CN116018258A - 导电性层叠体及使用其的光学装置、导电性层叠体的制造方法 - Google Patents

导电性层叠体及使用其的光学装置、导电性层叠体的制造方法 Download PDF

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CN116018258A CN202180052567.1A CN202180052567A CN116018258A CN 116018258 A CN116018258 A CN 116018258A CN 202180052567 A CN202180052567 A CN 202180052567A CN 116018258 A CN116018258 A CN 116018258A
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Abstract

本发明提供兼顾低电阻和高透过率的导电性层叠体以及提供具备该导电性层叠体的各种光学元件、导电性层叠体的制造方法。导电性层叠体(1)在透明基材(2)的至少1面上从透明基材(2)侧起依次层叠有第一金属氧化物层(3)、金属层(4)和第二金属氧化物层(5)，第一金属氧化物层(3)的透明基材侧(2)的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。例如，导电性层叠体(1)中，第一金属氧化物层(3)的透明基材(2)侧的界面为透明基材(2)的表面。另外，在透明基材(2)与第一金属氧化物层(3)之间进一步具备树脂层(6)的导电性层叠体(1A)中，第一金属氧化物层(3)的透明基材(2)侧的界面为树脂层(6)的表面。

Description

导电性层叠体及使用其的光学装置、导电性层叠体的制造方法
技术领域
本技术涉及用于例如触摸面板、调光元件、电泳型光学元件、发光元件、天线等的导电性层叠体。本申请是以2020年9月4日在日本申请的日本专利申请号特愿2020-149487、以及2021年8月9日在日本申请的日本专利申请号特愿2021-130412为基础而主张优先权的申请，这些申请通过参照而引用于本申请。
背景技术
导电性膜等导电性层叠体被广泛利用于显示器、触摸面板、电致变色器件等，要求为高透明且低电阻。作为导电性膜，例如广泛使用ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)膜。
但是，ITO膜虽然能够通过使用光学调整层等而使全光线透过率为88％以上的高透明，但电阻值为100Ω/□左右，不能说是低电阻。另外，ITO膜也存在使用具有毒性的材料(铟)的问题。
因此，利用金属氧化物层等透明薄膜材料夹持金属层(例如膜厚5～30nm左右的由银或银合金构成的金属薄膜)而成的层叠型的导电薄膜(导电性层叠体)受到关注。导电性层叠体通过调整膜厚，例如能够使电阻值为5～30Ω/□左右、并且使全光线透过率为90％以上，因此，例如作为PDP(Plasma Display Panel：等离子体显示面板)的电磁屏蔽件在玻璃表面成膜而使用。
例如，在专利文献1中，记载了用多个金属氧化物层(添加铝的氧化锌)夹着作为银系薄膜层的银-钯合金的结构的透明导电性层叠体，另外，记载了该透明导电性层叠体的可见光透过率为78％。
这样，若在玻璃上形成用金属氧化物夹持以银为主要成分的金属层而成的透明导电性层叠体，则可得到高透过且低电阻。但是，若将这样的导电性层叠体在膜上成膜，则与在玻璃上成膜时相比，会失去透明性，电阻值也有上升的倾向。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2017/170673号
发明内容
发明所要解决的课题
本技术是鉴于这样的现有实际情况而提出的，提供一种兼顾低电阻和高透过率的导电性层叠体以及具备该导电性层叠体的各种光学元件、导电性层叠体的制造方法。
用于解决课题的方法
本申请发明人等进行了深入研究，结果发现，在从透明基材侧起依次层叠有第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层的导电性层叠体中，通过使第一金属氧化物层的透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为特定值以下，能够兼顾低电阻和高透过率，从而完成了本发明。
即，本技术涉及的导电性层叠体在透明基材的至少1面上从透明基材侧起依次层叠有第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层，第一金属氧化物层的透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。
本技术涉及的光学装置使用上述导电性层叠体作为电极中的至少一个极。
