CN115701290A - 光学层积体、以及具备该光学层积体的偏振片、表面板和图像显示装置 - Google Patents
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Abstract
提供一种光学层积体，其不使用特定材质的易粘接层，面取向度ΔP高的聚酯膜与易粘接层的密合性优异，并且抑制了局部缺陷。一种光学层积体，其在聚酯膜上具有易粘接层、凹凸层和防污层，将上述聚酯膜的面内的慢轴方向的折射率定义为nx、将在该面内与慢轴正交的方向的折射率定义为ny、将上述聚酯膜的厚度方向的折射率定义为nz时，上述聚酯膜满足下述式1‑2，对于上述凹凸层，将上述凹凸层的表面的三维偏斜度定义为Ssk、将上述凹凸层的表面的三维算术平均粗糙度定义为Sa时，Ssk和Sa满足下述式2‑1。0.140≤ΔP(1‑2)0.80≤A≤1.90(2‑1)[式1‑2中，“ΔP”表示“((nx+ny)/2)‑nz”。][式2‑1中，“A”表示“log10(Sa[μm]×100/Ssk)”。其中，0＜Ssk]。
Description
技术领域
本发明涉及光学层积体、以及具备该光学层积体的偏振片、表面板和图像显示装置。
背景技术
在液晶显示装置、有机EL显示装置、微型LED显示装置、小型LED显示装置、使用量子点的显示装置等图像显示装置中，出于改善图像的可见性、以及抑制装置表面的损伤等目的，配置有各种光学层积体。这种光学层积体多由在塑料膜上具备凹凸层等功能层的构成形成。并且，作为光学层积体的塑料膜，优选使用光学各向异性小的三乙酰纤维素膜。本说明书中，有时将“三乙酰纤维素膜”称为“TAC膜”。
但是，TAC膜在尺寸稳定性和机械强度方面存在问题，特别是在大屏幕的图像显示装置中上述问题显著发生。
因此，作为替代TAC膜的物质，提出了聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等聚酯膜。本说明书中，有时将“聚对苯二甲酸乙二醇酯膜”称为“PET膜”。
但是，在将PET膜应用于液晶显示装置和有机EL显示装置之类的输出偏振光的图像显示装置的情况下，由于PET膜的面内相位差，会产生被称为虹斑的彩虹状的干涉图案，存在使可见性降低的问题。
作为针对虹斑的对策，提出了使PET膜的面内相位差极大的手段(例如专利文献1)。
专利文献1的使面内相位差极大的PET膜是通过将PET膜进行单向拉伸而得到的。但是，单向拉伸膜具有在拉伸方向上容易破裂等问题。
作为针对虹斑的对策，与专利文献1相反，考虑了减小PET膜的面内相位差的手段。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-107198号公报
专利文献2：日本特开2012-32819号公报
专利文献3：日本特开2016-6530号公报
发明内容
发明所要解决的课题
面内相位差小的PET膜例如可以通过降低拉伸倍率而得到。但是，降低了拉伸倍率的PET膜由于厚度方向的取向不一致，机械强度降低，因此存在缺乏实用性的问题。
另外，作为面内相位差小的PET膜，可以举出专利文献2和3的PET膜。专利文献2和3的PET膜与通用的双向拉伸PET膜相比，通过减小作为流动方向的MD方向与作为宽度方向的TD方向的拉伸倍率差等，减小了面内相位差。
专利文献2和3那样的不降低拉伸倍率而减小了面内相位差的PET膜具有面取向度ΔP高的特征。这种面取向度ΔP高的双向拉伸PET膜由于易粘接层的密合性差，因此在易粘接层上赋予功能层时，存在PET膜与易粘接层的界面容易剥离的问题。上述问题可通过适用密合性优异的材质的易粘接层来解决。但是，在上述解决手段中，易粘接层的材质的选择范围有限，产品设计存在限制，因此缺乏实用性。另外，在进行光学层积体整体的光学设计的情况下，在PET膜上存在特定材质的易粘接层时，形成于易粘接层上的功能层的材料也存在限制。
