轮所可能产生的缺陷。
本发明实施例公开一种紫外线光学膜的转印制造方法，其包括：
实施一滚轮制造步骤：制造一转印滚轮且其制造过程包含：于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在光阻层，以使光阻层构成一图案转印内层；及于图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，图案转印外层、图案转印内层、及金属滚筒共同构成转印滚轮；
实施一转印步骤：以转印滚轮的图案转印外层不间断地滚压于一紫外线光学膜上；其中，紫外线光学膜能被波长落在一预设光固化波段之内的紫外线所照射固化，并且曝光紫外线的预设曝光波长是落在预设光固化波段之内；
以及实施一固化步骤：以波长落在预设光固化波段之内的一固化紫外线来照射并固化被转印滚轮所滚压后的紫外线光学膜。
优选地，于固化步骤之中，转印滚轮受到固化紫外线的照射，以使图案转印内层的外表面产生裂痕；其中，形成有裂痕的外表面通过图案转印外层而维持其形状不变。
优选地，于滚轮制造步骤之中，构成图案转印外层的氟化合物进一步限定为聚四氟乙烯。
优选地，于滚轮制造步骤之中，图案转印外层是通过蒸镀而完整覆盖于图案转印内层的外表面上。
优选地，于固化步骤之中，照射于转印滚轮的固化紫外线能被图案转印外层反射至少70％。
优选地，预设曝光波长介于350纳米～450纳米，而预设光固化波段介于350纳米～410纳米。
优选地，金属滚筒是一铬金属滚筒或一铜金属滚筒，并且滚轮制造步骤之中未采用任何镍金属材质。
本发明实施例也公开一种转印滚轮的制造方法，其包括：
于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；
以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在光阻层，以使光阻层构成一图案转印内层；
以及于图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，图案转印外层、图案转印内层、及金属滚筒共同构成转印滚轮。
优选地，金属滚筒是一铬金属滚筒或一铜金属滚筒，并且转印滚轮的制造方法未采用任何镍金属材质。
优选地，构成图案转印外层的氟化合物进一步限定为聚四氟乙烯，并且图案转印外层能用来反射波段介于350纳米～410纳米且照射于转印滚轮的紫外线的至少70％。
综上所述，本发明实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法，其通过所述图案转印外层由所述氟化合物而构成，以使得所述图案转印外层在滚压所述紫外线光学膜之后，可以有效地使两者之间高压接触的成形表面彼此分离、且不会有相互影响或导致外型损毁的可能。
换个角度来说，于本发明实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法之中，通过形成有由所述氟化合物而构成的所述图案转印外层，以使得所述图案转印内层可采用紫外线曝光材质，并且所述转印滚轮所滚压的光学膜可以采用紫外线固化材质。
为能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，但是此等说明与附图仅用来说明本发明，而非对本发明的保护范围作任何的限制。
附图说明
图1为本发明实施例一的紫外线光学膜的转印制造方法的步骤流程示意图。
图2为图1中的涂布流程的示意图。
图3为图1中的图案化流程的示意图。
图4为图1中的图案化流程的另一态样示意图。
图5为图1中的图案化流程的过程示意图。
图6为图1中的成形流程的示意图。
图7为图6的区域VII的放大示意图。
图8为图1中的转印步骤与固化步骤的示意图。
图9为图8的区域IX的放大示意图。
图10为本发明实施例二的紫外线光学膜的转印制造方法的转印步骤与固化步骤的示意图。
具体实施方式
以下是通过特定的具体实施例来说明本发明所公开有关“紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本发明的优点与效果。本发明可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本发明的构思下进行各种修改与变更。另外，本发明的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本发明的保护范围。