本技术涉及的导电性层叠体的制造方法具有在透明基材的至少1面上从透明基材侧起依次层叠第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层的工序，第一金属氧化物层的透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。
发明效果
根据本技术，能够抑制在导电性层叠体的各界面处的光吸收层的生成，因此能够提供兼顾低电阻和高透过率的导电性层叠体。
附图说明
[图1]图1是示意性示出应用了本技术的导电性层叠体的构成例的截面图。
[图2]图2是示意性示出应用了本技术的导电性层叠体的构成例的截面图。
[图3]图3是示出薄膜形成装置的内部构成例的立体图。
具体实施方式
以下，参照附图对应用了本技术的导电性层叠体以及使用该导电性层叠体的光学装置、导电性层叠体的制造方法进行详细说明。需要说明的是，显然，本技术不仅限于以下实施例，在不脱离本技术的宗旨的范围内，可以进行各种修改。另外，附图是示意图，各尺寸的比率等有时会与现实不同。具体的尺寸等应参考以下的说明进行判断。另外，在附图彼此之间当然也包括彼此的尺寸关系、比率不同的部分。
[导电性层叠体]
＜第一实施方式＞
图1是示意性示出应用了本技术的导电性层叠体1的构成例的截面图。如图1所示，导电性层叠体1在透明基材2的至少1面上从透明基材2侧起依次层叠有第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5。另外，导电性层叠体1中，第一金属氧化物层3的透明基材2侧的界面的算术平均粗糙度(Ra)为2.0nm以下。
用于显示器、电致变色器件等的导电性膜要求兼顾低电阻和高透过率。在此，若将使用金属氧化物层夹持金属层(例如银等金属薄膜)而成的多层膜在例如适于辊对辊法的透明基材(例如导电性膜等树脂膜)上成膜，则与在玻璃上成膜的情况相比，存在电阻值、透过率均劣化的倾向。
因此，在本技术中，通过将第一金属氧化物层3的透明基材2侧的界面的算术平均粗糙度设为2.0nm以下，从而即使在将第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5层叠在膜上时，也可与层叠在玻璃上时同样地得到兼顾低电阻和高透过率的导电性层叠体。
认为这是因为，通过将第一金属氧化物层3的透明基材2侧的界面的算术平均粗糙度设为2.0nm以下，能够抑制承担导电性的金属薄膜(第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5)发生凝聚地局部化而不形成连续膜，能够抑制表面电阻值的上升、光吸收的增大。
这样，根据导电性层叠体1，能够降低表面电阻值(电阻值)，能够提高全光线透过率，例如，能够使表面电阻值为10Ω/□以下且全光线透过率为90％以上。表面电阻值和全光线透过率的测定方法与后述的实施例的测定方法同样。
导电性层叠体1能够应用于省电、高性能的光学装置，例如将导电性层叠体用作电极中的至少一个极的触摸面板、调光元件、电泳型光学元件、发光元件、天线、显示器材料、电致变色器件、电磁屏蔽材料等。
以下，对导电性层叠体1的层构成的具体例进行说明。
＜透明基材＞
透明基材2中与第一金属氧化物层3接触的表面的算术平均粗糙度为2.0nm以下，可以为1.5nm以下，也可以为1.0nm以下。透明基材2中与第一金属氧化物层3接触的表面的算术平均粗糙度的下限值没有特别限定，例如可以设为0.01nm以上，也可以为0.1nm以上。
作为透明基材2，例如可以使用由玻璃、树脂膜中的任一种构成的基材。在使用树脂膜作为透明基材2的情况下，可以通过辊对辊法来制造，因此能够提高生产效率。
作为这样的树脂膜的材料，没有特别限定，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET：Polyethylene Terephthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN：PolyethyleneNaphthalate)、聚芳酰胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、三乙酰纤维素(TAC：Triacetylcellulose)、聚环烯烃(COC：Cyclic Olefin Copolymer；COP：Cyclic OlefinCopolymer)等。
透明基材2的厚度没有特别限定，考虑到使用树脂膜时的制造中的操作容易性和构件薄型化，优选设为20～200μm。
在导电性层叠体1中，透明基材2无需透光率为100％，只要在发挥本技术的效果的范围内为透明即可，例如，透光率优选为90％以上。
需要说明的是，从进一步提高透明基材2的耐摩擦性的观点出发，可以通过溶液涂布在透明基材2的两面形成例如基于丙烯酸系树脂的薄膜。
＜第一金属氧化物层＞