另外，藉由易粘接层在面取向度ΔP高的双向拉伸PET膜上形成了功能层的情况下，透射率和反射率局部不同等，有时会在光学层积体产生局部缺陷。
鉴于上述课题，本发明的目的在于提供一种光学层积体，其不使用特定材质的易粘接层，面取向度ΔP高的聚酯膜与易粘接层的密合性优异，并且抑制了局部缺陷；并且提供具备该光学层积体的偏振片、表面板和图像显示装置。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本发明提供下述[1]～[4]。
[1]一种光学层积体，其在聚酯膜上具有易粘接层、凹凸层和防污层，
将上述聚酯膜的面内的慢轴方向的折射率定义为nx、将在该面内与慢轴正交的方向的折射率定义为ny、将上述聚酯膜的厚度方向的折射率定义为nz时，上述聚酯膜满足下述式1-2，
对于上述凹凸层，将上述凹凸层的表面的三维偏斜度定义为Ssk、将上述凹凸层的表面的三维算术平均粗糙度定义为Sa时，Ssk和Sa满足下述式2-1。
0.140≤ΔP (1-2)
0.80≤A≤1.90 (2-1)
[式1-2中，“ΔP”表示“((nx+ny)/2)-nz”。]
[式2-1中，“A”表示“log10(Sa[μm]×100/Ssk)”。其中，0＜Ssk。]
[2]一种偏振片，其为具有偏振元件、配置于上述偏振元件的一侧的第一透明保护板和配置于上述偏振元件的另一侧的第二透明保护板的偏振片，其中，上述第一透明保护板和上述第二透明保护板中的至少一者为上述[1]所述的光学层积体，按照上述防污层侧的面朝向与上述偏振元件相反一侧的方式配置上述光学层积体。
[3]一种图像显示装置用的表面板，其为在树脂板或玻璃板上贴合有光学层积体的图像显示装置用的表面板，其中，上述光学层积体为上述[1]所述的光学层积体，按照上述防污层侧的面朝向与上述树脂板或上述玻璃板相反一侧的方式配置上述光学层积体。
[4]一种图像显示装置，在显示元件上按照上述[1]所述的光学层积体的防污层侧的面朝向与上述显示元件相反一侧的方式进行配置，并且上述光学层积体配置在表面。
发明的效果
本发明的光学层积体、以及具备该光学层积体的偏振片、表面板和图像显示装置不使用特定材质的易粘接层，能够改善面取向度ΔP高的聚酯膜与易粘接层的密合性，并且能够抑制光学层积体的局部缺陷。
附图说明
图1是示意性地说明本发明的光学层积体的一个实施方式的截面图。
具体实施方式
下面，对本发明的光学层积体进行详细说明。
需要说明的是，本说明书中的“AA～BB”的数值范围的描述是指“AA以上BB以下”。
[光学层积体]
本发明的光学层积体在聚酯膜上具有易粘接层、凹凸层和防污层，
将上述聚酯膜的面内的慢轴方向的折射率定义为nx、将在该面内与慢轴正交的方向的折射率定义为ny、将上述聚酯膜的厚度方向的折射率定义为nz时，上述聚酯膜满足下述式1-2，
对于上述凹凸层，将上述凹凸层的表面的三维偏斜度定义为Ssk、将上述凹凸层的表面的三维算术平均粗糙度定义为Sa时，Ssk和Sa满足下述式2-1。
0.140≤ΔP (1-2)
0.80≤A≤1.90 (2-1)
[式1-2中，“ΔP”表示“((nx+ny)/2)-nz”。]
[式2-1中，“A”表示“log10(Sa[μm]×100/Ssk)”。其中，0＜Ssk。]
图1是示意性地说明本发明的光学层积体的一个实施方式的截面图。图1的光学层积体100在聚酯膜10上依次具有易粘接层20、凹凸层30和防污层40。
<聚酯膜>
对于聚酯膜来说，将面内的慢轴方向的折射率定义为nx、将在该面内与慢轴正交的方向的折射率定义为ny、将上述聚酯膜的厚度方向的折射率定义为nz时，需要满足下述式1-2。
0.140≤ΔP (1-2)
[式1-2中，“ΔP”表示“((nx+ny)/2)-nz”。]
本说明书中，只要不特别提及，则nx、ny和nz等折射率、面内相位差以及厚度方向的相位差是指波长550nm下的值。本说明书中，有时将“面内相位差”记为“Re”，将“厚度方向的相位差”记为“Rth”。
