CN115942808A - 显示面板与显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板与显示装置,所述显示面板包括多个的发光区以及位于各所述发光区之间的非发光区,显示面板包括基板;像素定义层,包括对应设置于发光区的第一凹槽以及设置于非发光区的第二凹槽;发光器件层,包括对应设置于发光区以及非发光区的公共功能层;封装层,包括设置于所述发光器件层上的第一封装子层;所述第二凹槽的开口处设置有凸起部,所述公共功能层在所述第二凹槽处断开设置,所述第一封装子层在所述第二凹槽处连续设置,所述凸起部的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一凸出距离,通过在所述第二凹槽的开口处设置所述凸起部,在有效改像素偷亮不良的同时还能保证较佳的封装可靠性。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板与显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展,有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)由于其具有自发光、高对比、广视角、低功耗、可弯折等优异性能,逐渐成为显示领域的主流,OLED显示面板中的OLED器件由阳极、发光器件层以及阴极构成,其中发光器件层中的部分膜层为通过开放式掩模罩(Open Mask)蒸镀形成的公共功能层,这样可以减少精细金属掩模罩(Fine Metal Mask,FMM)的使用从而节省制备成本,但是这种公共功能层不可避免地会在相邻像素间产生横向漏流,导致像素偷亮进而影响画面显示效果的问题。
目前,业内已经开提出了许多解决该像素偷亮问题的手段,例如在像素之间设置一定数量凸起间隔体,来局部阻断像素间的公共功能层,从而减少横向漏流以达到改善像素偷亮的目的,但这种凸起的间隔体会增加其划伤风险,产生异物颗粒从而导致封装失效,同时,凸起的间隔体也会恶化封装层中有机膜层的流平性,影响封装效果;另外还可在像素间的像素定义层上设置一些挖槽来局部阻断像素间的公共功能层,但这种挖槽的制备对工艺要求较高,如果槽壁不够陡峭就无法有效阻断公共功能层,因此在这种挖槽设计中,为了进一步增强隔断效果,目前的一些改善方案是将这种挖槽设置为底切结构,但是上层的封装层在这种底切结构上的台阶覆盖率很低,具体参阅图1中圈示出的区域,可见封装层在这种底切结构区域的膜厚很薄,从而导致较大的封装失效风险。
基于上述问题,亟需开发一种在改善像素偷亮问题的基础上还能实现较好的封装效果的解决方案。
发明内容
本发明提供一种显示面板与显示装置,所述显示面板可有效改善像素偷亮的问题同时保证了较优的封装性能。
为解决上述问题,第一方面,本发明提供一种显示面板,所述显示面板包括多个间隔设置的发光区以及位于各所述发光区之间的非发光区,所述显示面板包括:
基板;
像素定义层,设置于所述基板上,包括对应设置于所述发光区的第一凹槽以及设置于所述非发光区的第二凹槽;
发光器件层,设置于所述像素定义层以及所述基板上,包括发光功能层与公共功能层,所述发光功能层位于所述发光区,所述公共功能层位于所述发光区与所述非发光区;
封装层,设置于所述发光器件层上,包括设置于所述发光器件层上的第一封装子层,所述第一封装子层位于所述发光区与所述非发光区;
其中,所述第二凹槽的开口处设置有凸起部,所述公共功能层在所述第二凹槽处断开设置,所述第一封装子层在所述第二凹槽处连续设置,所述凸起部的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一。
在本发明实施例提供的一显示面板中,所述第二凹槽的侧壁与所述第二凹槽的底面之间的夹角大于或等于90度。
在本发明实施例提供的一显示面板中,所述凸起部的一端与所述第二凹槽开口处的侧壁接触,其另一端向所述第二凹槽内延伸设置。
在本发明实施例提供的一显示面板中,所述凸起部具有远离所述基板的一侧的第一侧面,所述第一侧面与所述像素定义层远离所述基板的一侧侧面平齐。
在本发明实施例提供的一显示面板中,所述凸起部具有与所述第一侧面靠近所述第二凹槽内一端连接的第二侧面,所述第二侧面与所述第一侧面间具有呈锐角的夹角。
