CN116759349B - 一种晶圆刻蚀清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种晶圆刻蚀清洗装置，晶圆刻蚀清洗装置包括：壳体，壳体设有第一容纳腔和第一开口，第一开口连通第一容纳腔；横向滑动组件，横向滑动组件设于壳体；纵向升降组件，纵向升降组件连接横向滑动组件；遮挡板组件，遮挡板组件连接纵向升降组件，且遮挡板组件滑动设于靠近第一开口的一侧；其中，纵向升降组件带动遮挡板组件沿壳体表面滑动，使遮挡板组件遮蔽第一开口，横向滑动组件带动纵向升降组件朝向第一开口横向滑动，使遮挡板组件贴合第一开口。本发明提高了晶圆刻蚀清洗时装置的气密性。

Description

一种晶圆刻蚀清洗装置
技术领域
本发明涉及晶圆刻蚀技术领域，具体而言，涉及一种晶圆刻蚀清洗装置。
背景技术
随着科学技术的发展，各种新型的技术层出不穷，在信息化时代的当下，各种半导体材料的出现让生活越来越便捷，因此对于半导体材料的生产的优化也日益重要。在半导体材料的晶圆的制作中，由于特征尺寸的减小，使得晶圆加工时，空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大，而随着洁净的提高，颗粒数也出现了新的数据特点，但现有技术中，加工晶圆时的装置气密性较差，无法对晶圆的加工提供更好的辅助。
发明内容
因此，本发明实施例提供一种晶圆刻蚀清洗装置，提高了晶圆刻蚀清洗时装置的气密性。
为解决上述问题，本发明提供一种晶圆刻蚀清洗装置，晶圆刻蚀清洗装置包括：壳体，壳体设有第一容纳腔和第一开口，第一开口连通第一容纳腔；横向滑动组件，横向滑动组件设于壳体；纵向升降组件，纵向升降组件连接横向滑动组件；遮挡板组件，遮挡板组件连接纵向升降组件，且遮挡板组件滑动设于靠近第一开口的一侧；其中，纵向升降组件带动遮挡板组件沿壳体表面滑动，使遮挡板组件遮蔽第一开口，横向滑动组件带动纵向升降组件朝向第一开口横向滑动，使遮挡板组件贴合第一开口。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置壳体上有第一开口和第一容纳腔，同时设置纵向升降组件上有遮挡板组件，通过纵向升降组件来推动遮挡板组件，进而使得遮挡板组件能遮蔽第一开口，使得晶圆在第一容纳腔内加工时不会被外部影响，同时增加气密性，再通过横向滑动组件连接纵向升降组件，使得横向升降组件带动纵向升降组件朝第一开口滑动，使纵向升降组件更靠近第一开口，进而使得连接在纵向升降组件上的遮挡板组件能更靠近第一开口，即在遮蔽第一开口的基础上，压紧第一开口，使得第一容纳腔内的气密性得到了更好的提升，保障晶圆刻蚀清洗时不会发生空气漏入第一容纳腔，导致晶圆加工品质出现问题而导致报废，进而提高成本的问题，而通过横向滑动组件以及纵向升降组件的配合，使得晶圆刻蚀清洗装置的气密性得到了极大的提升，因此保障了晶圆加工时的稳定性和气密性。
在本发明的一个实例中，横向滑动组件还包括：第一固定件，第一固定件设于壳体底部并靠近第一开口所在的一侧；第一动力件，第一动力件连接第一固定件；连接组件，连接组件连接第一动力件和纵向升降组件；其中，第一动力件带动连接组件横向滑动。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第一固定件在壳体底部并靠近第一开口所在的一侧，使得第一固定件不会影响外部的装置，在壳体底部使得壳体周围的空间利用率得到了提升，且靠近第一开口也使得横向滑动组件在促使纵向升降组件进行滑动时更加方便和顺畅，同时设置了第一动力件连接第一固定件，并在第一动力件上设置了连接组件，通过连接组件连接纵向升降组件，进而能使得第一动力件能带动纵向升降组件进行滑动，通过简单的结构来使得晶圆刻蚀清洗装置的气密性提升，降低了成本。
在本发明的一个实例中，连接组件还包括：第一连接部，第一连接部连接第一动力件；第二连接部，第二连接部连接第一连接部和纵向升降组件，且第二连接部相对于第一连接部弯折。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第一连接部连接在第一动力件上，同时设置第二连接部连接第一连接部并弯折，使得通过弯折能更好的利用壳体下方的空间，同时弯折也提高了连接组件的整体强度，保障横向滑动组件和纵向升降组件固定的稳定性，保障其能正常压紧第一开口，使得晶圆刻蚀清洗装置的气密性提升，进而使得晶圆的加工过程更加精密。