《式1-2》
式1-2规定了“((nx+ny)/2)-nz”所表示的ΔP为0.140以上。ΔP被称为面取向度，是表示膜的整个面的取向强度的参数。
ΔP小于0.140的情况下，聚酯膜的机械强度变得不充分，进而光学层积体的铅笔硬度等物理物性降低。
ΔP优选为0.145以上、更优选为0.150以上。需要说明的是，近来的图像显示装置增加了曲面设计，因此在同时考虑铅笔硬度和弯曲性的情况下，△P的下限优选为0.160以上、更优选为0.176以上。
ΔP过大的情况下，有时难以使nx-ny为0.0250以下。因此，ΔP优选为0.250以下、更优选为0.220以下、进一步优选为0.200以下。
作为ΔP的范围的实施方式，可以举出0.140以上、0.140以上0.250以下、0.140以上0.220以下、0.140以上0.200以下、0.145以上0.250以下、0.145以上0.220以下、0.145以上0.200以下、0.150以上0.250以下、0.150以上0.220以下、0.150以上0.200以下、0.160以上0.250以下、0.160以上0.220以下、0.160以上0.200以下、0.176以上、0.176以上0.250以下、0.176以上0.220以下、0.176以上0.200以下。
本发明的光学层积体的聚酯膜需要满足上述式1-2。满足上述式1-2的聚酯膜具有上述物理特性，但另一方面密合性差。本发明的光学层积体通过在满足上述式1-2的聚酯膜上依次形成易粘接层、特定的凹凸层，并且在特定的凹凸层上形成防污层，可改善聚酯膜与易粘接层的密合性，进而改善了作为光学层积体整体的密合性。能够改善作为光学层积体的密合性的理由如后所述。
聚酯膜的nx、ny和nz、以及后述面内相位差和厚度方向的相位差例如可以利用大塚电子公司的商品名“RETS-100”进行测定。
本说明书中，只要不特别声明，则nx、ny、nz、ΔP、Re、Rth、Sa、Ssk、A是指16处测定值的除最小值和最大值以外的14处测定值的平均值。需要说明的是，“A”为式2-1的“A”。
本说明书中，上述16个测定部位优选的是，将距测定样品的外缘0.5cm的区域作为空白，对于较上述空白更靠内侧的区域，画出将纵向和横向5等分的线时，将16处交点作为测定的中心。例如，在测定样品为四边形的情况下，将距四边形的外缘0.5cm的区域作为空白，将较上述空白更靠内侧的区域沿纵向和横向5等分，将所得虚线的16处交点作为中心进行测定。并且，将除最小值和最大值以外的14处的平均值作为各参数的值。
测定样品为圆形、椭圆形、三角形、五边形等四边形以外的形状时，优选画出与这些形状内接的四边形，对于上述四边形，利用上述方法进行16处的测定。
本说明书中，只要不特别声明，则测定各种参数的气氛为温度23℃±5℃、相对湿度40％以上65％以下。另外，只要不特别声明，则在各测定之前将样品在上述气氛暴露30分钟以上。
《式1-1》
聚酯膜优选满足下述式1-1。
nx-ny≤0.0250 (1-1)
式1-1规定了聚酯膜的面内的慢轴方向的折射率nx与在该面内与慢轴正交的方向即快轴方向的折射率ny之差小。
不满足式1-1，nx-ny超过0.0250的情况下，无法抑制由面内相位差引起的虹斑。
本说明书中，只要不特别提及，则虹斑是指用裸眼观察时的虹斑。
另外，在nx-ny超过0.0250的情况下，聚酯膜的折射率的差异根据观察方向而增大，由此光学层积体的反射率根据方向而变动的程度增加。当光学层积体的反射率根据方向变动时，有时容易识别出在不满足条件2-1时产生的局部缺陷。通过使nx-ny为0.0250以下，能够容易抑制识别出局部缺陷。
nx-ny更优选为0.0240以下、进一步优选为0.0230以下。
nx-ny过小时，难以抑制黑屏。因此，nx-ny优选为0.0050以上、更优选为0.0080以上、进一步优选为0.0100以上。
