CN116530891A - 清洁***及其基站、清洁控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种清洁***及其基站、清洁控制方法，清洁***的基站包括：基站主体，基站主体内设置有一个上下水位，上下水位用于给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，清洁设备为主动清洁设备或被动清洁设备；至少一个第一供水接口，设于基站主体上并位于上下水位所在区域，第一供水接口用于与清洁设备的清水箱连通；至少一个第一排水接口，设于基站主体上并位于上下水位所在区域，第一排水接口用于与清洁设备的污水箱连通。本发明所提出的技术方案中，基站主体内设置有一个上下水位，该一个上下水位可给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，如此则无需一个清洁设备配置一个基站，从而减小清洁***对于室内空间的占用，同时可降低成本。

Description

清洁***及其基站、清洁控制方法

技术领域

本发明涉及清洁设备领域，特别涉及一种清洁***及其基站、清洁控制方法。

背景技术

当今的清洁设备逐渐进入家庭，替代人工对地板或地毯进行清扫及清洁，成为了人们生活中的好帮手。一般家用的清洁设备可分为移动式主动清洁设备和手持式被动清洁设备。

移动式主动清洁设备可具备清扫和清洁功能，比如可清扫粗颗粒脏污、发丝、纸屑等，将其扫入清洁设备携带的收集箱中，以及利用拖布对地面进行湿清洁以进一步清除细颗粒污物。移动式主动清洁设备可通过使用映射/导航***进行围绕地板表面的导航对地面进行智能化全自动清洁，无需人工干预。然而，基于其结构、体积以及技术的限制，移动式主动清洁设备对于较为顽固的污渍的清洁无法达到彻底清理的效果。

手持式被动清洁设备，也可具备清扫和清洁功能。且在清洁特定的顽固污渍表面的时候，通过控制信号的输入，通过自带的清洁液施加***向滚刷和/或待清洁表面施加清洁液，以软化该顽固的污渍，使其脱离表面，实现较好的清洁效果，是移动式自主清洁设备的良好补充。

无论是移动式自主清洁设备还是手持式被动清洁设备，均需要设置对应的基站来进行护理，这些护理包括，比如，垃圾清理、自清洁、加水、排水、烘干和/或充电，当用户同时配置主动清洁设备和被动清洁设备时，则需要为主动清洁设备和被动清洁设备分别配置对应基站，如此，导致室内配置的基站数量多，占据室内空间大，且配置基站整体所需成本较高。

上述内容仅用于辅助理解本申请的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

发明内容

本发明的主要目的在于提出一种清洁***的基站，旨在解决上述背景技术中所提出的技术问题。

为实现上述目的，本发明提出的清洁***的基站包括：

基站主体，所述基站主体内设置有一个上下水位，所述上下水位用于给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，所述清洁设备为主动清洁设备或被动清洁设备；

至少一个第一供水接口，设于所述基站主体上并位于所述上下水位所在区域，所述第一供水接口用于与所述清洁设备的清水箱连通；

至少一个第一排水接口，设于所述基站主体上并位于所述上下水位所在区域，所述第一排水接口用于与所述清洁设备的污水箱连通。

在一些实施例中，所述基站主体上设置有一个第一供水接口，所述第一供水接口用于与至少两个所述清洁设备中的任一个的清水箱连通。

在一些实施例中，所述基站主体上设置有至少两个第一供水接口，所述至少两个第一供水接口与所述至少两个清洁设备一一对应，每一所述第一供水接口用于与对应的一所述清洁设备的清水箱连通。

在一些实施例中，所述基站主体还设有第一供水通道和第一控水开关，所述第一供水通道的一端与水源连通，另一端与所述第一供水接口连通，所述第一控水开关设置在所述第一供水通道或所述第一供水接口，用于控制所述第一供水接口的通断和/或自所述第一供水接口流出的清水的流量。

在一些实施例中，所述清洁***的基站还包括第一水泵，所述第一水泵设置在所述基站主体，所述第一控水开关打开时，通过所述第一水泵将清水输送至所述清洁设备的清水箱中。

在一些实施例中，所述基站主体还设置有至少一组清洁剂组件，所述清洁剂组件包括清洁剂瓶和输液通道，所述输液通道的一端与所述清洁剂瓶的出液口连通，另一端与所述第一供水通道连通，所述清洁剂瓶中的清洁液通过所述输液通道输送至所述第一供水通道。

在一些实施例中，所述清洁剂组件还包括控液开关，所述控液开关设置在所述输液通道上，用于控制所述输液通道与所述第一供水通道之间的通断。

在一些实施例中，所述基站主体设有至少一个清水箱，所述至少一个清水箱设置在所述基站主体内，所述第一供水通道的一端与所述清水箱的出水口连通，另一端与所述第一供水接口连通。

在一些实施例中，所述基站主体设置有自清洁区域、第二供水接口和喷头，所述喷头位于所述自清洁区域，所述第二供水接口与所述喷头连通，所述清洁设备位于所述自清洁区域时，通过所述喷头朝向所述清洁设备喷水清洁。

在一些实施例中，所述自清洁区域包括多个子清洁区域，多个所述子清洁区域间隔设置，每一所述子清洁区域内设置有所述喷头，所述喷头通过第二供水通道与所述第二供水接口连通，所述第二供水通道上设置有第二控水开关；所述第二供水通道的一端与水源连通，另一端通过所述第二供水接口与所述喷头连通，所述第二控水开关设置在所述第二供水通道或所述喷头，用于控制所述喷头的通断和/或自所述喷头流出的清水的流量。

在一些实施例中，所述第二控水开关为多通阀门。

在一些实施例中，所述基站主体设有多个第三供水通道、多个第三控水开关和多个喷头，多个所述第三供水通道、多个所述第三控水开关和多个所述喷头一一对应，每一所述第三供水通道的一端与水源连通，另一端与一所述喷头连通，所述第三控水开关设于所述第三供水通道或喷头。