在本发明实施例提供的一显示面板中,所述第二凹槽的侧壁与所述第二凹槽的底面之间的夹角大于90度且小于100度,所述第二凹槽的深度小于或等于所述像素定义层的最大厚度。
在本发明实施例提供的一显示面板中,所述凸起部的凸出距离大于或等于所述公共功能层厚度的十分之一。
在本发明实施例提供的一显示面板中,所述发光功能层包括第一发光子层与第二发光子层,所述公共功能层包括设置于所述第一发光子层与所述第二发光子层间的电荷产生层;
所述电荷产生层在所述第二凹槽处断开设置。
在本发明实施例提供的一显示面板中,相邻两所述发光区之间设置有多个所述第二凹槽,至少部分所述第二凹槽沿相邻的一所述发光区边缘延伸设置。
第二方面,本发明还提供了一种显示装置,所述显示装置包括上述的显示面板。
有益效果:本发明实施例提供了一种显示面板与显示装置,在该显示面板中,通过在所述像素定义层中中的所述第二凹槽的开口处设置凸起部,那么所述公共功能层位于所述非发光区的部分便在所述第二凹槽的侧壁上发生断裂,从而减小相邻发光区之间的横向漏流,进而有效避免因像素偷亮而造成的显示不良的问题,同时又由于所述凸起部的尺寸微小,其凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一,使得该凸起部对所述第一封装子层在所述第二凹槽位置的沉积成膜影响微小,那么所述第一封装子层位于所述非发光区的部分在对应所述第二凹槽上的区域连续且能保证较厚的膜厚,从而保证所述封装层具有较佳的封装可靠性;即,通过设置所述凸起部,在有效改善因像素偷亮而造成的显示不良的同时还能保证较佳的封装可靠性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明现有技术提供的一种显示面板中的剖面结构的扫描电镜成像图;
图2是本发明实施例提供的第一种显示面板的平面结构示意图;
图3是图2中BB’位置的剖面结构示意图;
图4是图3中提供的剖面结构中的部分膜层的剖面结构示意图;
图5是图4中S1区域的一种放大结构示意图;
图6是本发明实施例提供的一种显示面板中的剖面结构的扫描电镜成像图;
图7是本发明实施例提供的一种显示面板的截面结构示意图;
图8是本发明实施例提供的一种显示面板中的公共功能层的截面结构示意图;
图9是本发明实施例提供的另一种显示面板中的公共功能层的截面结构示意图;
图10是图4中S1区域的另一种放大结构示意图;
图11是本发明实施例提供的第二种显示面板的平面结构示意图;
图12是本发明实施例提供的第三种显示面板的平面结构示意图;
图13是本发明实施例提供的第四种显示面板的平面结构示意图;
图14是本发明实施例提供的第五种显示面板的平面结构示意图;
图15是本发明实施例提供的第六种显示面板的平面结构示意图;
图16是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图;
图17a-17g是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的制备过程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请中,“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本发明,给出了以下描述。在以下描述中,为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是,本领域普通技术人员可以认识到,在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本发明。在其它实例中,不会对公知的结构和过程进行详细阐述,以避免不必要的细节使本发明的描述变得晦涩。因此,本发明并非旨在限于所示的实施例,而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。
本发明实施例提供一种显示面板,以下分别进行详细说明:
参阅图2,所述显示面板包括显示区,所述显示区包括多个间隔设置的发光区A1以及位于多个所述发光区之间的非发光区A2,其中,所述发光区A1为显示面板显示时实际发光的区域,用于设置发光单元,所述非发光区A2为显示面板在显示时保持黑态的区域,用于设置驱动发光单元发光的电路及走线等必要结构,所述发光区A1通常包括用于设置第一颜色发光单元第一颜色发光区A11,用于设置第二颜色发光单元第二颜色发光区A12以及用于设置第三颜色发光单元第三颜色发光区A13,通常,所述第一颜色为蓝色,所述第二颜色为绿色,所述第三颜色为红色;