第一金属氧化物层3只要是由金属氧化物构成的层就没有特别限定，例如可以由含有锌的氧化物(锌氧化物)或含有锌的复合氧化物构成。作为第一金属氧化物层3，例如可举出锌与锡的复合氧化物。锌与锡的复合氧化物中，锡的比率例如相对于锌与锡的合计量可以设为10～90原子％。另外，第一金属氧化物层3也可以在相对于锌和锡的合计量不超过50原子％的范围内进一步含有1种或多种锌和锡以外的其他元素。
第一金属氧化物层3也可以由不含锌的金属氧化物构成。第一金属氧化物层3可以由与金属层4的相互作用小的物质的氧化物构成。例如，在金属层4以银为主要成分的情况下，第一金属氧化物层3可以由Nb、Ti、Zr、Hf、Ta、W、Mo等与银的相互作用小的物质的氧化物构成。
作为第一金属氧化物层3的具体例，可举出由氧化锌锡(ZTO：Zinc Tin Oxide)、Nb2O5构成的层。
第一金属氧化物层3的厚度没有特别限定，可以根据材料构成设定为透过率最高的膜厚。作为第一金属氧化物层3的具体厚度，例如可以设为30～80nm。
关于第一金属氧化物层3的形成方法，没有特别限定，从提高生产效率的观点、使膜厚分布均匀化的观点出发，优选使用溅射法。
从防湿性的观点出发，第一金属氧化物层3可以分为多个层而形成。在该情况下，多个第一金属氧化物层3中至少与金属层4接触的层优选由含有锌的氧化物或含有锌的复合金属氧化物构成。
＜金属层＞
层叠于第一金属氧化物层3上的金属层4例如可以由以银为主要成分的金属层构成。例如，金属层4可以含有90原子％以上的银，并且在整体不超过10原子％的范围内进一步含有添加元素。即，金属层4例如可以由90原子％以上的银或纯银构成。
金属层4的厚度没有特别限定，优选为5nm以上。通过使金属层4的厚度为5nm以上，容易形成为连续膜，能够更有效地抑制因构成金属层4的金属(例如银)岛状化而产生的吸收。金属层4的厚度的上限没有特别限定，优选小于15nm。通过使金属层4的厚度小于15nm，与界面处的吸收相比，能够更有效地抑制构成金属层4的金属(例如银)的层内部的光吸收变大。
金属层4的形成方法没有特别限定，优选在形成金属层4后连续地形成第二金属氧化物层5。另外，从提高生产效率的观点、使膜厚分布均匀化的观点出发，金属层4优选使用溅射法形成。
＜第二金属氧化物层＞
层叠于金属层4上的第二金属氧化物层5例如与上述第一金属氧化物层3同样地，可以由含有锌的氧化物(锌氧化物)或含有锌的复合氧化物构成。
从光学特性、导电性、化学稳定性的观点出发，第二金属氧化物层5可以在不超过50原子％的范围内进一步含有1种或多种锌以外的其他元素。从进一步提高导电性的观点出发，第二金属氧化物层5优选含有铝和镓中的至少1种，更优选铝掺杂氧化锌(AZO：Aluminum doped Zinc Oxide)。在第二金属氧化物层5含有铝和镓中的至少1种的情况下，第二金属氧化物层5优选含有2原子％以上的铝和镓中的至少1种，更优选含有2原子％以上的铝。在第二金属氧化物层5中，铝和镓的合计量的上限值没有特别限定，例如可以设为15原子％以下，可以为12原子％以下，可以为10原子％以下，可以为8原子％以下，也可以为5原子％以下。特别是，第二金属氧化物层5优选由含有锌且含有2原子％以上的铝的复合金属氧化物构成。
第二金属氧化物层5的厚度没有特别限定，可以根据材料构成设定为透过率最高的膜厚。作为第二金属氧化物层5的具体厚度，例如可以设为30～70nm。
第二金属氧化物层5的形成方法没有特别限定，优选在形成金属层4后连续地形成。另外，从提高生产效率的观点、使膜厚分布均匀化的观点出发，第二金属氧化物层5优选使用溅射法形成。
从耐擦伤性的观点出发，第二金属氧化物层5可以分为多个层而形成。在该情况下，多个第二金属氧化物层5中至少与金属层4接触的层优选由含有锌的氧化物或含有锌的复合金属氧化物构成。另外，为了保持良好的导电性，多个第二透明材料层5中与金属层4接触的层以外的其他层优选由具有导电性的透明氧化物构成。
需要说明的是，图1所示的导电性层叠体1中，在透明基材2的一面依次层叠有第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5，也可以在透明基材2的另一面或透明基材2的两面依次层叠有第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5。
＜第二实施方式＞
图2是示意性示出应用了本技术的导电性层叠体1A的构成例的截面图。如图2所示，导电性层叠体1A在透明基材2与第一金属氧化物层3之间进一步具备树脂层6，第一金属氧化物层3的透明基材2侧的界面为树脂层6的表面。即，导电性层叠体1A中，在透明基材2的至少1面上从透明基材侧2起依次层叠有树脂层6、第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5，第一金属氧化物层3的透明基材2侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。这样，树脂层6的第一金属氧化物层3侧的表面的算术平均粗糙度为2.0nm以下，可以为1.5nm以下，可以为1.0nm以下，也可以为0.7nm以下。树脂层6的第一金属氧化物层3侧的表面的算术平均粗糙度的下限值没有特别限定，例如可以设为0.01nm以上，也可以为0.1nm以上。另外，树脂层6的第一金属氧化物层3侧的表面的算术平均粗糙度例如可以为0.3～2.0nm的范围，也可以为0.7～2.0nm的范围。