在一些实施例中，所述清洁***的基站还包括减压装置，所述减压装置设置在所述喷头与水源之间。

在一些实施例中，所述基站主体设置有一个第一排水接口，所述第一排水接口用于与至少两个所述清洁设备中的任一个的污水箱连通。

在一些实施例中，所述基站主体设置有至少两个第一排水接口，所述至少两个第一排水接口与所述至少两个清洁设备一一对应，每一所述第一排水接口用于与对应的一所述清洁设备的污水箱连通。

在一些实施例中，所述清洁***的基站还包括第一排水通道和第四控水开关，所述第一排水通道的一端与所述第一排水接口连通，所述第四控水开关设置在所述第一排水通道或所述第一排水接口，用于控制所述第一排水接口的通断和/或自所述第一排水接口流出的污水的流量。

在一些实施例中，所述清洁***的基站还包括第二水泵，所述第二水泵设置在所述基站主体内，所述第四控水开关打开时，通过所述第二水泵排出所述清洁设备的污水箱中的污水。

在一些实施例中，所述基站主体上设置有自清洁区域和第二排水接口，所述第二排水接口位于所述自清洁区域内，所述自清洁区域内的污水经所述第二排水接口排放。

在一些实施例中，所述清洁***的基站还包括至少一个污水箱，所述至少一个污水箱设置在所述基站主体内，所述第一排水通道的一端与所述污水箱的进水口连通，另一端与所述第一排水接口连通；和/或，所述第二排水接口通过第二排水通道与所述污水箱连通。

在一些实施例中，所述上下水位区域内设置有检测件，所述检测件用于检测所述至少两个清洁设备是否位于所述上下水位以及所述至少两个清洁设备的设备类型。

在一些实施例中，所述基站主体上设置有第一选择模块，所述第一选择模块用于供用户手动选择并确定各所述清洁设备的上下水优先级。

为实现上述目的，本发明进一步提出一种清洁***，所述清洁***包括前述记载的基站，该基站包括：

基站主体，所述基站主体内设置有一个上下水位，所述上下水位用于给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，所述清洁设备为主动清洁设备或被动清洁设备；

至少一个第一供水接口，设于所述基站主体上并位于所述上下水位所在区域，所述第一供水接口用于与所述清洁设备的清水箱连通；

至少一个第一排水接口，设于所述基站主体上并位于所述上下水位所在区域，所述第一排水接口用于与所述清洁设备的污水箱连通。

在一些实施例中，所述清洁设备的清水箱中设置有第一水位传感器，用于检测所述清洁设备的清水箱中的水位，所述清洁设备的清水箱中的水位低于预设值时对所述清洁设备于所述上下水位处加水，所述清洁设备的清水箱中的水位高于预设值时停止加水。

在一些实施例中，所述清洁设备的污水箱中设置有第二水位传感器，用于检测所述清洁设备的污水箱中的水位，所述清洁设备的污水箱中的水位高于预设值时对所述清洁设备于所述上下水位处排水，所述清洁设备的污水箱中的水排空时停止排水。

在一些实施例中，所述清洁设备的污水箱中设置有污水检测传感器，用于检测所述清洁设备的污水箱中的污水的脏污程度。

在一些实施例中，所述清洁设备上设置有第二选择模块，所述第二选择模块用于供用户手动选择并确定各所述清洁设备的上下水优先级。

为实现上述目的，本发明进一步提出一种清洁控制方法，应用于基站，所述基站包括基站主体和设于所述基站主体底端的清洁位，包括：

获取位于所述清洁位的当前清洁设备的第一信息，所述第一信息包括所述当前清洁设备的类型；

根据获取的第一信息确定自清洁模式，并以确定的自清洁模式对所述当前清洁设备进行自清洁护理。

在一些实施例中，所述根据获取的第一信息确定自清洁模式的步骤包括：

根据预先确定的类型与自清洁模式的映射关系，确定所述当前清洁设备的类型所对应的自清洁模式；

或，所述第一信息还包括所述当前清洁设备的清洁件的脏污程度，所述根据获取的第一信息确定自清洁模式的步骤包括：

根据预先确定的类型以及脏污程度与自清洁模式的映射关系，确定所述当前清洁设备的类型以及脏污程度所对应的自清洁模式。

在一些实施例中，所述清洁位包括一个自清洁区域，所述基站还包括供水组件和与所述供水组件连通的喷水组件，所述清洁位的自清洁区域设有至少一个喷水孔，所述喷水组件包括与各个所述喷水孔一一对接的喷头，以及与所述喷头一一对应的控水开关，每一所述控水开关控制与其对应的喷头；所述以确定的自清洁模式对所述当前清洁设备进行自清洁护理的步骤包括：

确定与所述确定的自清洁模式所对应的各个控水开关和清洁时长，控制确定的各个控水开关于所述清洁时长内持续打开；

或，所述清洁位包括至少两个自清洁区域，所述基站还包括供水组件和与所述供水组件连通的喷水组件，所述清洁位的每个自清洁区域设有至少一个喷水孔，所述喷水组件包括与各个所述喷水孔一一对接的喷头，以及与各个自清洁区域一一对应的多个控水开关，每一所述控水开关控制与其对应的自清洁区域的各个喷头；所述以确定的自清洁模式对所述当前清洁设备进行自清洁护理的步骤包括：

确定与所述确定的自清洁模式对应的控水开关和清洁时长，控制确定的控水开关于所述清洁时长内持续打开。

本发明所提出的技术方案中，基站主体内设置有一个上下水位，该一个上下水位可给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，如此则无需一个清洁设备配置一个基站，从而减小清洁***对于室内空间的占用，同时也可降低整个清洁***的成本。

附图说明

图1为本发明第一实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图2为本发明第二实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图3为本发明第三实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图4为本发明第四实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图5为本发明第五实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图6为本发明第六实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图7为本发明第七实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图8为本发明第八实施例中清洁***的基站的结构示意图；

