CN115893842B - 一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及陶瓷砖的制备技术领域，并公开了一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，其中，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，制备所述柔抛釉料层的材料为高耐污柔抛釉料，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶、透闪石、三氧化二铋和氧化锌。本发明通过对高耐污柔抛釉料的配方进行改进，使釉料中的气孔大大减少，从根本上解决釉层吸污问题，从而实现陶瓷砖的高耐污性能。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷技术领域，特别涉及一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
目前柔光砖的生产方法主要是对釉面进行抛光处理，使其釉面光泽度在25-35度之间，其具有柔和的光感，相对于亮光抛釉砖具有不眩晕不刺目的好处，近几年来深受消费者的喜爱。
目前柔光釉面砖普遍存在着吸污的问题，主要原因是釉面釉层中存在着较多气孔，在抛光后气孔裸露在釉面形成微细针孔，从而造成釉面吸污。柔抛砖相对于亮抛抛釉(95-100度)，柔光砖无法进行超洁亮处理，超洁亮处理可使釉面细小针孔封闭从而解决吸污问题，但因为超洁亮处理后光泽度会增加，所以在柔光砖上不适合做超洁亮处理。目前还没有在柔光砖产品上可以做到完全不吸污，这大大影响了柔光产品的应用推广。
因此，现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，旨在解决现有柔光釉面砖耐污性能较差的问题。
本发明的技术方案如下：
一种高耐污柔抛釉料，其中，所述高耐污柔抛釉料按重量份计包括：高透熔块70-80份、高岭土8-10份、煅烧氧化锌4-6份以及球粘土10-14份，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶、透闪石、三氧化二铋和氧化锌。
所述的高耐污柔抛釉料，其中，以重量份计，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶7-12份、透闪石12-16份、三氧化二铋4-10份和氧化锌5-8份。
所述的高耐污柔抛釉料，其中，以重量份计，所述高透熔块还包括如下制备原料：石英8-12份、钾长石10-17份、钠长石22-26份、煅烧高岭土10-16份和氧化铝3-5份。
一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖，其中，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，制备所述柔抛釉料层的材料包括本发明所述的高耐污柔抛釉料。
所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖，其中，所述底釉层的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅51.23％-53.65％、三氧化二铝25.32％-28.49％、氧化钾2.13％-3.58％、氧化钠1.85％-2.65％、氧化钙5.36％-6.53％、氧化镁1.32％-2.56％、氧化锌3.21％-4.56％、氧化钡4.32％-5.64％，其它为微量杂质及灼减。
所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖，其中，所述坯体层的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅65.20％-68.61％、三氧化二铝20.52％-22.49％、氧化钾2.13％-3.58％、氧化钠1.85％-2.65％、氧化钙1.36％-2.53％、氧化镁0.32％-0.56％、三氧化二铁0.52％-0.86％，其它为微量杂质及灼减。
一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖的制备方法，其中，包括步骤：
制备坯体层；
在所述坯体层上布施底釉层；
在所述底釉层上喷墨打印图案层；
在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层后进行烧制处理，制得陶瓷砖半成品；
对所述陶瓷砖半成品进行抛光处理，制得具有柔光耐污性能的陶瓷砖。
所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖的制备方法，其中，在所述坯体层上布施底釉层的步骤中，所述底釉层的施釉重量为200-220g/m2。
所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖的制备方法，其中，所述高耐污柔抛釉料的制备包括步骤：
按配方称取原料混合并进行1350-1500度的烧成处理，粹冷后得到高透熔块；
按配方将高透熔块、高岭土、煅烧氧化锌以及球粘土混合，加入水、甲基纤维素钠和三聚磷酸钠后进行球磨处理，制得高耐污柔抛釉料。
所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖的制备方法，其中，所述高耐污柔抛釉料中，水占总重量的30-50％，甲基纤维素钠占总重量的0.1-0.2％，三聚磷酸钠占总重量的0.3-0.4％；在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层的步骤中，布施高耐污柔抛釉料的比重为1.85-1.90克/ml，流速为33-38秒/100ml，施釉量为190-210克/㎡。