参阅图3,为图2中BB’位置的剖面结构示意图,所述显示面板包括基板100以及依次设置于所述基板100上的第一电极层200、像素定义层300、发光器件层400、第二电极层500以及封装层600;
具体地,所述第一电极层200包括对应多个所述发光区A1设置的多个第一电极;所述像素定义层300设置于所述基板100上,结合参阅图4,包括对应设置于多个所述发光区的多个第一凹槽G1以及设置于所述非发光区的第二凹槽G2,一所述第一凹槽G1使得对应的一所述第一电极显露;所述发光器件层400设置于所述像素定义层300以及所述第一电极层200上,包括发光功能层与公共功能层410,所述发光功能层位于所述发光区A1,所述公共功能层410位于所述发光区A1与所述非发光区A2;所述第二电极层500设置于所述发光器件层400上;所述封装层600设置于所述第二电极层500上,包括设置于所述发光器件层400上的第一封装子层610,所述第一封装子层610位于所述发光区A1与所述非发光区A2;
其中,所述第二凹槽G2的具体结构参阅图5示出的图4中S1区域的局部放大图,所述第二凹槽G2的开口处设置有凸起部310,凸起部310所述凸起部310的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一。
在本发明实施例所提供的显示面板中,通过在所述像素定义层300中对应所述非发光区A2的所述第二凹槽G2的开口处设置所述凸起部310,所述,那么所述公共功能层位于所述非发光区A2的部分覆盖所述第二凹槽G2时,便在所述第二凹槽G2的侧壁上发生断裂,从而减小相邻发光区之间的横向漏流,进而有效避免因像素偷亮而造成的显示不良的问题,同时又由于所述凸起部310的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一,该凸起部310对所述第一封装子层610在所述第二凹槽G2位置的沉积成膜影响微小,那么所述第一封装子层610位于所述非发光区A2的部分在对应所述第二凹槽G2上的区域仍能连续设置且保证较厚的膜厚,从而保证所述封装层600具有较佳的封装可靠性;即,通过在所述第二凹槽G2的开口处设置所述凸起部310,在有效改善因像素偷亮而造成的显示不良的同时还能保证较佳的封装可靠性。
本发明实施例所提供的显示面板实际结构示意图参阅图6,圈示出的区域即为向所述第二凹槽内部凸出的凸起部,由图可知该凸起部的凸出距离远小于上层的第一封装子层的厚度,同时第一封装子层在该第二凹槽区域的厚度虽然相较非凹槽区域的厚度有一定程度的减小,但是与图1中的结构相比较,本发明实施例中的第一封装子层在该第二凹槽区域的膜层厚度大大增加,且在该第二凹槽区域的膜层厚度更为均匀,未出现膜厚骤然减薄的拐点,因此能保证较佳的封装可靠性。
补充说明的是,上述限定的所述凸起部310的凸出距离可以理解为沿所述凸起部凸起方向的最大距离,所述凸起部310的凸起方向可以为任意,例如为平行所述基板100的水平方向或垂直于所述基板100的竖直方向或其他的与所述基板100相倾斜的方向;
上述限定的所述第一封装子层610的厚度可以理解为所述第一封装子层610位于所述像素定义层300非凹槽区域的厚度。
另外,所述封装层600除了上述的第一封装子层610以外,通常还包括设置于所述第一封装子层上610远离所述基板100侧的第二封装子层以及第三封装子层,其中所述第一封装子层与所述第三封装子层为无机封装层,具体可以为氧化硅薄膜或氮化硅薄膜,所述第二封装子层为有机封装层,通过这种无机膜层/有机膜层/无机膜层堆叠的设置方式以实现较好的封装效果。
所述基板100通常为阵列基板,参阅图7,所述基板100包括基底110以及依次设置于所述基底110上的有源层120、第一绝缘层130、第一金属层140、第二绝缘层150、第二金属层160、第三绝缘层170、第三金属层180以及平坦化层190。
在一些实施例中,在将所述凸起部310的凸出距离设置为小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一以保证封装可靠性的基础上,出于对所述公共功能层410的隔断效果的考虑,所述凸起部310的凸出距离也不宜设置得过窄,因此还将所述凸起部310的凸出距离设置为大于或等于所述公共功能层厚度的十分之一,以保证所述公共功能层410在覆盖所述第二凹槽G2时能在所述第二凹槽G2的侧壁上被有效地被隔断,从而避免像素偷亮的不良出现。