图9为本发明第一实施例中自清洁装置的结构示意图；

图10为本发明第二实施例中自清洁装置的结构示意图；

图11为本发明第一实施例中清洁控制方法流程图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

还需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件上时，它可以直接在另一个元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被称为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接另一个元件或者可能同时存在居中元件。

另外，在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

请参见图1，本发明提出一种清洁***的基站，包括：

基站主体1，基站主体1内设置有一个上下水位2，上下水位2用于给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，清洁设备为主动清洁设备或被动清洁设备；

至少一个第一供水接口3，设于基站主体1上并位于上下水位2所在区域，第一供水接口3用于与清洁设备的清水箱连通；

至少一个第一排水接口4，设于基站主体1上并位于上下水位2所在区域，第一排水接口4用于与清洁设备的污水箱连通。

本实施例中，清洁设备包括清水箱和污水箱，清水箱中装有清洁地面时用的清水，污水箱中收集有清洁地面时产生的污水，清洁设备在进行清洁工作时，需要给清水箱中添加清水，同时也要将清水箱中的污水排出，以保证污水箱中有足够的容积收集污水。

本发明所提出的基站包括有基站主体1、一个上下水位2、至少一个第一供水接口3和至少一个第一排水接口4，该上下水位2能够给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，至少两个清洁设备可以全部为主动清洁设备，也可以全部为被动清洁设备，还可以部分为主动清洁设备，部分为被动清洁设备。至少两个清洁设备也可以为两个不同类型的清洁设备，第一供水接口3用于给清洁设备的清水箱供水，第二供水接口用于给清洁设备的污水箱排水。

其中，第一供水接口3可通过管道直接与室内的水龙头连接，也可在基站主体1内设置清水箱，第一供水接口3通过管道与清水箱连接。第一排水接口4可通过管道直接与室内的地漏连接，以将污水经由基站排至地漏中，也可在基站主体1内设置污水箱，第一排水接口4通过管道与污水箱连接，以将污水经由第一排水接口4排至基站的污水箱中。

本发明所提出的技术方案中，基站主体1内设置有一个上下水位2，该一个上下水位2可给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，如此则无需一个清洁设备配置一个基站，从而减小清洁***对于室内空间的占用，同时也可降低整个清洁***的成本。

在一些实施例中，请参见图1，本发明所提出的基站主体1上设置有一个第一供水接口3，第一供水接口3用于与至少两个清洁设备中的任一个的清水箱连通。

本实施例中，至少两个清洁设备的清水箱共用一个供水接口，至少两个清洁设备的清水箱的进水口均能够与第一供水接口3匹配，并且至少两个清洁设备的清水箱的进水口位置在放入基站后一致。比如，基站配置有两个清洁设备，分别为第一清洁设备和第二清洁设备，第一清洁设备的清水箱的进水口能够与第一供水接口3匹配，使得第一清洁设备的清水箱能够通过该第一供水接口3供水，第二清洁设备的清水箱的进水口也能够与该第一供水接口3匹配，使得第二清洁设备的清水箱能够通过该第二供水接口供水。

在一些实施例中，请参见图2，本发明所提出的基站主体1上设置有至少两个第一供水接口3，至少两个第一供水接口3与至少两个清洁设备一一对应，每一第一供水接口3用于与对应的一清洁设备的清水箱连通。

本实施例中，基站主体1上设置有多个不同的供水接口，每个供水接口对应一个清洁设备。比如，基站主体1上设置有三个第一供水接口3，分别为第一供水接口3A、第一供水接口3B和第一供水接口3C，三个第一供水接口3分别对应三个清洁设备，分别为第一清洁设备、第二清洁设备和第三清洁设备，当第一清洁设备进行供水时，通过第一供水接口3A与第一清洁设备的清水箱连通，当第二清洁设备进行供水时，通过第一供水接口3B与第二清洁设备的清水箱连通，当第三清洁设备进行供水时，通过第一供水接口3C与第三清洁设备的清水箱连通。

在一些实施例中，请参见图3，本发明所提出的基站主体1还设有第一供水通道5和第一控水开关6，第一供水通道5的一端与水源连通，另一端与第一供水接口3连通，第一控水开关6设置在第一供水通道5或第一供水接口3，用于控制第一供水接口3的通断和/或自第一供水接口3流出的清水的流量。

本实施例中，第一供水接口3通过第一供水通道5与水源连通，水源可以是基站主体1内存储的清水，也可以是基站主体1外的清水，本领域技术人员可根据实际情况进行设计。基站主体1给清洁设备供水时，可通过第一控水开关6控制第一供水接口3的通断，同时还可控制第一供水接口3的开度，也即自第一供水接口3流出的清水的流量大小。

在一些实施例中，请参见图3，本发明所提出的清洁***的基站还包括第一水泵7，第一水泵7设置在基站主体1，第一控水开关6打开时，通过第一水泵7将清水输送至清洁设备的清水箱中。

本实施例中，当需要对清洁设备供应清水时，先通过第一供水接口3与清洁设备的清水箱的进水口连通，而后再打开第一控水开关6，然后再通过第一水泵7将清水途径第一供水通道5抽吸至清洁设备的清水箱中。

在一些实施例中，请参见图4，本发明所提出的基站主体1还设置有至少一组清洁剂组件，清洁剂组件包括清洁剂瓶8和输液通道9，输液通道9的一端与清洁剂瓶8的出液口连通，另一端与第一供水通道5连通，清洁剂瓶8中的清洁液通过输液通道9输送至第一供水通道5。

本实施例中，清洁地面时会在清水中添加一定量的清洁剂，该清洁剂可直接在水源中添加，也可以在清水的流通水路中添加，本领域技术人员可根据实际情况进行设计。作为优选，本发明所提出的清洁剂通过输液通道9输送至第一供水通道5内，使得清洁剂在水路中与清水混合，形成清洁地面用的清洁液。