所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层后进行烧制处理的步骤中，烧制处理的温度为1150-1200℃，时间为50-70min。
有益效果：本发明通过对高耐污柔抛釉料的配方进行改进，使釉料中的气孔大大减少，从根本上解决釉层吸污问题，从而实现陶瓷砖的高耐污性能。
附图说明
图1为本发明实施例1制备的陶瓷砖中柔抛釉料层的显微放大图片。
图2为本发明对比例1制备的陶瓷砖中柔抛釉料层的显微放大图片。
具体实施方式
本发明提供一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
现有陶瓷砖容易吸污的主要原因是：陶瓷坯体在烧成过程中，各有机物和盐类化合物会分解产生气体，而气体在排出的过程中受到已经熔融封闭的釉层阻挡，即气体的排出受到釉层的阻力从而存留在釉层当中。当釉面经过抛削后，封闭在釉层中的气孔发生暴露，从而引起了釉面吸污的问题。
基于此，本发明提供了一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，制备所述柔抛釉料层的材料为高耐污柔抛釉料，所述高耐污柔抛釉料按重量份计包括：高透熔块70-80份、高岭土8-10份、煅烧氧化锌4-6份以及球粘土10-14份，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶、透闪石、三氧化二铋和氧化锌。
本发明主要通过对高耐污柔抛釉料的配方进行改进，使釉料中的气孔大大减少，从根本上解决釉层吸污问题，从而实现陶瓷砖的高耐污性能。具体来讲，本发明运用含有三氧化二铋、透闪石、氧化锌、硫酸锶等助熔物的材料，预先制成高透熔块，所述高透熔块再结合高岭土、煅烧氧化锌以及球粘土所制得的高耐污柔光釉料在同砖坯一起烧成时基本没有气孔存在，因此本发明制得的陶瓷砖经过抛光后不存在微细毛孔，不再需要进行毛细孔填充处理，可把光泽度控制在25-35的柔光光泽，同时防污性能优异，产品适应对于防污性能要求严格的区域应用。
在一些实施方式中，以重量份计，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶7-12份、透闪石12-16份、三氧化二铋4-10份和氧化锌5-8份。
在本实施例中，所述高透熔块包括硫酸锶7-12份，硫酸锶在烧成后分解留下Sr0成份，氧化锶为高温助熔熔剂，在高温下，能大大降低釉料的粘度，能使陶瓷砖在烧成时排气更容易进行，且保持粘度时长较久，使气孔的排出更加充分，所以其具有消除釉层中气孔的作用，若硫酸锶组份偏少则消除气孔作用不明显，若硫酸锶组份过多，则助熔作用增大，使釉料配方耐火度降低，则易造成釉料过烧反应。
在本实施例中，所述高透熔块包括透闪石12-16份，透闪石主要提供CaO，MgO和SiO2，这些氧化物具有较高的始熔点以及在高温下有较强的助熔做用，可使釉料熔融更加完全，在釉烧时可以使坯体气孔更易排出，大大减少了釉层中的气孔，从而从根本解决了吸污问题，透闪石在配方中少于12份时，助熔作用不够，釉层中气孔率偏大，透闪石在配方中大于16份时，CaO和MgO的含量会偏大，易造成釉面失透，影响图案清晰度。
在本实施例中，所述高透熔块还包括三氧化二铋4-10份，三氧化二铋具有较高的助熔作用，在釉料烧成过程中有着促使SiO2和其他氧化物结合形成玻璃相的作用，并且三氧化二铋具有立方萤石矿型结构，比较容易同玻璃相即硅氧四面体形成统一致密的网络结构，大大减少了釉层疏松以及气孔的存在，添加Bi2O3的釉料经过烧成后釉层更加致密，组份中三氧化二铋少于4份时，作用不够明显，当大于10份时，Bi2O3容易造成釉面过软，造成耐磨度偏低。
在本实施例中，所述高透熔块还包括氧化锌5-8份，氧化锌作为一种强助熔剂，其在高温烧成阶段具有强的助熔作用，并具有促使Bi2O3同硅氧四面体紧密结合的作用，使釉料更具有活性，氧化锌的含量小于5时上述作用较小，达不到效果，当大于8时氧化锌容易过量晰晶，影响釉面效果。在本发明中，氧化锌区别于煅烧氧化锌，煅烧氧化锌不含结构水，高耐污柔抛釉料中使用煅烧氧化锌是为了减少釉料的灼减，而高透熔块的制备中使用氧化锌可降低生产成本。
在一些实施方式中，以重量份计，所述高透熔块还包括如下制备原料：石英8-12份、钾长石10-17份、钠长石22-26份、煅烧高岭土10-16份和氧化铝3-5份。
在本实施例中，所述高透熔块包括石英8-12份，所述石英的主要成分为二氧化硅，是形成玻璃相硅氧四面体的主要成分，其用量在8-12份，若用量偏少则形成的玻璃相不足，严重影响釉面的透明度，若用量偏多，则二氧化硅过量会引起釉面在烧成的温度下粘度过大使气体难以排出，从而引起釉层封闭气孔较多造成吸污问题。
在本实施例中，所述高透熔块包括钾长石10-17份和钠长石22-26份，所述钾长石、钠长石作用相同，主要提供一价氧化物K2O、Na2O以及化合物形式SiO2和Al2O3，主要作用为降低釉料的烧成温度，加快釉料的成熟速度，减少烧成时间，若两者用量总数少于32份，则降低烧成温度不明显，烧成后釉料易生烧，表现为光泽度偏高，若两者用量总数大于43份，则釉料成熟温度过低，在烧成后釉料易过少，形成较多针孔。
在本实施例中，所述高透熔块还包括煅烧高岭土10-16份，煅烧高岭土的作用主要是提供Al2O3和SiO2，为釉料的主要骨架，保证釉料在砖坯表面成型，以及提高釉料的始熔温度，在坯体还在排气过程中釉料还没完全变为液相，保证坯体初始排气顺畅进行，若煅烧高岭土少于10份，则釉料初始温度偏低会造成釉料过早熔融，若煅烧高岭土多于16份，会造成釉料高温粘度偏大，而使气孔难以排出。在本发明中，所述煅烧高岭土区分于高岭土，未经过煅烧的高岭土含有较多有机物，具有较高的塑性和悬浮性；高岭土经过煅烧后形成煅烧高岭土，煅烧高岭土的铝含量较高，高耐污柔抛釉料中使用未煅烧的高岭土主要作用是增加釉浆的悬浮性能，防止釉浆沉淀；而高透熔块的制备不需要增加悬浮性，使用煅烧高岭土能够提高高透熔块的生产效率。