在一些实施例中,所述凸起部310的凸出距离的具体设置范围为10nm-100nm,具体的凸出距离根据实际工艺需求而定。
在一些实施例中,显示面板中的所述发光器件层的具体结构请参阅图8,由所述第一电极层侧至所述第二电极层侧之间,依次设置有第一空穴传输层411、第一发光子层421以及第一电子传输层412,其中,所述第一发光子层421包括设置于所述第一凹槽G1内,且分别对应设置于所述第一颜色发光区A11、第二颜色发光区A12以及第三颜色发光区A13的第一颜色发光功能部、第二颜色发光功能部以及第一颜色发光功能部,而所述第一空穴传输层411与所述第一电子传输层412设置于所述发光区A1以及所述非发光区A2中,即所述公共功能层410则包括所述第一空穴传输层411与所述第一电子传输层412;
在一些实施例中,显示面板中的所述发光器件层的具体结构参阅图9,由所述第一电极层侧至所述第二电极层侧之间,依次设置有第一空穴传输层411、第一发光子层421、第一电子传输层412、电荷产生层413、第二空穴传输层414、第二发光子层422以及第二电子传输层415,与上述实施例不同的是,本实施例中的发光器件层对于任意一所述发光区在第一电极层与第二电极层之间串联有两个发光器件,两所述发光器件之间设置有所述电荷产生层413,所述电荷产生层413同样设置于所述发光区A1以及所述非发光区A2中,即所述公共功能层410则包括第一空穴传输层411、所述第一电子传输层412、第二空穴传输层414以及第二电子传输层415,补充说明的是,在这种串联型的发光器件中,像素偷亮的不良发生风险更高,通过设置所述凸起部,使得包括所述电荷产生层413在内的所述公共功能层410在所述第二凹槽G2处断开设置,即可有效改善串联型发光器件因像素偷亮而造成的显示不良,同时还能保证较佳的封装可靠性。
在一些实施例中,请参阅图5,所述第二凹槽G2的侧壁与所述第二凹槽的底面之间的夹角α大于或等于90度,其相较于凹槽的侧壁与底面之间的夹角呈锐角的凹槽结构,有利于所述第一封装子层在所述第二凹槽G2的侧壁上沉积成膜,使得所述第一封装子层在所述第二凹槽G2的侧壁上具有更厚的膜厚,进而进一步增加封装层的封装可靠性;
进一步地,所述第二凹槽的侧壁与所述第二凹槽的底面之间的夹角α大于90度且小于100度,即将所述第二侧壁G22设置为与所述基板100接近垂直,使得所述第二侧壁G22更为陡峭,以进一步提升所述第二凹槽G2对所述公共功能层410的隔断能力。
在一些实施例中,所述凸起部310的一端与所述第二凹槽G2开口处的侧壁接触,其另一端向所述第二凹槽G2内延伸设置,即所述凸起部310朝向所述第二凹槽G2内凸出,所述凸起部310使得所述第二凹槽G2的开口呈底切开口,该底切开口对于所述公共功能层410具有较好的隔断能力,使得所述公共功能层410在所述第二凹槽G2处断开。
结合图2与图5,所述凸起部310可以理解为环绕所述第二凹槽G2开口处,由所述述第二凹槽G2侧壁向所述第二凹槽G2侧壁内延伸设置的环状结构。
在一些实施例中,请参阅图5,所述凸起部310具有远离所述基板100的一侧的第一侧面310a,所述第一侧面310a与所述像素定义层300远离所述基板的一侧侧面平齐,该结构的所述凸起部310与所述像素定义层300由同一工艺一并形成得到,具体为在蚀刻形成所述第二凹槽G2时,设置一种由金属或金属氧化物构成的阻挡层,在第二凹槽G2的开口区域对等离子体形成一定的阻挡而得到所述凸起部310以及所述像素定义层300,更详细的步骤以及工艺原理可参见后述关于该显示面板的制备方法实施例的描述。
在一些实施例中,请参阅图5,所述凸起部310具有与所述第一侧面310a靠近所述第二凹槽内一端连接的第二侧面310b,所述第二侧面310b与所述第一侧面310a间具有夹角β,该夹角β为锐角,相较于所述第二侧面310b与所述第一侧面310a间的夹角呈钝角的设置方式,此种结构的所述凸起部310在凸出距离一定的前提下,所述凸起部310对所述第一封装子层610在所述第二凹槽G2位置的沉积成膜影响更小,那么所述第一封装子层610在对应所述第二凹槽G2位置的膜厚更厚,更有利于保证所述封装层600的封装可靠性。