本说明书中，黑屏是指下述现象：在隔着偏光太阳镜观察依次通过偏振元件和聚酯膜的光时，整个面变暗。
在本说明书所示的构成要素中，分别示出多个数值的上限选项和下限选项的情况下，可以将从上限的选项选出的一个与从下限的选项选出的一个组合，作为数值范围的实施方式。
例如，在nx-ny的情况下，可以举出0.0250以下、0.0050以上0.0250以下、0.0050以上0.0240以下、0.0050以上0.0230以下、0.0080以上0.0250以下、0.0080以上0.0240以下、0.0080以上0.0230以下、0.0100以上0.0250以下、0.0100以上0.0240以下、0.0100以上0.0230以下的数值范围的实施方式。
《其他物性》
聚酯膜优选面内相位差和厚度方向的相位差等其他物性为下述范围。
本说明书中，面内相位差和厚度方向的相位差是指由下式计算出的值。下式的“T”是指聚酯膜的厚度。
面内相位差(Re)＝(nx-ny)×T[nm](1)
厚度方向的相位差(Rth)＝((nx+ny)/2-nz)×T[nm](2)
-面内相位差(Re)-
聚酯膜的面内相位差优选为1200nm以下、更优选为1100nm以下、更优选为1000nm以下、更优选为950nm以下。
通过使面内相位差为1200nm以下，能够容易抑制虹斑。
聚酯膜的面内相位差优选为50nm以上、更优选为100nm以上、更优选为150nm以上、更优选为200nm以上、更优选为250nm以上、更优选为300nm以上、更优选为400nm以上。
通过使面内相位差为50nm以上，能够容易抑制黑屏。其原因是由于，面内相位差的平均值小于50nm的聚酯膜几乎不能扰乱线偏振光，使线偏振光直接透过，另一方面，面内相位差的平均值为50nm以上的聚酯膜会扰乱线偏振光。需要说明的是，为了改善聚酯膜的铅笔硬度等机械强度，面内相位差优选为520nm以上、更优选为620nm以上。
作为聚酯膜的面内相位差的范围的实施方式，可以举出50nm以上1200nm以下、50nm以上1100nm以下、50nm以上1000nm以下、50nm以上950nm以下、100nm以上1200nm以下、100nm以上1100nm以下、100nm以上1000nm以下、100nm以上950nm以下、150nm以上1200nm以下、150nm以上1100nm以下、150nm以上1000nm以下、150nm以上950nm以下、200nm以上1200nm以下、200nm以上1100nm以下、200nm以上1000nm以下、200nm以上950nm以下、250nm以上1200nm以下、250nm以上1100nm以下、250nm以上1000nm以下、250nm以上950nm以下、300nm以上1200nm以下、300nm以上1100nm以下、300nm以上1000nm以下、300nm以上950nm以下、400nm以上1200nm以下、400nm以上1100nm以下、400nm以上1000nm以下、400nm以上950nm以下、520nm以上1200nm以下、520nm以上1100nm以下、520nm以上1000nm以下、520nm以上950nm以下、620nm以上1200nm以下、620nm以上1100nm以下、620nm以上1000nm以下、620nm以上950nm以下。
-厚度方向的相位差(Rth)-
聚酯膜的厚度方向的相位差优选为2000nm以上、更优选为3000nm以上、进一步优选为4000nm以上、更进一步优选为5000nm以上。
通过使聚酯膜的厚度方向的相位差为2000nm以上，不仅是正面方向，还能够容易抑制从斜向观察时的黑屏。
为了容易使Re/Rth为后述范围，聚酯膜的厚度方向的相位差优选为15000nm以下、更优选为12000nm以下、进一步优选为9000nm以下。