在一些实施例中，请参见图4，本发明所提出的清洁剂组件还包括控液开关10，控液开关10设置在输液通道9上，用于控制输液通道9与第一供水通道5之间的通断。

本实施例中，当控液开关10完全关闭时，输液通道9与第一供水通道5之间的通路被堵住，清洁剂无法进入到第一供水通道5中与清水混合形成清洁剂，当控液开关10完全打开时，输液通道9与第一供水通道5之间的通路被导通，清洁剂能够进入到第一供水通道5中与清水混合形成清洁剂。进一步的，本发明所提出的控液开关10还可控制输液通道9的出液口的开度，以控制从输液通道9的出液口流出的清洁剂的流量大小。可选地，本发明所提出的清洁剂瓶8倒置于基站主体1内，清洁瓶中的清洁剂在重力的作用下流入输液通道9。

在一些实施例中，请参见图3，本发明所提出的基站主体1设有至少一个清水箱20，至少一个清水箱20设置在基站主体1内，第一供水通道5的一端与清水箱20的出水口连通，另一端与第一供水接口3连通。

本实施例中，基站主体1内设置有清水箱20，该清水箱20用于存储清水，第一供水通道5的一端与该清水箱20连通，另一端与第一供水接口3连通，通过第一供水通道5将基站主体1内的清水箱20中的清水输送至清洁设备的清水箱20。

在一些实施例中，本发明所提出的基站主体1设置有自清洁区域、第二供水接口50和喷头30，喷头30位于自清洁区域，第二供水接口50与喷头30连通，清洁设备位于自清洁区域时，通过喷头30朝向清洁设备喷水清洁。

本实施例中，清洁设备包括清洁部件，比如抹布、滚刷或滚筒等，清洁部件清洁地面后需要进行自清洁。基于此，本发明在基站主体1内设置有自清洁区域、第二供水接口50和喷头30，喷头30通过第二供水接口50进行供水，喷头30位于自清洁区域内，以用于朝向自清洁区域喷射水束。具体的，当清洁设备位于自清洁区域时，通过第二供水接口50给喷头30供水，使得喷头30朝向清洁设备的清洁部件喷水，从而达到对于清洁设备的清洁部件的清洗目的。需要说明的是，自清洁区域形成于上下上位处，也即自清洁区域属于上下水位2的一部分。

在一些实施例中，请参见图5，本发明所提出的自清洁区域包括多个子清洁区域，多个子清洁区域间隔设置，每一子清洁区域内设置有喷头30，喷头30通过第二供水通道40与第二供水接口50连通，第二供水通道40上设置有第二控水开关60；第二供水通道40的一端与水源连通，另一端通过第二供水接口50与喷头30连通，第二控水开关60设置在第二供水通道40或喷头30，用于控制喷头30的通断和/或自喷头30流出的清水的流量。

本实施例中，自清洁区域包括有多个子清洁区域，多个子清洁区域间隔设置，每一个子清洁区域内都设置有喷头30，喷头30通过第二供水通道40与第二供水接口50连通。比如，子清洁区域和清洁设备均设置为三个，三个子清洁区域分别为第一子清洁区域、第二子清洁区域和第三子清洁区域，三个清洁设备分别为第一清洁设备、二清洁设备和第三清洁设备，当第一清洁设备位于自清洁区域时，通过第一子清洁区域内的喷头30对其进行自清洁，当第二清洁设备位于自清洁区域时，通过第二子清洁区域内的喷头30对其进行自清洁，当第三清洁设备位于自清洁区域时，通过第三子清洁区域内的喷头30对其进行自清洁。

进一步的，第二供水通道40或喷头30处设置有第二控水开关60，用于控制喷头30的通断和/或自喷头30流出的清水的流量。当需要对清洁设备进行自清洁时，先通过第二控水开关60打开第二供水通道40，而后再通过动力将清水经由第二供水通道40输送至喷头30，以供喷头30朝向清洁设备的清洁部件喷水。

在一些实施例中，请参见图6，本发明所提出的第二控水开关60为多通阀门。

在一些实施例中，请参见图7，本发明所提出的基站主体1设有多个第三供水通道70、多个第三控水开关80和多个喷头30，多个第三供水通道70、多个第三控水开关80和多个喷头30一一对应，每一第三供水通道70的一端与水源连通，另一端与一喷头30连通，第三控水开关80设于第三供水通道70或喷头30。

本实施例中，自清洁区域内设置有多个喷头30、多个第三供水通道70和多个第三控水开关80，每一个第三供水通道70的一端与水源连通，另一端与喷头30连通，每一个喷头30通过对应的第三供水通道70输送清水。作为优选，本发明所提出的每一个第三供水通道70或每一个第三控水开关80处设置有第三控水开关80，通过该第三控水开关80可控制第三供水通道70的通断和/或自喷头30流出的清水的流量大小。进一步的，通过调用不同的第三控水开关80，可以对不同的清洁设备进行清洗，因为不同的清洁设备占用的喷水口不同。

在一些实施例中，本发明所提出的清洁***的基站还包括减压装置，减压装置设置在喷头30与水源之间。

本实施例中，在喷头30与水源之间设置有减压装置，以减小水压冲击。进一步的，减压装置可以内置，也可以外置，本领域技术人员可根据实际情况进行设计，其中内置与外置是以基站主体1作为参考。可选地，发明所提出的减压装置具体为减压阀。

在一些实施例中，请参见图1，本发明所提出的基站主体1设置有一个第一排水接口4，第一排水接口4用于与至少两个清洁设备中的任一个的污水箱连通。

本实施例中，至少两个清洁设备的污水箱共用一个排水接口，至少两个清洁设备的污水箱的出水口均能够与第一排水接口4匹配，并且至少两个清洁设备的污水箱的出水口位置在放入基站后一致。比如，基站配置有两个清洁设备，分别为第一清洁设备和第二清洁设备，第一清洁设备的污水箱的出水口能够与第一排水接口4匹配，使得第一清洁设备的污水箱能够通过该第一排水接口4供水，第二清洁设备的污水箱的出水口也能够与该第一排水接口4匹配，使得第二清洁设备的污水箱能够通过该第二排水接口供水。