进一步地,该夹角β具体可设置为20度-70度,该夹角β过大时,则使得所述第二凹槽G2对所述公共功能层410的隔断能力不足,该夹角β过小时,则使得所述凸起部310存在塌陷的风险,因此将所述夹角β设置为20度-70度以避免出现前述问题。
在一些实施例中,所述第二侧面310b的一端与所述第一侧面310a连接,其另一端与所述第二凹槽G2的侧壁直接相连接,从而避免所述第二侧面310b与所述第二凹槽G2的侧壁的连接处形成台阶结构而影响对所述第一封装子层610在所述第二凹槽G2的沉积成膜,有利于使得所述第一封装子层610在对应所述第二凹槽G2上的区域的膜厚更厚,以保证所述封装层600的封装可靠性。
在一些实施例中,所述第二侧面310b与所述第二凹槽G2侧壁的连接角呈钝角,即所述第二侧面310b与所述第二凹槽G2侧壁的连接处的拐角相对平缓,有利于所述第一封装子层在所述第二凹槽G2侧壁上的沉积,以进一步保证所述第一封装子层在该第二凹槽G2区域的膜层厚度进而提升封装可靠性。
在一些实施例中,参阅图10,所述凸起部310的第二侧面310b与所述第二凹槽G2的侧壁均呈朝向所述第二凹槽G2内弯曲的曲面,使得所述凸起部310的第二侧面310b与所述第二凹槽G2的侧壁的连接角呈圆弧角,如此设置有利于所述第一封装子层在所述第二凹槽G2侧壁上的沉积,以进一步保证所述第一封装子层在该第二凹槽区域的膜层厚度进而提升封装可靠性。
在一些实施例中,所述第二凹槽G2的深度小于或等于所述像素定义层300的最大厚度,当所述第二凹槽G2的深度小于所述像素定义层300的最大厚度时,所述第二凹槽G2仅部分贯穿所述像素定义层300,以避免蚀刻形成所述第二凹槽G2时对下层的所述第一电极层200造成损伤而引起显示不良的问题。
在一些实施例中,所述第二凹槽G2的深度为1.3um-4um。
在一些实施例中,在所述第二凹槽G2在隔断所述公共功能层410的同时,位于所述公共功能层410上侧的所述第二电极层500同样存在被所述第二凹槽G2隔断的风险,虽然可以通过调整所述第二电极层500的制备工艺参数如蒸镀角大小等来降低所述第二电极层500在所述第二凹槽G2隔断而导致显示不良的风险,然而这一问题也很难通过调整制备工艺参数完全规避,基于此,将所述第二凹槽G2间隔地设置于所述非发光区A2,具体地,参阅图2,所述像素定义层包括多个所述第二凹槽G2,多个所述第二凹槽G2间隔地设置于所述非发光区A2,则相邻两所述第二凹槽G2的间隔区域则作为保证所述第二电极层500连通的区域,从而可完全避免所述第二电极层500位于相邻的所述发光区A1的部分被隔断而导致的显示不良的问题。
补充说明的是,在这种设置方式中,所述公共功能层410虽然在相邻所述第二凹槽G2的间隔区域仍连通,但是相较于未设置所述第二凹槽G2的结构,所述公共功能层410对应相邻两发光区A1的部分之间的连通通道缩窄且连通路径得以延长,从而大大减小了相邻两发光区A1之间所述公共功能层410中的横向漏流大小,通过设置所述第二凹槽G2的形状使得横向漏流的大小保持在目标值以下,即可避免像素偷亮的显示不良。
在一些实施例中,通过设置所述第二凹槽G2的形状使得横向漏流的大小保持在目标值以下的方式具体可以为将至少部分所述第二凹槽沿相邻的一所述发光区边缘延伸设置,如下结合图11进行示例性地说明,例如,所述第二颜色发光区A12为椭圆形,则将所述第二颜色发光区A12与所述第一颜色发光区A11之间的所述第二凹槽G2设置为沿相邻所述第二颜色发光区A12边缘延伸设置的曲线型凹槽,如此便可使得位于所述第二颜色发光区A12与所述第一颜色发光区A11之间的所述第二凹槽G2向靠近位于所述第二颜色发光区A12与所述第三颜色发光区A13之间的所述第二凹槽G2的方向进一步延伸,从而减小前述两个所述第二凹槽G2之间的间距,进而缩窄所述公共功能层410在此处的连通通道,以使得此处的横向漏流的大小保持在目标值以下。
此处仅是根据该特定的像素排布进行示例性的说明,在实际应用中,根据具体的像素排布结构,所述第二凹槽G2除了为上述的曲线型凹槽以外,还可为波浪形凹槽,折线形凹槽等。