应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件，或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
[实施例一]
请参阅图1至图9所示，其为本发明的实施例一。如图1所示，本实施例公开一种紫外线光学膜的转印制造方法，其依序包含有：一滚轮制造步骤S100、一转印步骤S200、及一固化步骤S300，但本发明不以此为限。举例来说，所述紫外线光学膜的转印制造方法也可以依据设计需求而增加相应的其他步骤。
需额外说明的是，所述滚轮制造步骤S100于本实施例中是以搭配于所述转印步骤S200及所述固化步骤S300来说明，但本发明不受限于此。举例来说，在本发明未绘示的其他实施例中，所述滚轮制造步骤S100可以视为一种转印滚轮的制造方法，进而被单独地实施或是搭配其他步骤来实施。以下接着介绍所述紫外线光学膜的转印制造方法的各个步骤S100～S300。
所述滚轮制造步骤S100：如图1搭配图2至图7所示，制造一转印滚轮100(如图6所示)且其制造过程依序包含有一涂布流程S110、一图案化流程S120、及一成形流程S130。需说明的是，所述滚轮制造步骤S100是通过实施上述多个流程S110～S130而达成，据以使所述滚轮制造步骤S100之中可以未采用任何镍金属材质，进而实现显著降低制造成本的效果。也就是说，采用镍金属的任何滚轮制造步骤皆非本实施例所指的所述滚轮制造步骤S100(或所述转印滚轮的制造方法)。
所述涂布流程S110：如图1和图2所示，于一金属滚筒1的外表面涂布有一光阻层2a。其中，所述金属滚筒1是一铬金属滚筒或一铜金属滚筒，并且所述金属滚筒1的长度较佳是大于1.5公尺(m)，而所述光阻层2a是采用正光阻剂，其能在经过曝光后，使得受到光照的部分将在显影时溶解，而显影后留下的是未受到曝光部分的图案。
再者，所述光阻层2a于本实施例中是覆盖于所述金属滚筒1的整个所述外表面，以形成无缝隙构造；也就是说，在垂直所述金属滚筒1长度方向的任一个横截面上，所述光阻层2a是呈圆形且无间隙地覆盖于所述金属滚筒1的整个所述外表面。
所述图案化流程S120：如图1和图3至图5所示，以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线L1通过光罩M或干涉而形成一预定光形，进而使其照射在所述光阻层2a，以使所述光阻层2a构成一图案转印内层2。于本实施例中，所述曝光紫外线L1所具有的所述预设曝光波长较佳是可以介于400纳米(nm)～410纳米。
再者，用来发出所述曝光紫外线L1的一曝光光源S1可以是能够发出介于350纳米～450纳米的至少一个发光二极管芯片，并且至少一个所述发光二极管芯片的种类包含有镭射二极管芯片，但该种类可依设计需求而加以调整变化，本发明不以此为限。所述光罩M可以是具备有渐层式分布的灰阶值，据以利于所述曝光紫外线L1穿过而形成所述预定光形。
进一步地说，如图3所示，所述曝光光源S1与所述光罩M的曝光范围于本实施例中可以是对应于所述金属滚筒1的局部长度范围，以使得所述曝光光源S1与所述光罩M能够在所述金属滚筒1自转时，自所述金属滚筒1的一端移动至另一端来进行曝光作业。
或者，如图4所示，所述曝光光源S1与所述光罩M的曝光范围于本实施例中也可以是对应于所述金属滚筒1的整个长度范围，以使得所述曝光光源S1与所述光罩M能够在所述金属滚筒1自转时，保持不动即可进行曝光作业。
所述成形流程S130：如图1、图6、及图7所示，于所述图案转印内层2的外表面21上形成有一图案转印外层3，其由氟化合物所构成，据以使所述图案转印外层3、所述图案转印内层2、及所述金属滚筒1能够共同构成所述转印滚轮100。此外，所述图案转印外层3是通过蒸镀(evaporation)而完整覆盖于所述图案转印内层2的所述外表面21上。
需额外说明的是，非为氟化合物所构成的任何转印层(尤其是金属材质的转印层)皆不同于本实施例所指的所述图案转印外层3。进一步地说，构成所述图案转印外层3的所述氟化合物于本实施例中较佳是限定为聚四氟乙烯(poly tetra fluoroethylene，PTFE)，但本发明不以此为限。