在本实施例中，所述高透熔块还包括氧化铝3-5份，氧化铝为较高温的材料，主要提升釉料的烧成温度范围，同时提高釉料的硬度，保证釉料具有较高的耐磨性，同时避免了釉料在烧成时过于熔融造成流釉现象。
在一些实施方式中，所述底釉层的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅51.23％-53.65％、三氧化二铝25.32％-28.49％、氧化钾2.13％-3.58％、氧化钠1.85％-2.65％、氧化钙5.36％-6.53％、氧化镁1.32％-2.56％、氧化锌3.21％-4.56％、氧化钡4.32％-5.64％，其它为微量杂质及灼减。
在一些实施方式中，所述坯体层为常规坯体配方，其化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅65.20％-68.61％、三氧化二铝20.52％-22.49％、氧化钾2.13％-3.58％、氧化钠1.85％-2.65％、氧化钙1.36％-2.53％、氧化镁0.32％-0.56％、三氧化二铁0.52％-0.86％，其它为微量杂质及灼减。
在一些实施方式中，还提供一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖的制备方法，其包括步骤：制备坯体层；在所述坯体层上布施底釉层；在所述底釉层上喷墨打印图案层；在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层后进行烧制处理，制得陶瓷砖半成品；对所述陶瓷砖半成品进行抛光处理，制得具有柔光耐污性能的陶瓷砖。
在本发明中，布施底釉的目的是用来遮盖坯体层底色和瑕疵，增加釉面的白度，有利于后序喷墨打印图案的发色，施釉重量太少达不到遮盖底坯色的效果，不利于后序喷墨打印图案发色，施釉重量太高将导致釉层太厚，釉浆流边，既造成浪费，又将导致烧成过程中釉浆流入窑炉辊棒中，日积月累形成棒钉导致堵窑。基于此，本实施例在所述坯体层上布施底釉层的过程中，所述底釉层的施釉重量为200-220g/m2。
在本发明中，所述高耐污柔抛釉料的制备包括步骤：按重量份计将石英8-12份、钾长石10-17份、钠长石22-26份、煅烧高岭土10-16份、硫酸锶7-12份、透闪石12-16份、三氧化二铋4-10份、氧化铝3-5份以及氧化锌5-8份混合并进行1350-1500度的烧成处理，粹冷后得到高透熔块；按重量份计将高透熔块70-80份、高岭土8-10份、煅烧氧化锌4-6份以及球粘土10-14份混合，加入水、甲基纤维素钠和三聚磷酸钠后进行球磨处理，制得高耐污柔抛釉料，其中，水占总重量的30-50％，甲基纤维素钠占总重量的0.1-0.2％，三聚磷酸钠占总重量的0.3-0.4％。所述甲基纤维素钠具有较强的悬浮性，保证釉浆不沉淀分层，三聚磷酸钠起到减水剂的作用，保证釉浆在含水率较低时也具有较好的流动性。
在本发明中，在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层的步骤中，布施高耐污柔抛釉料的比重为1.85-1.90克/ml，流速为33-38秒/100ml，施釉量为190-210克/㎡。釉浆比重小于1.85克/ml，釉浆在淋釉时釉幕不稳定，会较飘，而1.90克/ml，为釉浆比重上线，较难以再高。流速小于33秒则淋釉时釉幕较不稳定，大于38秒流动性偏差，难以施淋。施釉量少于190克时，则釉面较薄，在抛光工序容易造成抛光薄釉缺陷。当施釉量大于210克时，则釉层过厚，容易造成釉料排气困难，气孔率偏多，造成防污性能差。
在本发明中，在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层后进行烧制处理的步骤中，烧制处理的温度为1150-1200℃，时间为50-70min。
下面通过具体实施例对本发明做进一步的解释说明：
实施例1
提供一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，其制备步骤包括：
高透熔块的制备：选取石英10份，钾长石13份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份，经过精准配料后，运送至高温熔块炉，经过1400度的烧成，及粹冷后得到高透熔块；
高耐污柔抛釉料的制备：选取高透熔块75份，高岭土9份，煅烧氧化锌5份，球粘土12份；加入总质量40％的水，0.15％的甲基纤维素钠，0.35％的三聚磷酸钠，经过球磨得到流速在35秒/100ml，比重在1.85克/ml，细度在325目筛余在0.7％的釉浆；
压制砖坯，形成坯体层，坯体层规格及厚度不限制；
经过干燥后的砖坯，进行施淋底釉，底釉的主要成分为：SiO2：52.33％，Al2O3：26.34％，K2O：2.83％，Na2O：2.05％，CaO：5.96％，MgO：2.06％，ZnO：3.82％，BaO：4.50％，其余为微量杂质及灼减，底釉施釉量为210克/㎡，施淋完底釉后的砖坯形成底釉层；
经过施淋底釉的砖坯，进行图案打印，形成图案层；
形成图案层的砖坯进行施淋高耐污柔抛釉料，得到高耐污柔抛釉料层。所述高耐污柔抛釉料比重为1.88克/ml，流速为35秒/100ml，施釉量为200克/㎡；
经过施淋高耐污柔抛釉料的砖坯，进入辊道窑进行烧成，烧成温度为1180℃，时间为60min，得到高耐污柔光陶瓷砖半成品；
把经过烧成后的高耐污柔光陶瓷砖半成品经过抛光得到光泽度为30度的高耐污柔光陶瓷砖。
实施例2
提供一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，其制备步骤包括：