在一些实施例中,还可通过在相邻两所述发光区A1间设置多个所述第二凹槽G2来进一步增强对所述公共功能层410的隔断能力,具体参阅图12,相邻两所述发光区A1之间设置有多个所述第二凹槽G2,多个所述第二凹槽G2沿一所述发光区中心指向另一所述发光区中心的方向间隔排布,例如图中示例性示出的相邻两所述发光区A1之间设置有两个所述第二凹槽G2,如此设置,当一所述第二凹槽G2未能完全将所述公共功能层410隔断时,通过增加相邻两所述发光区A1之间的所述第二凹槽G2的数量,以确保所述公共功能层410在相邻两所述发光区A1之间设置有所述第二凹槽G2的区域被完全隔断从而避免像素偷亮的显示不良。
在一些实施例中,参阅图2,该显示面板中通常还设置有支撑柱800,所述支撑柱800用于在蒸镀过程中对掩膜版进行支撑,为了避免所述第二凹槽G2的设置导致所述支撑柱800发生塌陷,所述第二凹槽G2避开所述支撑柱800设置。
可以理解的是,所述第二凹槽的排布方式根据实际的像素排布而进行设定,以上实施例结合一特定的像素排布示例性地说明,为了进一步清楚地示出该第二凹槽G2的设置方式,如下根据另一像素排布进行说明。
在一些实施例中,参阅图13,所述显示区同样包括多个间隔设置的发光区A1以及位于多个所述发光区之间的非发光区A2,所述发光区A1包括第一颜色发光区A11,第二颜色发光区A12以及第三颜色发光区A13,与前述实施例不同的是,所述第一颜色发光区A11,第二颜色发光区A12以及第三颜色发光区A13的形状与排布方式存在差异,各所述发光区A1均为矩形且沿第一方向X或第二方向Y间隔排布,基于此,在所述非发光区A2,对应设置沿所述第一方向X或第二方向Y延伸的呈长条矩形的所述第二凹槽G2,具体地,在相邻的所述第二颜色发光区A12与所述第三颜色发光区A13之间设置沿所述第二方向Y延伸的呈长条矩形的第二凹槽G2,在所述第一颜色发光区A11与相邻的所述第二颜色发光区A12以及第三颜色发光区A13之间设置所述第一方向X延伸的呈长条矩形的第二凹槽G2,同时所述第二凹槽G2避开支撑柱800区域设置。
在一些实施例中,参阅图14,与前一实施例所提供的显示面板大致相似,不同之处在于微调各所述第二凹槽G2的排布方式,同时在空缺区域增设呈方块状的第二凹槽G2,使得各所述第二颜色发光区A12或各所述第三颜色发光区A13的四周对应设置有四个所述第二凹槽G2,以此进一步减小相邻的两所述第二凹槽G2的间距,进而缩窄所述公共功能层在此处的连通通道,以使得此处的横向漏流的大小得以进一步降低。
在一些实施例中,参阅图15,与前一实施例所提供的显示面板大致相似,不同之处在于将前一实施例中的每一所述第二凹槽调整为两个间隔设置的第二凹槽G2,以进一步增强对所述公共功能层的隔断能力。
在一些实施例中,所述第二凹槽G2的设置范围位于所述像素定义层300的平坦区以内,从而避免破坏所述像素定义层300的原有形貌,即相邻设置的所述第一凹槽G1与所述第二凹槽G2之间存在一定的间距,避免因设置所述第二凹槽G2影响所述第一凹槽G1的原有形貌进而导致其他显示不良的问题出现。
在一些实施例中,所述第二凹槽G2可仅设置于相邻两所述发光区A1之间,位于边缘的所述发光区A1之外的区域不需设置所述第二凹槽G2。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见上文针对其他实施例的详细描述,此处不再赘述。
本发明另一实施例还提供了一种上述实施例中的显示面板的具体制备方法,参阅图16,该制备方法具体包括如下步骤:
S10:提供一基板,在所述基板上形成像素定义层,包括对应形成于所述发光区的第一凹槽以及形成于所述非发光区的第二凹槽,所述第二凹槽的开口处设置有凸起部;
S20:在所述基板以及所述像素定义层上形成发光器件层,所述发光器件层包括发光功能层与公共功能层,所述发光功能层位于所述发光区,所述公共功能层位于所述发光区与所述非发光区,所述公共功能层在所述第二凹槽处断开;
S30:在所述发光器件层上形成封装层,所述封装层包括形成于所述发光器件层上的第一封装子层,所述第一封装子层位于所述发光区与所述非发光区,所述第一封装子层在所述第二凹槽处连续,所述凸起部的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一。
如下结合图17a-图17g对该显示面板的制备方法进行详细说明:
参阅图17a,提供一基板100,在所述基板上形成第一电极层200,所述第一电极层200包括对应多个所述发光区设置的多个第一电极;
在所述第一电极层200与所述基板100上形成第一有机膜层300a,所述第一有机膜层300a包括对应形成于多个所述发光区的多个第一凹槽G1,一所述第一凹槽G1使得对应的一所述第一电极显露,其中所述第一有机膜层300a的材料为有机光阻,所述第一凹槽G1在对应光罩的遮蔽下通过曝光显影工艺所形成;