在本发明的一个实例中，纵向升降组件还包括：第二动力件，第二动力件连接第二连接部；第一支撑件，第一支撑件设于第二动力件靠近第一开口处的一侧，且第一支撑件连接遮挡板组件；其中，第二动力件带动第一支撑件朝第一开口升降，进而使遮挡板组件朝向第一开口升降。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第二动力件连接第二连接部，并且连接第一支撑件在第二动力件靠近第一开口的一侧，使得第二动力件能带动第一支撑件进行升降，同时使得连接在第一支撑件上的遮挡板组件能遮蔽第一开口，使得第二动力件带动遮挡板组件升降时更加稳定，保障遮挡板组件能顺畅快捷地遮蔽第一开口，进而保障第一容纳腔内的气密性，使得晶圆的加工过程更加安全和精密。
在本发明的一个实例中，纵向升降组件还包括：第二连接部与第二动力件二者的连接方式为面与面贴合。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第二连接部与第二动力件二者的连接方式为面与面贴合，使得第二连接部在拉动第二动力件横向滑动时，受力面积更大，进而使得拉动时更加稳定，也使得连接在第二动力件上方的遮挡板组件贴合第一开口时，压紧的效果更好，进而使得对第一容纳腔内的气密性保障更好，使得晶圆加工更加精密。
在本发明的一个实例中，纵向升降组件还包括：第一限位件，第一限位件设于第二动力件靠近第一支撑件的一侧；第一支撑件的至少部分位于第一限位件的正上方。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第一限位件，并且设置第一支撑件的至少部分位于第一限位件的正上方，使得遮挡板组件在升降时的位置受到限制，不会升降到影响其他组件，不会导致遮挡板组件损坏，进而无法进行后续遮挡第一开口的工作，使得晶圆的加工出现问题。
在本发明的一个实例中，遮挡板组件还包括：第二支撑件，第二支撑件连接纵向升降组件，且第二支撑件设有配合部，配合部用于和第一支撑件配合，使第二支撑件固定于第一支撑件上；遮蔽件，遮蔽件设于第一支撑件上靠近第一开口的一侧，且遮蔽件还贴合第二支撑件。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第二支撑件连接纵向升降组件，并且设置配合部和第一支撑件配合，使得第二支撑件在安装时更加方便，同时固定后也更加稳定，同时设置遮蔽件设于第一支撑件上，且遮蔽件还贴合第二支撑件，使得遮蔽件与第二支撑件之间更加紧密，进而使得第二支撑件在压紧遮蔽件时更加牢固，同时气密性也更好，压紧效果更加稳定。
在本发明的一个实例中，第一支撑件设有延长侧，延长侧被第二支撑件遮蔽，且遮蔽件设于延长侧上。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第一支撑件有延长侧，且延长侧被第二支撑件遮蔽，且遮蔽件设于延长侧上，使得遮蔽件整体能被更好的承接，同时在通过第一支撑件升降遮蔽件时也保证遮蔽件更加稳定，不会晃动，使其能更好的遮蔽第一开口，进而保障第一容纳腔内晶圆加工时良好的气密性。
在本发明的一个实例中，第二支撑件设有第一开槽，第一开槽内容纳至少部分第一支撑件；配合部设于第一开槽，且配合部相对于第二支撑件弯折设置。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置第一开槽在第二支撑件上，并且容纳至少部分第一支撑件，使得第一支撑件在抬升第二支撑件时更加稳定，同时设置配合部相对于第二支撑件弯折设置，使得第一支撑件在对配合部施加力时更加均匀稳定，保障第二支撑件和遮蔽件升降时的稳定性，进而保障压紧第一开口时良好的气密性。
在本发明的一个实例中，晶圆刻蚀清洗装置还包括：环形槽，环形槽围设于第一开口；遮挡板组件能完全遮蔽环形槽。
与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：通过设置环形槽围设于第一开口，且遮挡板组件能完全遮蔽环形槽，使得第一开口不会直接与外部接触，有环形槽能提供第二道气密性的保障，两层的保障使得第一容纳腔内的气密性更好。
采用本发明的技术方案后，能够达到如下技术效果：