在一些实施例中，请参见图2，本发明所提出的基站主体1设置有至少两个第一排水接口4，至少两个第一排水接口4与至少两个清洁设备一一对应，每一第一排水接口4用于与对应的一清洁设备的污水箱连通。

本实施例中，基站主体1上设置有多个不同的排水接口，每个排水接口对应一个清洁设备。比如，基站主体1上设置有三个第一排水接口4，分别为第一排水接口4A、第一排水接口4B和第一排水接口4C，三个第一排水接口4分别对应三个清洁设备，分别为第一清洁设备、第二清洁设备和第三清洁设备，当第一清洁设备进行排水时，通过第一排水接口4A与第一清洁设备的污水箱连通，当第二清洁设备进行排水时，通过第一排水接口4B与第二清洁设备的污水箱连通，当第三清洁设备进行排水时，通过第一排水接口4C与第三清洁设备的污水箱连通。

在一些实施例中，请参见图8，本发明所提出的清洁***的基站还包括第一排水通道90和第四控水开关10A，第一排水通道90的一端与第一排水接口4连通，第四控水开关10A设置在第一排水通道90或第一排水接口4，用于控制第一排水接口4的通断和/或自第一排水接口4流出的污水的流量。

本实施例中，第一排水接口4通过第一排水通道90进行污水排放，第一排水通道90的一端与第一排水接口4连通，另一端用于与室内的地漏连通，以将清洁设备所收集的污水直接排放至地漏中，或者另一端用于与基站主体1内设置的污水箱连通，以将清洁设备所收集的污水排放至基站主体1内的污水箱中。

进一步的，在第一排水通道90或第一排水接口4处设置有第四控水开关10A，通过第四控水开关10A可控制第一排水接口4的通断和/或自第一排水接口4流出的污水的流量。

在一些实施例中，请参见图8，本发明所提出的清洁***的基站还包括第二水泵10B，第二水泵10B设置在基站主体1内，第四控水开关10A打开时，通过第二水泵10B排出清洁设备的污水箱中的污水。

本实施例中，当需要对清洁设备排放污水时，先通过第一排水接口4与清洁设备的污水箱的排水口连通，而后再打开第四控水开关10A，然后再通过第二水泵10B将污水途径第一排水通道90抽吸至基站主体1的污水箱中。

在一些实施例中，本发明所提出的基站主体1上设置有自清洁区域和第二排水接口，第二排水接口位于自清洁区域内，自清洁区域内的污水经第二排水接口排放。

本实施例中，基站主体1设置有自清洁区域和第二排水接口，清洁设备清洁地面后需要对其清洁部件进行清洗，当清洁设备位于自清洁区域时，通过清水箱20供给的清水对清洁设备的清洁部件进行清洗，清洗后所产生的污水将经由第二排水接口进行排放，该污水可经由第二排水接口排放至基站主体1内的污水箱中，也可排放至室内的地漏中，本领域技术人员可根据实际情况进行设计。

在一些实施例中，请参见图8，本发明所提出的清洁***的基站还包括至少一个污水箱10C，至少一个污水箱10C设置在基站主体1内，第一排水通道90的一端与污水箱10C的进水口连通，另一端与第一排水接口4连通；和/或，第二排水接口通过第二排水通道与污水箱10C连通。

本实施例中，污水箱10C用于收集清洁设备的污水箱10C中的污水以及清洁设备进行自清洁时所产生的污水，该污水箱10C设置在基站主体1内。第一排水通道90的一端与污水箱10C连通，另一端与第一排水接口4连通，清洁设备所收集的污水经由第一排水接口4后通过第一排水通道90排放至基站主体1的污水箱10C中。第二排水通道的一端与第二排水接口连通，另一端与污水箱10C连通，清洁设备自清洁时所产生的污水经由第二排水接口后通过第二排水接口排放至基站主体1的污水箱10C中。

在一些实施例中，本发明所提出的上下水位2区域内设置有检测件，检测件用于检测至少两个清洁设备是否位于上下水位2以及至少两个清洁设备的设备类型。

本实施例中，在水下水位区域内设置有检测件，通过该检测件可实时检测上下水位2处是否有需要进行上下水护理的清洁设备，当检测到清洁设备位于上下水位2区域时，再进一步检测该清洁设备的类型，比如主动清洁设备或被动清洁设备。

在一些实施例中，本发明所提出的基站主体1上设置有第一选择模块，第一选择模块用于供用户手动选择并确定各清洁设备的上下水优先级。

本实施例中，在基站主体1上设置有第一选择模块，用户可通过该第一选择模块在基站主体1上手动选择并确定各清洁设备的上下水优先级。比如，清洁设备设置为三个，分别为第一清洁设备、第二清洁设备和第三清洁设备，当用户在第一选择模块上确定对第二清洁设备进行上下水护理时，基站主体1将发送相应的指令给第二清洁设备，第二清洁设备在接收到指令后移动至上下水区域进行上下水护理。若在用户选择对第二清洁设备进行上下水之前，第一清洁设备已位于上下水区域进行上下水护理，待用户选择并确定对第二清洁设备进行上下水护理时，基站主体1会先发送一个指令给第一清洁设备，以使得第一清洁设备从上下水区域移出，而后再发送另一个指令给第二清洁设备，使得第二清洁设备移动至上下水区域。

本发明进一步提出的一种清洁***包括基站，该基站的具体结构参照上述实施例，由于本清洁***采用了上述所有实施例的所有技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的全部技术效果，在此不再一一赘述。

在一些实施例中，本发明所提出的清洁设备的清水箱20中设置有第一水位传感器，用于检测清洁设备的清水箱20中的水位，清洁设备的清水箱20中的水位低于预设值时对清洁设备于上下水位2处加水，清洁设备的清水箱20中的水位高于预设值时停止加水。