高透熔块的制备：选取石英10份，钾长石13份，钠长石26份，煅烧高岭土13份，硫酸锶7份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份，经过精准配料后，运送至高温熔块炉，经过1350度的烧成，及粹冷后得到高透熔块；
高耐污柔抛釉料的制备：选取高透熔块70份，高岭土8份，煅烧氧化锌4份，球粘土10份；加入总质量30％的水，0.10％的甲基纤维素钠，0.30％的三聚磷酸钠，经过球磨得到流速在33秒/100ml，比重在1.85克/ml，细度在325目筛余在0.6％的釉浆；
压制砖坯，形成坯体层，坯体层规格及厚度不限制；
经过干燥后的砖坯，进行施淋底釉，底釉的主要成分包括SiO2：51.23％，Al2O3：25.32％，K2O：2.13％，Na2O：1.85％，CaO：5.36％，MgO：1.32％，ZnO：3.21％，BaO：4.32％，其余为微量杂质及灼减，底釉施釉量为200克/㎡，施淋完底釉后的砖坯形成底釉层；
经过施淋底釉的砖坯，进行图案打印，形成图案层；
形成图案层的砖坯进行施淋高耐污柔抛釉料，得到高耐污柔抛釉料层。所述高耐污柔抛釉料比重为1.85克/ml，流速为33秒/100ml，施釉量为190克/㎡；
经过施淋高耐污柔抛釉料的砖坯，进入辊道窑进行烧成，烧成温度为1150℃，时间为70min，得到高耐污柔光陶瓷砖半成品；
把经过烧成后的高耐污柔光陶瓷砖半成品经过抛光得到光泽度为25度的高耐污柔光陶瓷砖。
实施例3
提供一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，其制备步骤包括：
高透熔块的制备：选取石英10份，钾长石13份，钠长石21份，煅烧高岭土13份，硫酸锶12份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份，经过精准配料后，运送至高温熔块炉，经过1500度的烧成，及粹冷后得到高透熔块；
高耐污柔抛釉料的制备：选取高透熔块80份，高岭土10份，煅烧氧化锌6份，球粘土14份；加入总质量50％的水，0.20％的甲基纤维素钠，0.40％的三聚磷酸钠，经过球磨得到流速在38秒/100ml，比重在1.90克/ml，细度在325目筛余在0.8％的釉浆；
压制砖坯，形成坯体层，坯体层规格及厚度不限制；
经过干燥后的砖坯，进行施淋底釉，底釉的主要成分包括SiO2：53.65％，Al2O3：28.49％，K2O：3.58％，Na2O：2.65％，CaO：6.53％，MgO：2.56％，ZnO：4.56％，BaO：5.64％，其余为微量杂质及灼减，底釉施釉量为200-220克/㎡，施淋完底釉后的砖坯形成底釉层；
经过施淋底釉的砖坯，进行图案打印，形成图案层；
形成图案层的砖坯进行施淋高耐污柔抛釉料，得到高耐污柔抛釉料层。所述高耐污柔抛釉料比重为1.90克/ml，流速为38秒/100ml，施釉量为210克/㎡；
经过施淋高耐污柔抛釉料的砖坯，进入辊道窑进行烧成，烧成温度为1200℃，时间为50min，得到高耐污柔光陶瓷砖半成品；
把经过烧成后的高耐污柔光陶瓷砖半成品经过抛光得到光泽度为35度的高耐污柔光陶瓷砖。
实施例4
本实施例4提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本实施例4中的高透熔块包括石英10份，钾长石15份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石12份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
实施例5
本实施例5提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本实施例5中的高透熔块包括石英10份，钾长石11份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石16份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
实施例6
本实施例6提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本实施例6中的高透熔块包括石英10份，钾长石16份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋4份，氧化铝4份，氧化锌6份。
实施例7
本实施例7提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本实施例7中的高透熔块包括石英10份，钾长石10份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋10份，氧化铝4份，氧化锌6份。
实施例8
本实施例8提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本实施例8中的高透熔块包括石英10份，钾长石14份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌5份。
实施例9
本实施例9提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本实施例9中的高透熔块包括石英10份，钾长石10份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋10份，氧化铝4份，氧化锌6份。
实施例10
本实施例10提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高耐污柔抛釉料的配方比例不同，本实施例10中的高耐污柔抛釉料包括高透熔块70份，高岭土10份，煅烧氧化锌6份，球粘土14份。
实施例11