（1）通过设置壳体上有第一开口和第一容纳腔，同时设置纵向升降组件上有遮挡板组件，通过纵向升降组件来推动遮挡板组件，进而使得遮挡板组件能遮蔽第一开口，使得晶圆在第一容纳腔内加工时不会被外部影响，同时增加气密性，再通过横向滑动组件连接纵向升降组件，使得横向升降组件带动纵向升降组件朝第一开口滑动，使纵向升降组件更靠近第一开口，进而使得连接在纵向升降组件上的遮挡板组件能更靠近第一开口，即在遮蔽第一开口的基础上，压紧第一开口，使得第一容纳腔内的气密性得到了更好的提升，保障晶圆刻蚀清洗时不会发生空气漏入第一容纳腔，导致晶圆加工品质出现问题而导致报废，进而提高成本的问题，而通过横向滑动组件以及纵向升降组件的配合，使得晶圆刻蚀清洗装置的气密性得到了极大的提升，因此保障了晶圆加工时的稳定性和气密性；
（2）通过设置第一连接部连接在第一动力件上，同时设置第二连接部连接第一连接部并弯折，使得通过弯折能更好的利用壳体下方的空间，同时弯折也提高了连接组件的整体强度，保障横向滑动组件和纵向升降组件固定的稳定性，保障其能正常压紧第一开口，使得晶圆刻蚀清洗装置的气密性提升，进而使得晶圆的加工过程更加精密；
（3）通过设置第一支撑件有延长侧，且延长侧被第二支撑件遮蔽，且遮蔽件设于延长侧上，使得遮蔽件整体能被更好的承接，同时在通过第一支撑件升降遮蔽件时也保证遮蔽件更加稳定，不会晃动，使其能更好的遮蔽第一开口，进而保障第一容纳腔内晶圆加工时良好的气密性；通过设置第一开槽在第二支撑件上，并且容纳至少部分第一支撑件，使得第一支撑件在抬升第二支撑件时更加稳定，同时设置配合部相对于第二支撑件弯折设置，使得第一支撑件在对配合部施加力时更加均匀稳定，保障第二支撑件和遮蔽件升降时的稳定性，进而保障压紧第一开口时良好的气密性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中待要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图；
图1为本发明实施例提供的一种晶圆刻蚀清洗装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种晶圆刻蚀清洗装置的局部结构示意图之一；
图3为本发明实施例提供的一种晶圆刻蚀清洗装置的局部结构示意图之二；
图4为本发明实施例提供的一种晶圆刻蚀清洗装置的局部结构示意图之三。
附图标记说明：
100为晶圆刻蚀清洗装置；110为壳体；111为第一容纳腔；112为第一开口；120为横向滑动组件；121为第一固定件；122为第一动力件；123为连接组件；124为第一连接部；125为第二连接部；130为纵向升降组件；131为第二动力件；132为第一支撑件；133为第一限位件；140为遮挡板组件；141为第二支撑件；142为配合部；143为遮蔽件；144为延长侧；145为第一开槽；150为环形槽。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
【第一实施例】
参见图1-图4，一种晶圆刻蚀清洗装置100，晶圆刻蚀清洗装置100包括：壳体110，壳体110设有第一容纳腔111和第一开口112，第一开口112连通第一容纳腔111；横向滑动组件120，横向滑动组件120设于壳体110；纵向升降组件130，纵向升降组件130连接横向滑动组件120；遮挡板组件140，遮挡板组件140连接纵向升降组件130，且遮挡板组件140滑动设于靠近第一开口112的一侧；其中，纵向升降组件130带动遮挡板组件140沿壳体110表面滑动，使遮挡板组件140遮蔽第一开口112，横向滑动组件120带动纵向升降组件130朝向第一开口112横向滑动，使遮挡板组件140贴合第一开口112。
具体的，在安装和使用晶圆刻蚀清洗装置100时，首选将横向滑动组件120安装至壳体110底部，通过第一固定件121安装至壳体110上，第一固定件121可为直角连接板，通过螺栓固定在壳体110底部靠近壳体110设有第一开口112的一侧下方，再将第一动力件122安装至第一固定件121上，第一动力件122可设置为气缸，并将气缸推杆的延伸方向设置为平行于壳体110底部，并朝向第一容纳腔111的方向，即朝向壳体110中心方向，使得后续在带动纵向升降组件130滑动时，使安装在纵向升降组件130上的遮挡板组件140中的遮蔽件143能将第一开口112压紧，气缸的行程和路径可根据需求提前设置完成。具体的，遮蔽件143可为弹性橡胶件，借助弹性橡胶的形变，使得遮蔽件143压紧第一开口112，进而使得气密性得到提高。