在一些实施例中，清洁设备的污水箱10C中设置有第二水位传感器，用于检测清洁设备的污水箱10C中的水位，清洁设备的污水箱10C中的水位高于预设值时对清洁设备于上下水位2处排水，清洁设备的污水箱10C中的水排空时停止排水。

在一些实施例中，本发明所提出的清洁设备的污水箱10C中设置有污水检测传感器，用于检测清洁设备的污水箱10C中的污水的脏污程度。

在一些实施例中，本发明所提出的清洁设备上设置有第二选择模块，第二选择模块用于供用户手动选择并确定各清洁设备的上下水优先级。

本实施例中，在清洁设备上设置有第二选择模块，用户可通过该第二选择模块在清洁设备上手动选择并确定各清洁设备的上下水优先级。比如，清洁设备设置为三个，分别为第一清洁设备、第二清洁设备和第三清洁设备，当用户在第二选择模块上确定对第二清洁设备进行上下水护理时，清洁设备将移动至上下水区域进行上下水护理。若在用户选择对第二清洁设备进行上下水之前，第一清洁设备已位于上下水区域进行上下水护理，待用户选择并确定对第二清洁设备进行上下水护理时，第二清洁设备会先发送一个指令给第一清洁设备或基站主体1，以使得第一清洁设备从上下水区域移出，待第一清洁设备移出后，第二清洁设备移动至上下水区域。

本发明进一步提出一种自清洁装置，请参见图9-10，包括第一托盘100，第一托盘100上设有至少两种清洗结构，各种清洗结构分别适配于不同类型的清洁设备的清洁件自清洁。该至少两种清洗结构包括适配于第一清洁设备的清洁件自清洁的第一清洗结构Q，以及适配于第二清洁设备的清洁件自清洁的第二清洗结构G；即第一清洗结构Q用于给第一清洁设备的清洁件自清洁时使用，第二清洗结构G用于给第二清洁设备的清洁件自清洁时使用。本实施例的图中以第一托盘100上仅设置第一清洗结构Q和第二清洗结构G这两种清洗结构为例；当然，在其它实施例中，第一托盘100上还可以设置更多种清洗结构。

本实施例中，第一清洁设备和第二清洁设备为不同种类型的两种清洁设备；例如，第一清洁设备可为清洁机器人以及一切自主清洁的设备，第二清洁设备可为手持设备以及带有手柄的所有清洁设备，手持设备包括蒸汽拖把、洗地机、吸尘器、拖把以及扫把；又例如，第一清洁设备包括手持设备及带有手柄的所有清洁设备，手持设备包括蒸汽拖把、洗地机、吸尘器、拖把以及扫把，第二清洁设备包括清洁机器人以及一切自主清洁的设备。

本实施例的自清洁装置通过在第一托盘100上设置多种(两种或以上)清洗结构，各种清洗结构分别适配于不同种类型的清洁设备的清洁件自清洁，安装了本实施例自清洁装置的基站，可兼容供多种不同类型的清洁设备的清洁件自清洁使用，在用户为室内同时配置有多种清洁设备时，仅需一个安装配备了本实施例自清洁装置的基站，就能够满足配置的多种清洁设备的自清洁需求。因此，当用户为室内同时配置了清洁机器人和手持清洁设备这两种清洁设备时，只需配置一个安装了本实施例自清洁装置的基站，基站通过自清洁装置的第一托盘100上的第一清洗结构Q和第二清洗结构G，分别满足清洁机器人的清洁件自清洁需求和手持清洁设备的清洁件自清洁需求，减少室内所需配置的基站数量，降低整个清洁***(包括基站和配置的多种清洁设备)配置基站所需成本，并减小了基站对室内的占用空间。

在一些实施例中，第一托盘100包括一个自清洁区域S，至少两种清洗结构均设于自清洁区域S。参阅图9，图中示出了两种清洗结构设于一个自清洁区域S的情形；当然，图中仅是以两种清洗结构设于一个自清洁区域S为例，在其他的实施例中，还可以为更多种清洗结构设于一个自清洁区域S。本实施例通过将多种清洗结构设置在同一个自清洁区域S，共用一个自清洁区域S，可大幅减小第一托盘100的尺寸，减小自清洁装置对基站的空间占用，进一步也减小了基站的整体尺寸，从而达到进一步减小基站对室内空间的占用的效果。

在一些实施例中，第一托盘100包括至少两个自清洁区域S，每一自清洁区域S设置一清洗结构。参阅图10，图中示出了两个清洁结构分别设于两个自清洁区域S的情形；当然，图中仅是以两个自清洁区域S为例，在其他的实施例中，还可以为更多个自清洁区域S。本实施例通过将各种清洗结构分别设置在各自的自清洁区域S，使各种清洗结构的设置互不干扰，每种清洗结构都能给对应的清洁设备的清洁件最佳的自清洁效果。

在一些实施例中，第一托盘100的每个自清洁区域S内均设有至少一个用于供水的喷水孔。自清洁装置安装在基站上使用时，基站通过各个自清洁区域S的喷水孔分别为各个自清洁区域S供水，以为清洁设备的清洁件在自清洁区域S中自清洁时供水。

参阅图9，在本实施例中，第一托盘100仅包括一个自清洁区域S，第一清洗结构Q和第二清洗结构G均设于该自清洁区域S；第一清洗结构Q包括凸起部01和槽部02，槽部02半包围的设置在凸起部01周侧，且凸起部01设有若干凸点D；第二清洗结构G从第一清洗结构Q的一侧延伸到第一清洗结构Q的另一侧，第二清洗结构G位于第一清洗结构Q中。当清洁设备的清洁件(例如拖布)在第一清洗结构Q上自清洁时，通过凸起部01上的凸点D对清洁件的刮擦作用，使清洁件上的污渍和垃圾可以更快的被刮擦掉落在槽部02中，自清洁更快、效果更佳。第二清洗结构G从第一清洗结构Q的一侧延伸到另一侧，用于供较长尺寸的清洁件的自清洁(例如滚刷)。