本实施例11提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高耐污柔抛釉料的配方比例不同，本实施例11中的高耐污柔抛釉料包括高透熔块80份，高岭土8份，煅烧氧化锌4份，球粘土10份。
对比例1
本对比例1提供的一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方中不含有硫酸锶，配方中的其他成分同实施例。
对比例2
本对比例2提供的一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方中不含有透闪石，配方中的其他成分同实施例。
对比例3
本对比例3提供的一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方中不含有氧化锌，配方中的其他成分同实施例。
对比例4
本对比例4提供的一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方中不含有三氧化二铋，配方中的其他成分同实施例。
对比例5
本对比例5提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例5中的高透熔块包括石英10份，钾长石17份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶5份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例6
本对比例6提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例6中的高透熔块包括石英10份，钾长石13份，钠长石17份，煅烧高岭土13份，硫酸锶14份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例7
本对比例7提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例7中的高透熔块包括石英10份，钾长石20份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例8
本对比例4提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例8中的高透熔块包括石英10份，钾长石13份，钠长石27份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石11份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例9
本对比例9提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例9中的高透熔块包括石英10份，钾长石13份，钠长石20份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石18份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例10
本对比例10提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例10中的高透熔块包括石英10份，钾长石20份，钠长石31份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例11
本对比例11提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例11中的高透熔块包括石英10份，钾长石17份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋12份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例12
本对比例12提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例12中的高透熔块包括石英10份，钾长石13份，钠长石19份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋12份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例13
本对比例13提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例13中的高透熔块包括石英10份，钾长石17份，钠长石27份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，氧化铝4份，氧化锌6份。
对比例14
本对比例14提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例14中的高透熔块包括石英10份，钾长石16份，钠长石24份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌3份。
对比例15
本对比例15提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例15中的高透熔块包括石英10份，钾长石13份，钠长石20份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份，氧化锌10份。
对比例16
本对比例16提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高透熔块的配方不同，本对比例16中的高透熔块包括石英10份，钾长石16份，钠长石27份，煅烧高岭土13份，硫酸锶9份，透闪石14份，三氧化二铋7份，氧化铝4份。