请参阅图17b,在所述第一有机膜层300a与所述第一电极层200上形成阻挡薄膜700,所述阻挡薄膜700的材料为金属或金属氧化物,例如可以为氧化铟锡、氧化铟锌、铜等,所述阻挡薄膜的厚度根据设计而定,例如所述阻挡膜层的厚度为5nm、10nm、15nm或20nm等;
请参阅图17c,对所述阻挡薄膜700的进行图案化工艺形成阻挡层710,所述在阻挡层710包括在所述非发光区的预设区域形成的开口711;
请参阅图17d,在所述阻挡层710的阻挡下,对所述第一有机膜层300a进行干蚀刻形成像素定义层300,在干蚀刻过程中,所述第一有机膜层300a被所述开口711暴露的区域在等离子体的轰击下被蚀刻形成第二凹槽G2,该第二凹槽G2的形状参阅图17e,为图17d中S2区域的放大结构示意图,所述第二凹槽G2的开口处形成向所述第二凹槽G2内部凸出的凸起部310;
参阅图17f,去除所述阻挡层710,具体地,该阻挡层可通过湿蚀刻工艺,使用对应的蚀刻酸剂将其溶解去除,补充说明的是,位于所述阻挡层710下侧的所述第一电极层200通常为氧化铟锡层/银层/氧化铟锡层的堆叠结构,该第一电极层200中的氧化铟锡层为经过热退火后的晶化氧化铟锡,而当所述阻挡层710的材料为氧化铟锡时,其具体为非晶化氧化铟锡,因此在去除所述阻挡层710时,所使用的蚀刻酸剂并不会对第一电极层200中的表层氧化铟锡层造成损伤;
参阅图17g,在所述第一电极层200与所述像素定义层300上依次形成发光器件层400、第二电极层500以及封装层600,所述发光器件层包括发光功能层与公共功能层410,所述发光功能层位于所述发光区A1,所述公共功能层410位于所述发光区A1与所述非发光区A2,所述封装层600包括形成于所述发光器件层400上的第一封装子层610,所述第一封装子层610位于所述发光区A1与所述非发光区A2,所述公共功能层410在所述第二凹槽G2处断开,所述第一封装子层610在所述第二凹槽G2处连续,且所述凸起部310的凸出距离小于或等于所述第一封装子层610厚度的十分之一,即完成所述显示面板的制备;
具体地,在形成所述第二凹槽G2的过程中,等离子体在纵向蚀刻进行开槽同时,也会进行一定量的横向蚀刻,由于所述开口711周侧设置有所述阻挡层710,该阻挡层710在蚀刻过程中对等离子体起到了一定的遮挡作用,使得沿垂直于所述基板100的方向,距离该阻挡层710近端的横向蚀刻程度相较距离该减弱阻挡层710远端的横向蚀刻程度弱,如此便使得所述第二凹槽G2开口处形成所述凸起部310,并使得所述凸起部310具有与所述像素定义层300远离所述基板100一侧侧面相齐平的第一侧面310a,以及连接所述第一侧面310a的第二侧面310b,且所述第二侧面310b与所述第一侧面310a间的夹角呈锐角;
但随着距离所述阻挡层710的距离越来越远,其对横向蚀刻的阻挡作用越来越弱直至消失,如此便使得所述第二侧面310b与所述第一侧面310a靠近所述第二凹槽内一端连接,其另一端向所述第二凹槽G2的侧壁的方向延伸并与所述第二凹槽G2的侧壁直接相连接;
另外,所述第二凹槽G2的侧壁与所述第二凹槽G2的底面的夹角大于90度的原因在于,越靠近上侧的区域被横向蚀刻的时间越长,但是出于增强所述第二凹槽G2对所述公共功能层410的阻挡能力,可通过对蚀刻参数的调整,使得所述第二凹槽G2的侧壁的倾斜程度尽可能地小或近乎于垂直所述基板100;
进一步地,由于该阻挡层710对等离子体的阻挡能力有限,可使得形成的所述凸起部310的凸出距离十分微小,进一步通过对蚀刻参数的调整,最终使得所述凸起部310的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一;
在本实施例提供的显示面板的制备方法中,通过上述特定的工艺在所述第二凹槽G2的开口处形成了所述凸起部310,那么所述公共功能层位于所述非发光区A2的部分覆盖所述第二凹槽G2时,便在所述第二凹槽G2的侧壁上发生断裂,从而减小相邻发光区之间的横向漏流,进而有效避免因像素偷亮而造成的显示不良的问题,同时又由于所述凸起部310的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一,该凸起部310对所述第一封装子层610在所述第二凹槽G2位置的沉积成膜影响微小,那么所述第一封装子层610位于所述非发光区A2的部分在对应所述第二凹槽G2上的区域仍能保证较厚的膜厚,从而保证所述封装层600具有较佳的封装可靠性;即,通过形成所述第二凹槽G2,在有效改善因像素偷亮而造成的显示不良的同时还能保证较佳的封装可靠性。