作为聚酯膜的面内相位差的范围的实施方式，可以举出2000nm以上15000nm以下、2000nm以上12000nm以下、2000nm以上9000nm以下、3000nm以上15000nm以下、3000nm以上12000nm以下、3000nm以上9000nm以下、4000nm以上15000nm以下、4000nm以上12000nm以下、4000nm以上9000nm以下、5000nm以上15000nm以下、5000nm以上12000nm以下、5000nm以上9000nm以下。
-Re/Rth-
聚酯膜的Re/Rth优选为0.20以下、更优选为0.17以下、进一步优选为0.15以下。
Re/Rth小意味着聚酯膜的拉伸程度接近均等的双轴性。因此，通过使上述比为0.20以下，能够改善聚酯膜的机械强度，另外，能够抑制在环境变化下聚酯膜产生褶皱而对可见性产生不良影响。为了容易获得上述效果，聚酯膜的面内相位差优选为上述范围。
Re/Rth的下限通常为0.01左右。
作为Re/Rth的范围的实施方式，可以举出0.01以上0.20以下、0.01以上0.17以下、0.01以上0.15以下。
-雾度、总光线透射率-
聚酯膜的JIS K7136：2000的雾度优选为3.0％以下、更优选为2.0％以下、进一步优选为1.0％以下。
另外，聚酯膜的JIS K7361-1：1997的总光线透射率优选为80％以上、更优选为85％以上、进一步优选为90％以上。
-紫外线透射率-
聚酯膜的波长380nm的光透射率优选为20％以下、更优选为10％以下。
-厚度-
为了改善机械强度，聚酯膜的厚度优选为10μm以上、更优选为20μm以上、进一步优选为25μm以上、更进一步优选为30μm以上。需要说明的是，通过使聚酯膜的厚度为10μm以上，在其他部件与光学层积体的聚酯膜侧接触而产生应力时，上述应力会难以传递至聚酯膜与易粘接层的界面，从这方面出发是优选的。
另外，为了减小面内相位差、并且为了改善耐弯曲性，聚酯膜的厚度优选为75μm以下、更优选为60μm以下、进一步优选为55μm以下、更进一步优选为50μm以下。
作为塑料膜的厚度的范围的实施方式，可以举出10μm以上75μm以下、10μm以上60μm以下、10μm以上55μm以下、10μm以上50μm以下、20μm以上75μm以下、20μm以上60μm以下、20μm以上55μm以下、20μm以上50μm以下、25μm以上75μm以下、25μm以上60μm以下、25μm以上55μm以下、25μm以上50μm以下、30μm以上75μm以下、30μm以上60μm以下、30μm以上55μm以下、30μm以上50μm以下。
-拉伸-
为了容易满足式1-1和1-2，优选不降低纵向和横向的拉伸倍率，并且使两个方向的拉伸倍率接近。
因此，聚酯膜优选为拉伸膜，更优选为双向拉伸膜。
具体的拉伸条件如后所述。
《原料》
构成聚酯膜的聚酯可以举出：由二羧酸与二醇的缩聚得到的均聚物；由1种以上的二羧酸和2种以上的二醇的缩聚得到的共聚物；由2种以上的二羧酸和1种以上的二醇的缩聚得到的共聚物；将1种以上的均聚物和1种以上的共聚物混合而成的共混树脂。
聚酯膜可以在不阻碍本发明效果的范围内含有紫外线吸收剂、无机颗粒等易滑颗粒、耐热性高分子颗粒、碱金属化合物、碱土金属化合物、磷化合物、抗静电剂、耐光剂、阻燃剂、热稳定剂、抗氧化剂、抗凝胶化剂和表面活性剂等添加剂。
作为二羧酸，可以举出例如对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、2,5-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、1,4-萘二羧酸、1,5-萘二羧酸、二苯基羧酸、二苯氧基乙烷二羧酸、二苯砜羧酸、蒽二羧酸、1,3-环戊烷二羧酸、1,3-环己烷二羧酸、1,4-环己烷二羧酸、六氢对苯二甲酸、六氢间苯二甲酸、丙二酸、二甲基丙二酸、琥珀酸、3,3-二乙基琥珀酸、戊二酸、2,2-二甲基戊二酸、己二酸、2-甲基己二酸、三甲基己二酸、庚二酸、壬二酸、二聚酸、癸二酸、辛二酸、十二烷二羧酸等。