所述转印步骤S200：如图8所示，以所述转印滚轮100的所述图案转印外层3不间断地滚压于一紫外线光学膜200上。其中，所述紫外线光学膜200的选用须符合下述特性：能被波长落在一预设光固化波段之内的紫外线所照射固化，并且所述曝光紫外线L1的所述预设曝光波长是落在所述预设光固化波段之内。于本实施例中，所述预设光固化波段较佳是介于350纳米～410纳米，但本发明不受限于此。
据此，通过所述紫外线光学膜200的特性选用，由所述氟化合物构成的所述图案转印外层3在滚压所述紫外线光学膜200之后，可以有效地使两者之间高压接触的成形表面彼此分离、且较不会有相互影响或导致外型损毁的可能。换个角度来说，所述图案转印外层3与所述紫外线光学膜200的选用有其相互搭配的关系存在，所以不符合上述特性的任何光学膜皆不同于本实施例所指的所述紫外线光学膜200。
所述固化步骤S300：如图8和图9所示，以波长落在所述预设光固化波段之内的一固化紫外线L2来照射并固化被所述转印滚轮100所滚压后的所述紫外线光学膜200。其中，用来发出所述固化紫外线L2的一固化光源S2可以是能够发出介于350纳米～410纳米的至少一个发光二极管芯片，并且至少一个所述发光二极管芯片的种类包含有镭射二极管芯片，但该种类可依设计需求而加以调整变化，本发明不以此为限。
于本实施例中，基于所述图案转印外层3是由所述氟化合物所构成，所以照射于所述转印滚轮100的所述固化紫外线L2能被所述图案转印外层3反射至少70％，借以有效地避免所述图案转印内层2受到所述固化紫外线L2照射而产生损伤或裂解。
更进一步地说，如果所述转印滚轮100在受到所述固化紫外线L2的(长时间)照射时，还是容易使所述图案转印内层2的所述外表面21产生裂痕22。其中，形成有所述裂痕22的所述外表面21于本实施例中可以通过所述图案转印外层3而维持其形状不变；也就是说，所述图案转印外层3能够有效地接合位在所述裂痕22旁的所述图案转印内层2区块，以使所述图案转印外层3还是呈现预定外型，据以避免所述图案转印外层3于滚压所述紫外线光学膜200时产生失真。
依上所述，有鉴于所述图案转印外层3不但能够避免所述图案转印内层2受到所述固化紫外线L2照射而产生损伤，并且纵使所述图案转印内层2受到所述固化紫外线L2照射而产生裂痕，所述图案转印外层3还是能维持预定外型而避免转印图案失真，所以所述固化光源S2与所述曝光光源S1于本实施例中是可以依据设计需求而采用同一个光源，进而有效地降低整体的设备成本、并缩小设备所需占用的体积。
[实施例二]
请参阅图10所示，其为本发明的实施例二。由于本实施例类似于上述实施例一，所以两个实施例的相同处不再加以赘述(如：所述滚轮制造步骤S100)，而本实施例相较于上述实施例一的差异大致说明如下：
于本实施例中，所述转印步骤与所述固化步骤可以被同步实施。具体来说，所述固化光源S2可以被配置于所述紫外线光学膜200的下方，所以当所述紫外线光学膜200被所述转印滚轮100所滚压后，即可立即通过所述固化光源S2所发出的所述固化紫外线L2来进行固化，据以提升整体的生产效能。
更进一步地说，当所述转印步骤与所述固化步骤采用同步实施时，如何避免因为所述固化紫外线L2照射于所述转印滚轮100而导致转印图案失真则显得更为重要，所以由所述氟化合物所构成的所述图案转印外层3也因而更有其存在的必要性且与不可取代性。
[本发明实施例的技术效果]
综上所述，本发明实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法，其通过所述图案转印外层由所述氟化合物而构成，以使得所述图案转印外层在滚压所述紫外线光学膜之后，可以有效地使两者之间高压接触的成形表面彼此分离、且较不会有相互影响或导致外型损毁的可能。
换个角度来说，于本发明实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法之中，通过形成有由所述氟化合物而构成的所述图案转印外层，以使得所述图案转印内层可采用紫外线曝光材质，并且所述转印滚轮所滚压的光学膜可以采用紫外线固化材质。
再者，本发明实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法，其所采用的所述图案转印外层不但能够避免所述图案转印内层受到所述固化紫外线照射而产生损伤(如：所述图案转印外层能用来反射波段介于350纳米～410纳米且照射于所述转印滚轮的紫外线的至少70％)，并且纵使所述图案转印内层受到所述固化紫外线照射而产生裂痕，所述图案转印外层还是能维持预定外型而避免转印图案失真，据以有效地维持所述转印滚轮的滚压成形精度。