进一步的，在气缸推杆连接的滑动板上连接有连接组件123，连接组件123可通过螺栓固定在气缸的滑动板上，连接组件123的另一端，即第二连接部125连接固定有纵向升降组件130，纵向升降组件130的第二动力件131连接在第二连接部125上，具体可通过螺栓进行固定。
进一步的，第二动力件131也可为气缸，并将气缸的推杆方向设置为朝向第一开口112，并且进行垂直升降。在气缸的推杆处连接设有第一支撑件132，第一支撑件132通过螺栓固定在气缸上，通过气缸推杆推动进行升降，第一支撑件132设置在靠近壳体110设有第一开口112的一面，也可设置为贴合设有第一开口112的一面，具体可根据需求进行设置。
进一步的，在第一支撑件132与气缸配合面的对立面，安装有配合部142，配合部142，配合部142与第二支撑件141一体成型，可为钣金件，并与第一支撑件132螺栓固定连接，且第二支撑件141将第一支撑件132的延长侧144进行遮挡，使得第一支撑件132与第二支撑件141后方，即靠近第一开口112面的一侧具有一个容纳空间，此容纳空间用于安装遮蔽件143，使得遮蔽件143被保护，且不会受到外界影响，使其能更好的提供气密性的保障。
具体的，其中第一动力件122和第二动力件131可连接总控面板或者控制终端，进行统一控制以及控制代码的输入，可通过开关进行控制，也可实现自动控制，可根据需求进行设置。
具体的，在需要进行使用晶圆刻蚀清洗装置100时，首先开启纵向升降组件130，使得纵向升降组件130带动遮挡板组件140抬升，沿着壳体110设有第一开口112的一面，移动至遮挡板组件140完全遮蔽第一开口112停止，进而横向滑动组件120启动，带动纵向升降组件130朝向第一开口112进滑动，使得遮挡板组件140压紧第一开口112，即可实现对第一容纳腔111的密封，提高气密性。
优选的，通过设置壳体110上有第一开口112和第一容纳腔111，同时设置纵向升降组件130上有遮挡板组件140，通过纵向升降组件130来推动遮挡板组件140，进而使得遮挡板组件140能遮蔽第一开口112，使得晶圆在第一容纳腔111内加工时不会被外部影响，同时增加气密性，再通过横向滑动组件120连接纵向升降组件130，使得横向升降组件带动纵向升降组件130朝第一开口112滑动，使纵向升降组件130更靠近第一开口112，进而使得连接在纵向升降组件130上的遮挡板组件140能更靠近第一开口112，即在遮蔽第一开口112的基础上，压紧第一开口112，使得第一容纳腔111内的气密性得到了更好的提升，保障晶圆刻蚀清洗时不会发生空气漏入第一容纳腔111，导致晶圆加工品质出现问题而导致报废，进而提高成本的问题，而通过横向滑动组件120以及纵向升降组件130的配合，使得晶圆刻蚀清洗装置100的气密性得到了极大的提升，因此保障了晶圆加工时的稳定性和气密性。
具体的，横向滑动组件120还包括：第一固定件121，第一固定件121设于壳体110底部并靠近第一开口112所在的一侧；第一动力件122，第一动力件122连接第一固定件121；连接组件123，连接组件123连接第一动力件122和纵向升降组件130；其中，第一动力件122带动连接组件123横向滑动。
优选的，通过设置第一固定件121在壳体110底部并靠近第一开口112所在的一侧，使得第一固定件121不会影响外部的装置，在壳体110底部使得壳体110周围的空间利用率得到了提升，且靠近第一开口112也使得横向滑动组件120在促使纵向升降组件130进行滑动时更加方便和顺畅，同时设置了第一动力件122连接第一固定件121，并在第一动力件122上设置了连接组件123，通过连接组件123连接纵向升降组件130，进而能使得第一动力件122能带动纵向升降组件130进行滑动，通过简单的结构来使得晶圆刻蚀清洗装置100的气密性提升，降低了成本。
具体的，连接组件123还包括：第一连接部124，第一连接部124连接第一动力件122；第二连接部125，第二连接部125连接第一连接部124和纵向升降组件130，且第二连接部125相对于第一连接部124弯折。