参阅图10，在本实施例中，第一托盘100包括两个自清洁区域S，一个自清洁区域S设置第一清洗结构Q，另一个自清洁区域S设置第二清洗结构G；其中，第一清洗结构Q包括凸起部01和槽部02，槽部02半包围的设置在凸起部01周侧，且凸起部01设有若干凸点D。当清洁设备的清洁件(例如拖布)在第一清洗结构Q上自清洁时，通过凸起部01上的凸点D对清洁件的刮擦作用，使清洁件上的污渍和垃圾可以更快的被刮擦掉落在槽部02中，自清洁更快、效果更佳。第二清洗结构G与第一清洗结构Q相邻设置，保持第一托盘100上的结构设计的紧凑性，使第一托盘100的尺寸不会过大。

进一步地，在一些实施例中，第一清洁设备为清洁机器人，第一清洗结构Q包括并排的第一子清洗结构Q1和第二子清洗结构Q2，第一子清洗结构Q1和第二子清洗结构Q2均包括凸起部01和槽部02；第一子清洗结构Q1和第二子清洗结构Q2分别对应给清洁机器人的两个并排清洁件(例如拖布)自清洁。第二清洁设备为手持式清洁设备，第二清洗结构G包括用于容纳第二清洁设备的滚刷的第二冲洗槽。

在一些实施例中，自清洁装置还包括第二托盘，第一托盘100设于第二托盘中，第一托盘100与第二托盘之间设有集水腔，第一托盘100设有与集水腔连通的漏水孔K，第二托盘设有与集水腔连通的排水孔。在自清洁使用过程中，第一托盘100上清洗产生的污水会从漏水孔K落入到集水腔中，使清洁件的自清洁过程中不会被使用过的污水二次污染，能更快的完成自清洁，从而提升自清洁效率和减少用水量。集水腔中积存的水可在自清洁过程中经排水孔同步回收到基站的污水箱10C中，或在自清洁完成后，在经排水孔回收到基站的污水箱10C中。

在一些实施例中，第一托盘100与第二托盘采用可拆卸连接，通过可拆卸连接的方式，更加方便第一托盘100与第二托盘拆装，以便定期清理第一托盘100和集水腔中积存的垃圾或污染物；并且，在第一托盘100或第二托盘损坏或破损时，可单独更换新的第一托盘100或新的第二托盘，降低更换成本。

在一些实施例中，第一托盘100与第二托盘也可以为一体成型，减少自清洁装置的部件数量，方便基站生产时，自清洁装置的安装，安装效率更高。

请参见图11，本发明进一步提出一种清洁控制方法，应用于基站，基站包括基站主体1和设于基站主体1底端的清洁位，其特征在于，包括：

步骤S10，获取位于清洁位的当前清洁设备的第一信息，第一信息包括当前清洁设备的类型；

当检测到清洁位中有清洁设备在位，例如，通过清洁位中设置的在位检测装置进行检测，则获取位于清洁位的当前清洁设备的第一信息，该第一信息包括该当前清洁设备的类型；位于清洁位的当前清洁设备可以是从清洁位的侧向出入口进入清洁位中的第一清洁设备，也可以是从容纳槽进入清洁位的第二清洁设备；清洁设备的类型至少包括清洁机器人和手持清洁设备。其中，第一信息也可以由清洁为中设置的在位检测装置识别得到，该在位检测装置可为传感器组件，例如传感器组件包括检测清洁位是否有清洁设备在位的第一传感器和检测位于清洁位的清洁设备的类型的第二传感器。

步骤S20，根据获取的第一信息确定自清洁模式，并以确定的自清洁模式对当前清洁设备进行自清洁护理。

在获取到当前清洁设备的第一信息后，根据获取的第一信息确定与该第一信息对应的自清洁模式，基站则以该确定的自清洁模式对当前清洁设备进行自清洁护理。自清洁模式可包括控水开关信息、清洁时间、供水流量等至少一项参数信息；不同类型的清洁设备对应不同的自清洁模式，不同的自清洁模式，其包含的各项参数信息不同。

本实施例的自清洁方法，通过获取位于清洁位中的当前清洁设备的第一信息，根据第一信息确定对应的自清洁模式以对当前清洁设备进行自清洁护理，实现针对不同清洁设备，以对应的自清洁模式进行护理，更加智能的适用于对多种清洁设备的护理。

在一些实施例中，根据获取的第一信息确定自清洁模式的步骤包括：

根据预先确定的类型与自清洁模式的映射关系，确定当前清洁设备的类型所对应的自清洁模式。

基站中存储有类型与自清洁模式的映射关系表，在获取了位于清洁位中的当前清洁设备的类型后，通过该映射关系表即可确定当前清洁设备的类型所对应的自清洁模式。

在一些实施例中，第一信息还包括当前清洁设备的清洁件的脏污程度，根据获取的第一信息确定自清洁模式的步骤包括：

根据预先确定的类型以及脏污程度与自清洁模式的映射关系，确定当前清洁设备的类型以及脏污程度所对应的自清洁模式。

当前清洁设备的清洁件的脏污程度(也即为洁净度)，可以是当前清洁设备自检(例如当前清洁设备上具有检测清洁件的脏污程度的传感器)反馈的脏污程度信息，也可以是清洁位中设置的脏污检测传感器或洁净度检测传感器检测获得。基站中存储有类型以及脏污程度这两者与自清洁模式的映射关系表，即一类型和一脏污程度两项信息的组合对应一种自清洁模式，在获取了位于清洁位中的当前清洁设备的类型和脏污程度后，通过该映射关系表即可确定当前清洁设备的类型及脏污程度所对应的自清洁模式。