作为二醇，可以举出乙二醇、丙二醇、六亚甲基二醇、新戊二醇、1,2-环己烷二甲醇、1,4-环己烷二甲醇、癸二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-双(4-羟基苯基)丙烷、双(4-羟基苯基)砜等。
在聚酯中，为了改善机械强度，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。即，聚酯膜优选包含聚对苯二甲酸乙二醇酯。
作为聚对苯二甲酸乙二醇酯的聚合法，可以举出：使对苯二甲酸与乙二醇、以及根据需要的其他二羧酸成分和二醇成分直接反应的直接聚合法；使对苯二甲酸的二甲基酯与乙二醇发生酯交换反应的酯交换法；等。在酯交换法中，对苯二甲酸的二甲基酯可以根据需要包含其他二羧酸的甲基酯。在酯交换法中，乙二醇可以根据需要包含其他二醇成分。
聚对苯二甲酸乙二醇酯的特性粘度优选为0.45以上0.70以下。若特性粘度低于0.45，则耐撕裂性提高效果降低；若特性粘度大于0.70，则滤压上升增大，因此高精度过滤变得困难。
《层构成》
聚酯膜可以为单层结构，也可以为多层结构。
单层结构容易控制拉伸。式1-1和1-2通过不降低纵向和横向的拉伸倍率并且使两个方向的拉伸倍率接近而容易满足。因此，从容易满足式1-1和1-2的方面出发，容易控制拉伸的单层结构是优选的。
另一方面，例如从能够赋予通过变更各层的组成而产生的效果的方面出发，多层结构的聚酯膜是优选的。例如，通过共挤出制成至少由3层以上构成的层积聚酯膜，若在表层使用低聚物含量少的聚酯，则能够容易抑制热处理后低聚物在膜表面的析出量。
在制成多层结构的聚酯膜的情况下，表层的厚度以单侧的厚度计优选为3μm以上、进一步优选为5μm以上，并且为总厚度的25％以下、进一步优选为20％以下、特别优选为10％以下。
《聚酯膜的制造例》
以PET膜为例，对聚酯膜的制造方法的实施方式进行说明。
首先，将PET的粒料充分真空干燥。将真空干燥后的PET的粒料供给至挤出机后，以260℃以上290℃以下熔融挤出为片状，之后冷却固化，将未拉伸PET片制膜。此时，在熔融树脂被保持为260℃以上290℃以下的任意场所，为了除去树脂中包含的异物而进行高精度过滤。熔融树脂的高精度过滤中使用的滤材没有特别限定，优选不锈钢烧结体的滤材。不锈钢烧结体的滤材除去以Si、Ti、Sb、Ge、Cu为主要成分的凝聚物和高熔点有机物的性能优异。进而，滤材的过滤颗粒尺寸优选为15μm以下。上述过滤颗粒尺寸为初始过滤效率95％下的值。
在挤出法中，将PET从挤出模口熔融挤出后，利用冷却辊冷却固化，由此得到未拉伸片。必要时，可以使用2台或3台挤出机、2层或3层多歧管、或喂料块将聚酯树脂层进行层积。为了提高片平面性，优选使用静电施加密合法或液体涂布密合法以提高片与旋转冷却鼓的密合性。
将由上述得到的未拉伸膜用加热至70℃以上120℃以下的辊沿长度方向进行拉伸，由此得到单轴取向PET膜。在希望减小由所谓弓弯现象引起的取向主轴的变形的情况下，也可以采用在不存在厚度不均问题的范围内降低长度方向的拉伸倍率的方法、较高地设定拉伸温度的方法。
需要说明的是，拉伸开始时的表面温度优选为80℃以上93℃以下。若为该温度范围，则在拉伸初期阶段取向和结晶化不会过度进行，因此能够为优选的△P。
接着，用夹具把持膜的两端部，导入加热至70℃以上200℃以下的热风区，干燥后沿宽度方向进行拉伸。接着，在后述热固定温度的范围内导入热处理区，进行热处理，由此完成结晶取向。该热处理工序中，根据需要可以沿宽度方向或长度方向实施2％以上10％以下的松弛处理。
需要说明的是，也可以不利用上述逐步双向拉伸而利用同步双向拉伸来制造PET膜
膜拉伸时的拉伸倍率在长度方向、宽度方向均优选为2倍以上6.5倍以下、更优选为2.5倍以上5.5倍以下、更进一步优选为3倍以上4.8倍以下。