优选的，通过设置第一连接部124连接在第一动力件122上，同时设置第二连接部125连接第一连接部124并弯折，使得通过弯折能更好的利用壳体110下方的空间，同时弯折也提高了连接组件123的整体强度，保障横向滑动组件120和纵向升降组件130固定的稳定性，保障其能正常压紧第一开口112，使得晶圆刻蚀清洗装置100的气密性提升，进而使得晶圆的加工过程更加精密。
具体的，纵向升降组件130还包括：第二动力件131，第二动力件131连接第二连接部125；第一支撑件132，第一支撑件132设于第二动力件131靠近第一开口112处的一侧，且第一支撑件132连接遮挡板组件140；其中，第二动力件131带动第一支撑件132朝第一开口112升降，进而使遮挡板组件140朝向第一开口112升降。
优选的，通过设置第二动力件131连接第二连接部125，并且连接第一支撑件132在第二动力件131靠近第一开口112的一侧，使得第二动力件131能带动第一支撑件132进行升降，同时使得连接在第一支撑件132上的遮挡板组件140能遮蔽第一开口112，使得第二动力件131带动遮挡板组件140升降时更加稳定，保障遮挡板组件140能顺畅快捷的遮蔽第一开口112，进而保障第一容纳腔111内的气密性，使得晶圆的加工过程更加安全和精密。
具体的，纵向升降组件130还包括：第二连接部125与第二动力件131二者的连接方式为面与面贴合。
优选的，通过设置第二连接部125与第二动力件131二者的连接方式为面与面贴合，使得第二连接部125在拉动第二动力件131横向滑动时，受力面积更大，进而使得拉动时更加稳定，也使得连接在第二动力件131上方的遮挡板组件140贴合第一开口112时，压紧的效果更好，进而使得对第一容纳腔111内的气密性保障更好，使得晶圆加工更加精密。
具体的，纵向升降组件130还包括：第一限位件133，第一限位件133设于第二动力件131靠近第一支撑件132的一侧；第一支撑件132的至少部分位于第一限位件133的正上方。
优选的，通过设置第一限位件133，并且设置第一支撑件132的至少部分位于第一限位件133的正上方，使得遮挡板组件140在升降时的位置受到限制，不会升降到影响其他组件，不会导致遮挡板组件140损坏，进而无法进行后续遮挡第一开口112的工作，使得晶圆的加工出现问题。
具体的，遮挡板组件140还包括：第二支撑件141，第二支撑件141连接纵向升降组件130，且第二支撑件141设有配合部142，配合部142用于和第一支撑件132配合，使第二支撑件141固定于第一支撑件132上；遮蔽件143，遮蔽件143设于第一支撑件132上靠近第一开口112的一侧，且遮蔽件143还贴合第二支撑件141。
优选的，通过设置第二支撑件141连接纵向升降组件130，并且设置配合部142和第一支撑件132配合，使得第二支撑件141在安装时更加方便，同时固定后也更加稳定，同时设置遮蔽件143设于第一支撑件132上，且遮蔽件143还贴合第二支撑件141，使得遮蔽件143与第二支撑件141之间更加紧密，进而使得第二支撑件141在压紧遮蔽件143时更加牢固，同时气密性也更好，压紧效果更加稳定。
具体的，第一支撑件132设有延长侧144，延长侧144被第二支撑件141遮蔽，且遮蔽件143设于延长侧144上。
优选的，通过设置第一支撑件132有延长侧144，且延长侧144被第二支撑件141遮蔽，且遮蔽件143设于延长侧144上，使得遮蔽件143整体能被更好的承接，同时在通过第一支撑件132升降遮蔽件143时也保证遮蔽件143更加稳定，不会晃动，使其能更好的遮蔽第一开口112，进而保障第一容纳腔111内晶圆加工时良好的气密性。
具体的，第二支撑件141设有第一开槽145，第一开槽145内容纳至少部分第一支撑件132；配合部142设于第一开槽145，且配合部142相对于第二支撑件141弯折设置。
优选的，通过设置第一开槽145在第二支撑件141上，并且容纳至少部分第一支撑件132，使得第一支撑件132在抬升第二支撑件141时更加稳定，同时设置配合部142相对于第二支撑件141弯折设置，使得第一支撑件132在对配合部142施加力时更加均匀稳定，保障第二支撑件141和遮蔽件143升降时的稳定性，进而保障压紧第一开口112时良好的气密性。
具体的，晶圆刻蚀清洗装置100还包括：环形槽150，环形槽150围设于第一开口112；遮挡板组件140能完全遮蔽环形槽150。
优选的，通过设置环形槽150围设于第一开口112，且遮挡板组件140能完全遮蔽环形槽150，使得第一开口112不会直接与外部接触，有环形槽150能提供第二道气密性的保障，两层的保障使得第一容纳腔111内的气密性更好。