在一些实施例中，清洁位包括一个自清洁区域，基站还包括供水组件和与供水组件连通的喷水组件，清洁位的自清洁区域设有至少一个喷水孔，喷水组件包括与各个喷水孔一一对接的喷头30，以及与喷头30一一对应的控水开关，每一控水开关控制与其对应的喷头30；以确定的自清洁模式对当前清洁设备进行自清洁护理的步骤包括：

确定与确定的自清洁模式所对应的各个控水开关和清洁时长，控制确定的各个控水开关于清洁时长内持续打开。

或，清洁位包括至少两个自清洁区域，基站还包括供水组件和与供水组件连通的喷水组件，清洁位的每个自清洁区域设有至少一个喷水孔，喷水组件包括与各个喷水孔一一对接的喷头30，以及与各个自清洁区域一一对应的多个控水开关，每一控水开关控制与其对应的自清洁区域的各个喷头30；以确定的自清洁模式对当前清洁设备进行自清洁护理的步骤包括：

确定与确定的自清洁模式对应的控水开关和清洁时长，控制确定的控水开关于清洁时长内持续打开。

不同的自清洁模式包含的参数信息不同，参数信息中包含控水开关信息和清洁时长信息，从确定的自清洁模式包含的参数信息中，确定出需要打开的各个控水开关和控水开关的打开时长(即清洁时长)，控制确定的各个控水开关在确定的清洁时长内持续保持打开。

当然，在其他实施例中，以确定的自清洁模式对当前清洁设备进行自清洁护理还可以是其他清洁方式。

以上的仅为本发明的部分或优选实施例，无论是文字还是附图都不能因此限制本发明保护的范围，凡是在与本发明一个整体的构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明保护的范围内。

Claims (10)

1.一种清洁***的基站，其特征在于，包括：

基站主体，所述基站主体内设置有一个上下水位，所述上下水位用于给至少两个清洁设备供应清水和/或排放污水，所述清洁设备为主动清洁设备或被动清洁设备；

至少一个第一供水接口，设于所述基站主体上并位于所述上下水位所在区域，所述第一供水接口用于与所述清洁设备的清水箱连通；

至少一个第一排水接口，设于所述基站主体上并位于所述上下水位所在区域，所述第一排水接口用于与所述清洁设备的污水箱连通。

2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，

所述基站主体还设有第一供水通道和第一控水开关，所述第一供水通道的一端与水源连通，另一端与所述第一供水接口连通，所述第一控水开关设置在所述第一供水通道或所述第一供水接口，用于控制所述第一供水接口的通断和/或自所述第一供水接口流出的清水的流量。

3.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，

所述基站主体还设置有至少一组清洁剂组件，所述清洁剂组件包括清洁剂瓶和输液通道，所述输液通道的一端与所述清洁剂瓶的出液口连通，另一端与所述第一供水通道连通，所述清洁剂瓶中的清洁液通过所述输液通道输送至所述第一供水通道。

4.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，

所述基站主体设置有自清洁区域、第二供水接口和喷头，所述喷头位于所述自清洁区域，所述第二供水接口与所述喷头连通，所述清洁设备位于所述自清洁区域时，通过所述喷头朝向所述清洁设备喷水清洁。

5.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，

还包括第一排水通道和第四控水开关，所述第一排水通道的一端与所述第一排水接口连通，所述第四控水开关设置在所述第一排水通道或所述第一排水接口，用于控制所述第一排水接口的通断和/或自所述第一排水接口流出的污水的流量。

6.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，

所述基站主体上设置有自清洁区域和第二排水接口，所述第二排水接口位于所述自清洁区域内，所述自清洁区域内的污水经所述第二排水接口排放。

7.一种清洁***，其特征在于，包括清洁设备和如权利要求1-6任一项所述的基站。

8.一种清洁控制方法，应用于基站，所述基站包括基站主体和设于所述基站主体底端的清洁位，其特征在于，包括：

获取位于所述清洁位的当前清洁设备的第一信息，所述第一信息包括所述当前清洁设备的类型；

根据获取的第一信息确定自清洁模式，并以确定的自清洁模式对所述当前清洁设备进行自清洁护理。

9.根据权利要求8所述的清洁控制方法，其特征在于，所述根据获取的第一信息确定自清洁模式的步骤包括：

根据预先确定的类型与自清洁模式的映射关系，确定所述当前清洁设备的类型所对应的自清洁模式；

或，所述第一信息还包括所述当前清洁设备的清洁件的脏污程度，所述根据获取的第一信息确定自清洁模式的步骤包括：

根据预先确定的类型以及脏污程度与自清洁模式的映射关系，确定所述当前清洁设备的类型以及脏污程度所对应的自清洁模式。

10.根据权利要求8所述的清洁控制方法，其特征在于，所述清洁位包括一个自清洁区域，所述基站还包括供水组件和与所述供水组件连通的喷水组件，所述清洁位的自清洁区域设有至少一个喷水孔，所述喷水组件包括与各个所述喷水孔一一对接的喷头，以及与所述喷头一一对应的控水开关，每一所述控水开关控制与其对应的喷头；所述以确定的自清洁模式对所述当前清洁设备进行自清洁护理的步骤包括：

确定与所述确定的自清洁模式所对应的各个控水开关和清洁时长，控制确定的各个控水开关于所述清洁时长内持续打开；

或，所述清洁位包括至少两个自清洁区域，所述基站还包括供水组件和与所述供水组件连通的喷水组件，所述清洁位的每个自清洁区域设有至少一个喷水孔，所述喷水组件包括与各个所述喷水孔一一对接的喷头，以及与各个自清洁区域一一对应的多个控水开关，每一所述控水开关控制与其对应的自清洁区域的各个喷头；所述以确定的自清洁模式对所述当前清洁设备进行自清洁护理的步骤包括：

确定与所述确定的自清洁模式对应的控水开关和清洁时长，控制确定的控水开关于所述清洁时长内持续打开。