通过使膜拉伸倍率为2倍以上，能够容易满足式1-2。另外，通过使膜拉伸倍率为6.5倍以下，能够容易抑制ΔP变得过大，进而能够容易抑制膜制膜时的褶皱和裂纹等。
长度方向的拉伸倍率相对于宽度方向的拉伸倍率之比即“长度方向的拉伸倍率/宽度方向的拉伸倍率”优选为1.7以下、更优选为1.4以下。另外，上述比优选为0.5以上、更优选为0.7以上、进一步优选为1.0以上。
通过使长度方向的拉伸倍率/宽度方向的拉伸倍率为上述范围，能够容易满足式1-1。
需要说明的是，在采用逐步拉伸的情况下，膜的取向性具有被最后段的拉伸方向强烈影响的倾向。因此，在逐步拉伸中，优选使长度方向的拉伸倍率高于宽度方向的拉伸倍率。
另外，在采用逐步拉伸的情况下，宽度方向的拉伸优选至少分成2个阶段来进行。特别优选分成拉伸温度不同的2个以上的分区来进行宽度方向的拉伸。这种情况下，希望后段的拉伸温度在比前段的拉伸温度优选高5℃以上、更优选高10℃以上的温度下进行。通过高温的后段拉伸工序，能够缓和在前段产生的宽度方向的弓弯导致的光学物性的变形，因此能够抑制宽度方向上的面内相位差的变动。另外，在以2阶段进行宽度拉伸的情况下，优选后段的拉伸倍率低于前段的拉伸倍率。通过降低后段的拉伸倍率，能够抑制膜的厚度不均的恶化。具体而言，在以2阶段进行宽度拉伸的情况下，优选在120℃以上200℃以下的范围以1.5倍以上4.5倍以下进行第1阶段的拉伸后，进一步在150℃以上230℃以下以1.01倍以上2.0倍以下的倍率再拉伸。以下，以在120℃以上200℃以下的范围进行第1阶段的拉伸、在150℃以上230℃以下的范围进行第2阶段的拉伸的情况为一例进行说明。有时将第1阶段的拉伸称为TD1，将第2阶段的拉伸称为TD2。
在上述范围进行2段拉伸的情况下，TD1的拉伸温度优选为120℃以上200℃以下、更优选为130℃以上150℃以下。若为120℃以下，则膜断裂；若为200℃以上，则宽度方向的膜物性的变形增大。拉伸倍率优选为1.5倍以上4.5倍以下。此外，TD2的拉伸温度优选为150℃以上230℃以下、更优选为180℃以上220℃以下。拉伸倍率优选为1.01倍以上2.0倍以下。
这样，通过均在120℃以上230℃以下的温度范围实施2阶段的拉伸，进而使2阶段的合计拉伸倍率为3.0倍以上4.8倍以下，能够在保持可保持机械强度的面取向性的同时降低宽度方向上的面内相位差的变动。
从提高膜的热尺寸稳定性的方面出发，优选在高温度下进行热固定。具体而言，热固定温度的上限优选超过130℃、更优选为160℃以上。但是，若在高温下进行热固定，则容易产生由弓弯引起的光学变形的影响，有时面内相位差的变动增大。因此，热固定温度的上限优选为220℃以下。
<易粘接层>
本发明的光学层积体需要在聚酯膜与凹凸层之间具有易粘接层。
在不具有易粘接层的情况下，即使具有后述的凹凸层和防污层，也不能改善作为光学层积体整体的密合性。
构成易粘接层的树脂没有特别限定，可以举出例如聚酯树脂、聚氨酯树脂和丙烯酸类树脂等热塑性树脂、热固性树脂，优选热塑性树脂。另外，在热塑性树脂中，优选容易降低聚酯膜与易粘接层的折射率差、以及易粘接层与凹凸层的折射率差的聚酯树脂和聚氨酯树脂，更优选聚酯氨基甲酸酯树脂。
构成易粘接层的树脂的数均分子量优选为10,000以上、更优选为20,000以上。该树脂的数均分子量优选为100,000以下、更优选为60,000以下。通过使构成易粘接层的树脂的数均分子量为上述范围，能够容易抑制易粘接层的凝聚破坏。
作为构成易粘接层的树脂的数均分子量的优选范围，可以举出10,000以上100,000以下、10,000以上60,000以下、20,000以上100,000以下、20,000以上60,000以下。
构成易粘接层的树脂的玻璃化转变温度优选为30℃以上、更优选为50℃以上、进一步优选为70℃以上。该树脂的玻璃化转变温度优选为120℃以下、更优选为110℃以下、进一步优选为90℃以下。通过使构成易粘接层的树脂的玻璃化转变温度为上述范围，能够容易抑制易粘接层因工序时的热而脆化。作为工序时的热，可以举出凹凸层涂布液和防污层涂布液的干燥工序中的热、将光学层积体贴合至偏振元件时的加热所致的热。