树脂层6可以含有填料，也可以不含填料。填料例如是金属氧化物形成为粒子状而得的物质。在树脂层6含有填料的情况下，出于容易将第一金属氧化物层3的透明基材2侧的界面、即树脂层6的表面的算术平均粗糙度调整为2.0nm以下的理由，填料的平均粒径例如可以设为50nm以下，可以为15～50nm的范围。例如，从树脂层6与第一金属氧化物层3的密合性、树脂层6与透明基材2的密合性的观点出发，填料的平均粒径可以设为800nm以下，也可以设为20～100nm，还可以设为30～70nm。在此，平均粒径是指通过BET法测定的值。
作为填料的具体例，可列举SiO2(二氧化硅)、Al2O3(氧化铝)、TiO2(二氧化钛)、ZrO2(氧化锆)、CeO2(二氧化铈)、MgO(氧化镁)、ZnO、Ta2O5、Sb2O3、SnO2、MnO2等。其中，例如，从获得更高透过率的观点出发，优选二氧化硅。作为市场上可获得的具体例，例如可列举日产化学公司制造的商品名“IPA-ST-L”(硅溶胶)、“IPA-ST”(硅溶胶)。另外，出于提高与树脂的密合性、亲和性的目的，可以在填料的表面导入丙烯酰基、环氧基等官能团。
在树脂层6含有填料的情况下，树脂层6中的填料含量(填料密度)例如可以设为5wt％以上，可以为10wt％以上，可以为20wt％以上，可以为25wt％以上，也可以为30wt％以上。另外，在树脂层6含有填料的情况下，出于容易将树脂层6的表面的算术平均粗糙度调整为2.0nm以下的理由，树脂层6中的填料含量例如可以设为35wt％以下，可以为10～35wt％的范围，也可以为15～32wt％的范围。
树脂层6例如可以由紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂、热固型树脂、热塑型树脂、二液混合型树脂等构成。从能够通过紫外线照射高效地形成的观点出发，树脂层6优选使用紫外线固化型树脂。
作为紫外线固化型树脂，例如可列举丙烯酸系、氨基甲酸酯系、环氧系、聚酯系、酰胺系、有机硅系等。其中，从得到高透明性的观点出发，优选使用丙烯酸系的紫外线固化型树脂。
丙烯酸系的紫外线固化型树脂没有特别限定，可以鉴于硬度、密合性、加工性等，从2官能或3官能以上的多官能丙烯酸系的单体、低聚物、聚合物成分等中适当选择使用。
作为2官能的丙烯酸酯成分的具体例，可举出聚乙二醇(600)二丙烯酸酯、二羟甲基-三环癸烷二丙烯酸酯、双酚AEO改性二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、丙氧基化双酚A二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇(200)二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇(400)二丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯等。作为市场上可获得的具体例，例如可列举Sartomer公司制造的商品名“SR610”等。
作为3官能以上的丙烯酸酯成分的具体例，可举出季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、甲基丙烯酸-2-羟基-3-丙烯酰氧基丙酯、异氰脲酸EO改性三丙烯酸酯、ε-己内酯改性三-(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、ε-己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)丙烯酸酯等。作为可在市场上获得的具体例，例如可举出Sartomer公司制造的商品名“CN968”、Sartomer公司制造的商品名“SR444”等。
在使用丙烯酸系的紫外线固化型树脂的情况下，从进一步提高平滑性的观点出发，树脂层6可以含有流平剂。作为流平剂的具体例，例如可列举出有机硅系流平剂、氟系流平剂、丙烯酸系流平剂等，可以使用它们中的1种或2种以上。其中，从涂膜性的观点出发，优选有机硅系流平剂。作为可在市场上获得的具体例，例如可举出BYK-Chemie Japan公司制造的商品名“BYK337”(聚醚改性聚二甲基硅氧烷)等。