对比例17
本对比例17提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高耐污柔抛釉料的配方比例不同，本对比例16中的高耐污柔抛釉料包括高透熔块65份，高岭土15份，煅烧氧化锌6份，球粘土14份。
对比例18
本对比例18提供的具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法与实施例1基本相同，区别仅在于所用高耐污柔抛釉料的配方比例不同，本对比例18中的高耐污柔抛釉料包括高透熔块85份，高岭土5份，煅烧氧化锌4份，球粘土6份。
测试例
对实施例1-11以及对比例1-18中的陶瓷砖进行性能测试，对于本发明高耐污柔光陶瓷砖的防污检测方法依据GB/T38100.14-2016检测标准，采用的检测物质主要有：轻油中的铬绿、轻油中的红色污染物、13g/L的碘酒液、橄榄油。达到3级为符合国标，最高等级为5级。各实施例及对比例的防污检测级别如表1所示。
表1测试结果
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通过上述表1结果可以看出，本实施例1-11制备的陶瓷砖的光泽度在25-35度之间，其防污性能明显好于对比例1-18制得的陶瓷砖，本实施例1-11制备的陶瓷砖对于轻油中的铬绿、轻油中的红色污染物、13g/L的碘酒液以及橄榄油的防污级别均超过4级，符合国标。
对实施例1和对比例1制得的陶瓷砖中柔抛釉料层进行显微放大，结果如图1和图2所示，从图1和图2可以看出。实施例中所呈现的釉面釉层中具有较少的气孔，基本无气孔，而对比例中釉层具有较多的气孔，且有的气孔较大，基本处于釉层表面，在随着使用时会造成气孔裸露，而造成防污性能差。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种高耐污柔抛釉料，其特征在于，所述高耐污柔抛釉料按重量份计包括：高透熔块70-80份、高岭土8-10份、煅烧氧化锌4-6份以及球粘土10-14份，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶7-12份、透闪石12-16份、三氧化二铋4-10份、氧化锌5-8份、石英8-12份、钾长石10-17份、钠长石22-26份、煅烧高岭土10-16份和氧化铝3-5份。
2.一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖，其特征在于，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，制备所述柔抛釉料层的材料包括权利要求1所述的高耐污柔抛釉料。
3.根据权利要求2所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖，其特征在于，所述底釉层的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅51.23％-53.65％、三氧化二铝25.32％-28.49％、氧化钾2.13％-3.58％、氧化钠1.85％-2.65％、氧化钙5.36％-6.53％、氧化镁1.32％-2.56％、氧化锌3.21％-4.56％、氧化钡4.32％-5.64％，其它为微量杂质及灼减；
所述坯体层的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅65.20％-68.61％、三氧化二铝20.52％-22.49％、氧化钾2.13％-3.58％、氧化钠1.85％-2.65％、氧化钙1.36％-2.53％、氧化镁0.32％-0.56％、三氧化二铁0.52％-0.86％，其它为微量杂质及灼减。
4.一种如权利要求2或3所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括步骤：
制备坯体层；
在所述坯体层上布施底釉层；
在所述底釉层上喷墨打印图案层；
在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层后进行烧制处理，制得陶瓷砖半成品；
对所述陶瓷砖半成品进行抛光处理，制得具有柔光耐污性能的陶瓷砖。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述坯体层上布施底釉层的步骤中，所述底釉层的施釉重量为200-220g/m2。
6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述高耐污柔抛釉料的制备包括步骤：
按配方称取原料混合并进行1350-1500度的烧成处理，淬冷后得到高透熔块；
按配方将高透熔块、高岭土、煅烧氧化锌以及球粘土混合，加入水、甲基纤维素钠和三聚磷酸钠后进行球磨处理，制得高耐污柔抛釉料。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述高耐污柔抛釉料中，水占总重量的30-50％，甲基纤维素钠占总重量的0.1-0.2％，三聚磷酸钠占总重量的0.3-0.4％；
在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层的步骤中，布施高耐污柔抛釉料的比重为1.85-1.90克/ml，流速为33-38秒/100ml，施釉量为190-210克/㎡。
8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述图案层上布施高耐污柔抛釉料形成柔抛釉料层后进行烧制处理的步骤中，烧制处理的温度为1150-1200℃，时间为50-70min。
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