补充说明的是,目前显示面板中的凹槽结构通常都是通过图案化的光阻层作为阻挡而蚀刻形成,但光阻层在蚀刻的过程中不可避免地也会被蚀刻掉一部分,从而无法起到较好的横向蚀刻阻挡效果,而本实施例通过采用由金属或金属氧化物形成的阻挡层,其对蚀刻由光阻材料形成的像素定义层的等离子体不敏感,在蚀刻过程中基本不会与等离子体发生作用而被去除,因此可起到较好的横向蚀刻阻挡效果,从而使得所述第二凹槽的开口处形成具有特殊尺寸的所述凸起部。
本发明另一实施例还提供了一种显示装置,所述显示装置包括上述实施例所提供的显示面板,所述显示装置包括但不限于为手机、智能手表、平板电脑、笔记本电脑、电视机等。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板与显示装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括多个间隔设置的发光区以及位于各所述发光区之间的非发光区,所述显示面板包括:
基板;
像素定义层,设置于所述基板上,包括对应设置于所述发光区的第一凹槽以及设置于所述非发光区的第二凹槽;
发光器件层,设置于所述像素定义层以及所述基板上,包括发光功能层与公共功能层,所述发光功能层位于所述发光区,所述公共功能层位于所述发光区与所述非发光区;
封装层,设置于所述发光器件层上,包括设置于所述发光器件层上的第一封装子层,所述第一封装子层位于所述发光区与所述非发光区;
其中,所述第二凹槽的开口处设置有凸起部,所述公共功能层在所述第二凹槽处断开设置,所述第一封装子层在所述第二凹槽处连续设置,所述凸起部的凸出距离小于或等于所述第一封装子层厚度的十分之一。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二凹槽的侧壁与所述第二凹槽的底面之间的夹角大于或等于90度。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述凸起部的一端与所述第二凹槽开口处的侧壁接触,其另一端向所述第二凹槽内延伸设置。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述凸起部具有远离所述基板的一侧的第一侧面,所述第一侧面与所述像素定义层远离所述基板的一侧侧面平齐。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述凸起部具有与所述第一侧面靠近所述第二凹槽内一端连接的第二侧面,所述第二侧面与所述第一侧面间具有呈锐角的夹角。
6.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第二凹槽的侧壁与所述第二凹槽的底面之间的夹角大于90度且小于100度,所述第二凹槽的深度小于或等于所述像素定义层的最大厚度。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凸起部的凸出距离大于或等于所述公共功能层厚度的十分之一。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光功能层包括第一发光子层与第二发光子层,所述公共功能层包括设置于所述第一发光子层与所述第二发光子层间的电荷产生层;
所述电荷产生层在所述第二凹槽处断开设置。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,相邻两所述发光区之间设置有多个所述第二凹槽,至少部分所述第二凹槽沿相邻的一所述发光区边缘延伸设置。
10.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1-9任意一项所述的显示面板。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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