树脂层6优选使含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、3官能以上的(甲基)丙烯酸酯单体、2官能的(甲基)丙烯酸酯单体和光聚合引发剂的紫外线固化型树脂进行光聚合而成。另外，树脂层6也可以是使含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、3官能以上的(甲基)丙烯酸酯单体、2官能的(甲基)丙烯酸酯单体、光聚合引发剂和填料(例如二氧化硅微粒)的紫外线固化型树脂进行光聚合而成的层。
[导电性层叠体的制造方法]
上述导电性层叠体1例如可以通过在透明基材2的1个面上从透明基材2侧起依次层叠第一金属氧化物层3、金属层4、第二金属氧化物层5来制造。
第一金属氧化物层3、金属层4、第二金属氧化物层5的成膜例如可以使用日本特开2014-34701号公报中记载的薄膜形成装置来形成。
图3是示出薄膜形成装置的内部构成例的立体图。该薄膜形成装置是通过辊对辊法在膜基材上通过溅射进行成膜的装置，能够设置多个溅射靶，而且，一旦设置辊，则能够在维持真空气氛的状态下对不同的多种材料进行成膜。
进而，在该薄膜形成装置中，在溅射时除了作为溅射气体的氩气以外，还能够将氧气导入等离子体中，由此能够在膜基材上形成靶材料的氧化物。
以下，对薄膜形成装置的构成进行详细说明。该薄膜形成装置具备：测定部，其在长度方向上连续地供给膜基材，对形成于膜基材上的薄膜的宽度方向的光学特性进行测定；供给部，其在膜基材的宽度方向上设置有多个气体喷嘴，向靶附近供给反应性气体；以及控制部，其基于测定部的宽度方向的光学特性，对从各气体喷嘴喷出的反应性气体的流量进行控制，该薄膜形成装置能够形成在长度方向和宽度方向上厚度均匀的薄膜。
另外，作为具体的构成，优选具备成膜部，该成膜部具有供给部、对靶施加电压的溅射电极、以及对成膜中的膜基材的宽度方向的等离子体的发光光谱进行测定的等离子体测定部。由此，控制部能够基于测定部的宽度方向的光学特性和等离子体测定部的发光光谱，控制从各气体喷嘴喷出的反应性气体的流量和施加于靶的电压，能够在宽度方向上形成厚度更均匀的薄膜。
另外，作为具体的构成，优选具备：将膜基材在长度方向上卷出的卷出部、在膜基材的长度方向上配置有多个成膜部的成膜单元、以及卷取在成膜单元中形成了薄膜的膜基材的卷取部。由此，从膜基材的卷出至卷取为止，能够形成多层薄膜。另外，测定部优选分别设置在成膜部之后，优选至少设置在最后的成膜部之后、即成膜单元与卷取部之间。由此，能够测定单层薄膜或多层薄膜这两者的光学特性。
图3所示的薄膜形成装置使作为膜基材的基膜一边卷绕于罐状辊一边移动，通过溅射在基膜表面形成薄膜。
该薄膜形成装置从作为卷出部的卷出辊11供给基膜10(透明基材2)，利用作为卷取部的卷取辊12来卷取形成有薄膜的基膜10。另外，在真空室内具备作为成膜单元的第一成膜室单元和第二成膜室单元。真空室与进行空气排出的真空泵连接，能够调整为规定的真空度。
第一成膜室单元和第二成膜室单元分别具备第一罐状辊21和第二罐状辊22，以与罐状辊21、22的外周面相对的方式配置多个作为成膜部的溅射室SP1～10。在各溅射室SP1～10中，在电极上安装规定的靶，并且在基膜10的宽度方向上设置具有多个气体喷嘴的供给部。
另外，薄膜形成装置具备在第一成膜室单元与第二成膜室单元之间、即利用溅射室SP5进行成膜后测定光学特性的测定部即光学监视器31。由此，能够控制第一成膜室单元后的中间品的成膜，并且能够削减基于单层的调整时的调整时间。另外，具备在第二成膜室单元之后、即利用溅射室SP10进行成膜后测定光学特性的测定部即光学监视器32。由此，能够确认第二成膜室单元后的终产品的成膜品质。
如后所述，光学监视器31、32利用能够在宽度方向上扫描的光学头来测定在基膜10上形成的薄膜的宽度方向的光学特性。利用该光学监视器31、32，例如测定反射率的峰值波长作为光学特性，通过换算为光学厚度，能够得到宽度方向的光学厚度分布。
在包含这样构成的薄膜形成装置中，从卷出辊11送出基膜10(透明基材2)，在第一罐状辊21和第二罐状辊22的输送时，在基膜10上形成薄膜(第一金属氧化物层3、金属层4、第二金属氧化物层5)，利用卷取辊12进行卷取，从而能够得到多层薄膜。在此，利用光学监视器31、32测定在基膜10上形成的薄膜的宽度方向的光学特性，基于光学特性，控制来自在宽度方向上设置的各气体喷嘴的反应性气体的流量，由此能够形成在长度方向和宽度方向上厚度均匀的薄膜。
另外，上述导电性层叠体1A例如可以通过在透明基材2的至少1面上形成树脂层6后，从形成于透明基材2上的树脂层6侧起依次层叠第一金属氧化物层3、金属层4、第二金属氧化物层5来制造。树脂层6例如可以使用上述紫外线固化型树脂等树脂组合物来形成。
树脂层6的第一金属氧化物层3侧的表面的算术平均粗糙度例如可以通过填料的大小(平均粒径)、树脂层6中的填料含量(填料密度)、树脂的固化条件等来调整。