【第二实施例】
在第一实施例的基础上，还可在遮蔽件143靠近第一开口112一侧设置弹性橡胶件，使得横向滑动组件120在带动遮蔽件143朝向第一开口112滑动时，使得遮蔽件143能压紧弹性橡胶件，使弹性橡胶件产生形变，进而使得第一开口112被弹性橡胶件密封，提高气密性。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (2)

1.一种晶圆刻蚀清洗装置，其特征在于，所述晶圆刻蚀清洗装置包括：
壳体(110)，所述壳体(110)设有第一容纳腔(111)和第一开口(112)，所述第一开口(112)连通所述第一容纳腔(111)；
横向滑动组件(120)，所述横向滑动组件(120)设于所述壳体(110)；所述横向滑动组件(120)还包括：
第一固定件(121)，所述第一固定件(121)设于所述壳体(110)底部并靠近所述第一开口(112)所在的一侧；
第一动力件(122)，所述第一动力件(122)连接所述第一固定件(121)；
连接组件(123)，所述连接组件(123)连接所述第一动力件(122)和纵向升降组件(130)；所述连接组件(123)还包括：
第一连接部(124)，所述第一连接部(124)连接所述第一动力件(122)；
第二连接部(125)，所述第二连接部(125)连接所述第一连接部(124)和所述纵向升降组件(130)，且所述第二连接部(125)相对于所述第一连接部(124)弯折；
其中，所述第一动力件(122)带动所述连接组件(123)横向滑动；
纵向升降组件(130)，所述纵向升降组件(130)连接所述横向滑动组件(120)；所述纵向升降组件(130)还包括：
第二动力件(131)，所述第二动力件(131)连接所述第二连接部(125)；
第一支撑件(132)，所述第一支撑件(132)设于所述第二动力件(131)靠近所述第一开口(112)处的一侧，且所述第一支撑件(132)连接遮挡板组件(140)；
其中，所述第二动力件(131)带动所述第一支撑件(132)朝所述第一开口(112)升降，进而使所述遮挡板组件(140)朝向第一开口(112)升降；
所述第二连接部(125)与所述第二动力件(131)二者的连接方式为面与面贴合；
遮挡板组件(140)，所述遮挡板组件(140)连接所述纵向升降组件(130)，且所述遮挡板组件(140)滑动设于靠近所述第一开口(112)的一侧；
第一限位件(133)，所述第一限位件(133)设于所述第二动力件(131)靠近所述第一支撑件(132)的一侧；
所述第一支撑件(132)的至少部分位于所述第一限位件(133)的正上方；
第二支撑件(141)，所述第二支撑件(141)连接所述纵向升降组件(130)，且所述第二支撑件(141)设有配合部(142)，所述配合部(142)用于和所述第一支撑件(132)配合，使所述第二支撑件(141)固定于所述第一支撑件(132)上；
遮蔽件(143)，所述遮蔽件(143)设于所述第一支撑件(132)靠近所述第一开口(112)的一侧，且所述遮蔽件(143)还贴合所述第二支撑件(141)；
所述第一支撑件(132)设有延长侧(144)，所述延长侧(144)被所述第二支撑件(141)遮蔽，且所述遮蔽件(143)设于所述延长侧(144)上；
所述第二支撑件(141)设有第一开槽(145)，所述第一开槽(145)内容纳至少部分所述第一支撑件(132)；所述配合部(142)设于所述第一开槽(145)，且所述配合部(142)相对于所述第二支撑件(141)弯折设置；
其中，所述纵向升降组件(130)带动所述遮挡板组件(140)沿所述壳体(110)表面滑动，使所述遮挡板组件(140)遮蔽所述第一开口(112)，所述横向滑动组件(120)带动所述纵向升降组件(130)朝向所述第一开口(112)横向滑动，使所述遮挡板组件(140)贴合所述第一开口(112)。
2.根据权利要求1所述的晶圆刻蚀清洗装置，其特征在于，所述晶圆刻蚀清洗装置还包括：
环形槽(150)，所述环形槽(150)围设于所述第一开口(112)；
所述遮挡板组件(140)能完全遮蔽所述环形槽(150)。
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