进一步地说，本发明实施例所公开的紫外线光学膜的转印制造方法，其所述固化光源与所述曝光光源更是可以依据设计需求而采用同一个光源，进而有效地降低整体的设备成本、并缩小设备所需占用的体积。
以上所公开的内容仅为本发明的优选可行实施例，并非因此局限本发明的专利范围，所以凡是运用本发明说明书及图式内容所做的等效技术变化，均包含于本发明的专利范围内。

Claims (10)

1.一种紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，所述紫外线光学膜的转印制造方法包括：
实施一滚轮制造步骤：制造一转印滚轮且其制造过程包含：
在一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；
以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一图案转印内层；及
在所述图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，所述图案转印外层、所述图案转印内层、及所述金属滚筒共同构成所述转印滚轮；
实施一转印步骤：以所述转印滚轮的所述图案转印外层不间断地滚压于一紫外线光学膜上；其中，所述紫外线光学膜能被波长落在一预设光固化波段之内的紫外线所照射固化，并且所述曝光紫外线的所述预设曝光波长是落在所述预设光固化波段之内；以及
实施一固化步骤：以波长落在所述预设光固化波段之内的一固化紫外线来照射并固化被所述转印滚轮所滚压后的所述紫外线光学膜。
2.根据权利要求1所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，在所述固化步骤之中，所述转印滚轮受到所述固化紫外线的照射，以使所述图案转印内层的所述外表面产生裂痕；其中，形成有所述裂痕的所述外表面通过所述图案转印外层而维持其形状不变。
3.根据权利要求1所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，在所述滚轮制造步骤之中，构成所述图案转印外层的所述氟化合物为聚四氟乙烯。
4.根据权利要求3所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，在所述滚轮制造步骤之中，所述图案转印外层是通过蒸镀而完整覆盖于所述图案转印内层的所述外表面上。
5.根据权利要求3所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，在所述固化步骤之中，照射于所述转印滚轮的所述固化紫外线能被所述图案转印外层反射至少70％。
6.根据权利要求1所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，所述预设曝光波长介于350纳米～450纳米，而所述预设光固化波段介于350纳米～410纳米。
7.根据权利要求1所述的紫外线光学膜的转印制造方法，其特征在于，所述金属滚筒是一铬金属滚筒或一铜金属滚筒，并且所述滚轮制造步骤之中未采用任何镍金属材质。
8.一种转印滚轮的制造方法，其特征在于，所述转印滚轮的制造方法包括：
在一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；
以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一图案转印内层；以及
于所述图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，所述图案转印外层、所述图案转印内层、及所述金属滚筒共同构成所述转印滚轮。
9.根据权利要求8所述的转印滚轮的制造方法，其特征在于，所述金属滚筒是一铬金属滚筒或一铜金属滚筒，并且所述转印滚轮的制造方法未采用任何镍金属材质。
10.根据权利要求8所述的转印滚轮的制造方法，其特征在于，构成所述图案转印外层的所述氟化合物为聚四氟乙烯，并且所述图案转印外层能用来反射波段介于350纳米～410纳米且照射于所述转印滚轮的紫外线的至少70％。
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