在树脂层6中含有填料的情况下，从例如树脂层6与第一金属氧化物层3的密合性、树脂层6与透明基材2的密合性的观点出发，填料的含量相对于用于形成树脂层6的树脂组合物的总固体成分可以设为20～50wt％。需要说明的是，树脂组合物的固体成分是指除溶剂以外的全部成分，液态的单体成分包含在固体成分中。另外，填料的含量也可以设为上述导电性层叠体的第二实施方式中的树脂层6中的填料含量的数值范围。
用于形成树脂层6的树脂组合物中使用的溶剂只要满足树脂组合物的涂布性就没有特别限定，例如优选考虑安全性。作为溶剂的具体例，可举出丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚等，可以使用它们中的1种或2种以上。其中，从涂布性的观点出发，优选使用丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸丁酯。
在使用紫外线固化型树脂作为用于形成树脂层6的树脂组合物的情况下，使用光聚合引发剂。作为光聚合引发剂的具体例，例如可举出烷基苯酮系光聚合引发剂、酰基氧化膦系光聚合引发剂、二茂钛系光聚合引发剂等。作为可在市场上获得的具体例，可举出1-羟基环己基苯基酮(IRGACURE184，BASF公司制)等。
另外，在使用紫外线固化型树脂作为用于形成树脂层6的树脂组合物的情况下，可以进一步含有色调调节剂、着色剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、各种热塑性树脂材料、折射率调节树脂、折射率调节粒子、密合性赋予树脂等功能性赋予剂。
树脂层6例如可以通过以下的方法形成。首先，使用分散机等搅拌机按照常规方法将用于形成树脂层6的树脂组合物均匀地混合而进行调制。接着，将用于形成树脂层6的树脂组合物涂布在透明基材2上。然后，使涂布在透明基材2上的树脂组合物干燥、固化，从而能够形成树脂层6。
将树脂组合物涂布于透明基材2上的方法没有特别限定，可以使用公知的方法。作为涂布方法，可列举微凹版涂布法、线棒涂布法、直接凹版涂布法、模涂法、浸渍法、喷涂法、逆转辊涂布法、帘涂法、缺角轮涂布法、刮刀涂布法、旋涂法等。
使涂布于透明基材2上的树脂组合物干燥的条件没有特别限定，可以是自然干燥，也可以是调整干燥湿度、干燥时间等的人工干燥。作为使紫外线固化型树脂组合物固化时的光，除了紫外线以外，还可以应用γ射线、α射线、电子束等能量射线。
然后，在透明基材2的至少1面上形成树脂层6后，使用上述薄膜形成装置，在树脂层6上依次使第一金属氧化物层3、金属层4、第二金属氧化物层5成膜，由此能够制作图2所示的导电性层叠体1A。
实施例
以下，对本技术的实施例进行说明。本实施例中，制作例如如图1所示在透明基材2的1面上依次层叠有第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5的导电性层叠体1，或者例如如图2所示在透明基材2的1面上依次层叠有树脂层6、第一金属氧化物层3、金属层4和第二金属氧化物层5的导电性层叠体1A。然后，评价所制作的导电性层叠体的全光线透过率和表面电阻值。
＜算术平均粗糙度(Ra)＞
使用原子力显微镜(Atomic Force Microscopy：AFM)，测定制膜前后透明基材表面或树脂层表面的算术平均粗糙度(Ra)。将结果示于表3。
＜全光线透过率＞
导电性层叠体的全光线透过率根据“JIS K-7105”使用“NDH5000(日本电色工业株式会社制)”进行测定。将结果示于表3。
＜表面电阻值＞
导电性层叠体的表面电阻值依据“JIS K-7194”，使用作为接触式电阻测定器的“Loresta GP(注册商标)(株式会社DIA Instruments制)”进行测定。对于不在表面电阻值的指标即10Ω/□以下的情况，判断为不能耐受实用性。将结果示于表3。
＜实施例1＞
准备表1所示组成的树脂层形成用的树脂组合物。树脂组合物是使丙烯酸酯、光聚合引发剂和流平剂溶解于溶剂中而调制的。
[表1]
Figure BDA0004094094460000131
在作为透明基材的表面的算术平均粗糙度为0.3nm、厚度为80μm的TAC膜上，用棒涂机涂布所调制的光固化性树脂组合物后，使树脂组合物进行光聚合，形成厚度3.5μm的树脂层。
使用图3所示的日本特开2014-34701号公报记载的薄膜形成装置，在形成于TAC膜上的树脂层上依次形成第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层。
薄膜形成装置能够同时依次层叠多种材料的薄膜，在本实施例中，从靠近膜卷出侧的一侧起依次配置含有50原子％锡的氧化锌(以下称为“50atm％Sn-Zn-O”等)、银、含有2原子％铝的氧化锌的靶。各个靶与独立的电源连接，能够接通任意的电力进行放电。另外，各个靶分别收纳于独立的容器内，隔开靶的隔壁仅在罐状辊附近具有微小的间隙，能够实现实质上不同的气体气氛。
将该薄膜形成装置的真空槽内整体进行真空排气至1×10-3Pa以下后，在设置有50atm％Sn-Zn-O的第一阴极部，将氩气一边以成为150sccm的流量的方式利用质量流量控制器进行调整一边导入至真空槽的第一阴极部，对50atm％Sn-Zn-O靶施加电力使其放电，通过溅射进行成膜。此时，为了抑制由氧不足引起的50atm％Sn-Zn-O的光吸收，添加6sccm的氧，形成透明的氧化物层。此时膜的移动速度为3m/min。电力是预先测定电力与膜厚的关系后，调整为能够以3m/min的移动速度形成53nm厚的50atm％Sn-Zn-O。
在第一阴极部形成50atm％Sn-Zn-O后，在第二阴极部形成银薄膜。具体而言，在第二阴极部，将氩气一边以成为450sccm的流量的方式用质量流量控制器进行调整一边导入至真空槽的第二阴极部，对银靶施加电力使其放电，通过溅射进行成膜。在本实施例中，使用了相邻的2个阴极，但不一定需要使用相邻的2个阴极。根据装置构成，也可以不使用1个阴极室，而将阴极室整体作为隔壁。电力是预先测定电力与膜厚的关系后，以能够以3m/min的移动速度形成9nm厚的银薄膜的方式进行调整。
在第二阴极部形成银薄膜后，在第三阴极部形成含2原子％铝的氧化锌。具体而言，在第三阴极部，将氩气一边以成为150sccm的流量的方式利用质量流量控制器进行调整一边导入至真空槽的第三阴极部，对含2原子％铝的氧化锌靶施加电力使其放电，通过溅射进行成膜。此时，与氩气分开地，一边用质量流量控制器调整一边导入微量的氧，以不引起氧不足、氧过多导致的导电性不良的方式调整氧量，得到良好的透明导电性氧化物。在本实施例中，使用了相邻的2个阴极，但不一定需要使用相邻的2个阴极。根据装置构成，也可以不使用1个阴极室，而将阴极室整体作为隔壁。电力是预先测定电力与膜厚的关系后，以能够以3m/min的移动速度形成44nm厚的含2原子％铝的氧化锌的方式进行调整。
形成3层膜后，连续地卷取膜，将成为图2构成的膜卷取后，向装置整体导入大气，取出试样，作为样品。
＜实施例2＞
将透明基材变更为表面的算术平均粗糙度0.6nm、厚度100μm的聚碳酸酯膜，并且未在该聚碳酸酯膜上形成树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。
＜实施例3＞
使表2所示组成的树脂组合物进行光聚合，形成表面的算术平均粗糙度2.0nm、厚度3.5μm的树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。表2中记载的各成分的比例(％)表示重量％(wt％)。
[表2]
Figure BDA0004094094460000161
＜实施例4＞
使表2所示组成的树脂组合物进行光聚合，形成表面的算术平均粗糙度1.6nm、厚度3.5μm的树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。
＜实施例5＞
使表2所示组成的树脂组合物进行光聚合，形成表面的算术平均粗糙度0.7nm、厚度3.5μm的树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。
＜比较例1＞
使表2所示组成的树脂组合物进行光聚合，形成表面的算术平均粗糙度6.0nm、厚度3.5μm的树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。
＜比较例2＞
将透明基材变更为厚度100μm的聚碳酸酯膜，并且，使表2所示组成的树脂组合物进行光聚合，形成表面的算术平均粗糙度2.4nm、厚度5μm的树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。
＜比较例3＞
使表2所示组成的树脂组合物进行光聚合，形成表面的算术平均粗糙度2.8nm、厚度3.5μm的树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。
＜比较例4＞
将透明基材变更为厚度100μm的聚碳酸酯膜，并且，使表2所示组成的树脂组合物进行光聚合，形成表面的算术平均粗糙度3.8nm、厚度3.5μm的树脂层，除此以外，在与实施例1相同的条件下制作试样。
[表3]
Figure BDA0004094094460000181
由表3所示的实施例和比较例的结果可知，在透明基材的至少1面上从透明基材侧起依次层叠有第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层的导电性层叠体中，通过使第一金属氧化物层的透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下，能够兼顾低电阻和高透过率。
另外，由实施例1、3～5的结果可知，在透明基材与第一金属氧化物层之间进一步具备树脂层并且第一金属氧化物层的透明基材侧的界面为树脂层的表面的导电性层叠体中，即使在第一金属氧化物层的透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下的情况下，也能够兼顾低电阻和高透过率。即可知，在透明基材2的1个面上从透明基材2侧起依次层叠有第一金属氧化物层3、树脂层6、金属层4和第二金属氧化物层5的导电性层叠体1A中，即使在树脂层6的第一金属氧化物层3侧的表面的算术平均粗糙度为2.0nm以下的情况下，也能够兼顾低电阻和高透过率。
另外，由实施例3～5的结果可知，在透明基材与第一金属氧化物层之间进一步具备含有填料的树脂层并且第一金属氧化物层的透明基材侧的界面为树脂层的表面的导电性层叠体中，即使在第一金属氧化物层的透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下的情况下，也能够兼顾低电阻和高透过率。即可知，在透明基材2的1个面上从透明基材2侧起依次层叠有第一金属氧化物层3、含有填料的树脂层6、金属层4和第二金属氧化物层5的导电性层叠体1A中，即使在含有填料的树脂层6的第一金属氧化物层3侧的表面的算术平均粗糙度为2.0nm以下的情况下，也能够兼顾低电阻和高透过率。
可知在比较例中，由于第一金属氧化物层的透明基材侧的界面的算术平均粗糙度超过2.0nm，因此难以兼顾低电阻和高透过率。
如上所说明，根据实施例和比较例的结果，能够证实本技术的效果。需要说明的是，本技术不限于上述示例，只要是具有本技术所属领域普通知识的人员，就能够在权利要求书所记载的技术思想的范围内想到各种变更例或修改例，这是显而易见的。
符号说明
1、1A：导电性层叠体；2：透明基材；3：第一金属氧化物层；4：金属层；5：第二金属氧化物层；6：树脂层；10：基膜；11：卷出辊；12：卷取辊；21：第一罐状辊；22：第二罐状辊；31：光学监视器；32：光学监视器；SP：溅射室。

Claims (15)

1.一种导电性层叠体，其中，在透明基材的至少1面上，从所述透明基材侧起依次层叠有第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层，
所述第一金属氧化物层的所述透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。
2.根据权利要求1所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层的所述透明基材侧的界面为所述透明基材的表面。
3.根据权利要求1所述的导电性层叠体，其中，在所述透明基材与所述第一金属氧化物层之间进一步具备树脂层，
所述第一金属氧化物层的所述透明基材侧的界面为所述树脂层的表面。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层由含有锌的氧化物或含有锌的复合金属氧化物构成。
5.根据权利要求4所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层由所述含有锌的复合金属氧化物构成，
所述含有锌的复合金属氧化物含有锌和锡，且含有10～90原子％的锡。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层为氧化锌锡(ZTO)，
所述第二金属氧化物层为铝掺杂氧化锌(AZO)。
7.根据权利要求1～3中任一项所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层为Nb2O5，
所述第二金属氧化物层为铝掺杂氧化锌(AZO)。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的导电性层叠体，其中，表面电阻值为10Ω/□以下，且全光线透过率为90％以上。
9.一种光学装置，其特征在于，使用至少1片权利要求1～8中任一项所述的导电性层叠体。
10.一种触摸面板，其使用了权利要求1～8中任一项所述的导电性层叠体作为电极中的至少一个极。
11.一种调光元件，其使用了权利要求1～8中任一项所述的导电性层叠体作为电极中的至少一个极。
12.一种电泳型光学元件，其使用了权利要求1～8中任一项所述的导电性层叠体作为电极中的至少一个极。
13.一种发光元件，其使用了权利要求1～8中任一项所述的导电性层叠体作为电极中的至少一个极。
14.一种天线，其使用了至少1片权利要求1～8中任一项所述的导电性层叠体。
15.一种导电性层叠体的制造方法，其具有在透明基材的至少1面上从所述透明基材侧起依次层叠第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层的工序，
所述第一金属氧化物层的所述透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。
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