作为构成易粘接层的树脂的玻璃化转变温度的优选范围，可以举出30℃以上120℃以下、30℃以上110℃以下、30℃以上90℃以下、50℃以上120℃以下、50℃以上110℃以下、50℃以上90℃以下、70℃以上120℃以下、70℃以上110℃以下、70℃以上90℃以下。
易粘接层可以在不阻碍本发明效果的范围内含有折射率调节剂、染料、颜料、流平剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂和光稳定剂等添加剂；用于调节硬度或粘度的各种交联剂。作为上述交联剂，可以举出无黄变型的XDI系、IPDI系、HDI系异氰酸酯、电离射线固化型的多官能单体等。
易粘接层可以通过在聚酯膜制膜中进行涂布的在线涂布来形成，也可以通过在聚酯膜制膜后进行涂布的离线涂布来形成。
易粘接层的干燥涂布量优选为0.05g/m2以上0.75g/m2以下。易粘接层的厚度没有特别限制，优选为10nm以上600nm以下。在层积聚酯膜、易粘接层、凹凸层、防污层的情况下，为了防止在各界面因折射率差而产生的可见性不良，易粘接层的厚度优选为10nm以上40nm以下或70nm以上270nm以下。
<凹凸层>
本发明的光学层积体在易粘接层上具有凹凸层。
《式2-1》
将凹凸层的表面的三维偏斜度定义为Ssk、将凹凸层的表面的三维算术平均粗糙度定义为Sa时，凹凸层需要Ssk和Sa满足下述式2-1。
0.80≤A≤1.90 (2-1)
[式2-1中，“A”表示“log10(Sa[μm]×100/Ssk)”。其中，0<Ssk。]
本说明书中，Ssk是将JIS B0601：1994中记载的二维粗糙度参数的粗糙度曲线的偏斜度Rsk扩展到三维的值，在基准面放置正交坐标轴X、Y轴，将所测定的表面形状曲线设为z＝f(x,y)、将基准面的大小设为Lx、Ly时，由下述式a算出。Ssk在ISO25178：2012中进行规定。
Ssk是以测定面整体的标高的平均值为基准，表示标高的分布向正方向和负方向偏斜的程度的指标。标高的分布为正态分布的情况下，Ssk表示0。若标高的分布向负方向偏斜，则Ssk示出正值，标高的分布向负方向偏斜的程度越大，则Ssk的值在正方向越大。另一方面，若标高的分布向正方向偏斜，则Ssk示出负值，标高的分布向正方向偏斜的程度越大，则Ssk的值在负方向越大。
[数1]
式a中，“Sq”是下述式b定义的表面高度分布的均方根偏差。
[数2]
本说明书中，Sa是将JIS B0601：1994中记载的二维粗糙度参数的算术平均粗糙度Ra扩展到三维的值，在基准面放置正交坐标轴X、Y轴，设粗糙度曲面为Z(x,y)时，由下述式c算出。Sa在ISO 25178：2012中进行规定。
[数3]
式c中，Ar＝Lx×Ly。
式2-1的“A”由“log10(Sa[μm]×100/Ssk)”表示。
由此，可以说式2-1的“A”在下述x-1～x3的任一种情况下示出极小的值。
x-1：Sa过小的情况。
x-2：Ssk过大的場合。
x-3：Sa适度小且Ssk适度大的情况。
如x-1那样凹凸层的Sa过小的情况下，凹凸层的凹凸几乎未反映到防污层表面，防污层表面亦即光学层积体的表面大致平滑。若其他部件与表面形状大致平滑的光学层积体接触，由于在上述其他部件贴附在光学层积体表面的状态下施加应力，所以上述应力几乎不会减轻而传递到聚酯膜与易粘接层的界面。因此，若如x-1那样凹凸层的Sa过小，则有时无法改善聚酯膜与易粘接层的界面的密合性。
另外，如x-2那样凹凸层的Ssk过大的情况下，凹凸层与平均相比标高低的海部的比例变得极多。其结果，防污层表面亦即光学层积体的表面成为海部的比例极高的形状。若其他部件与海部极多的表面形状的光学层积体接触，则在上述其他部件贴附在光学层积体的海部的状态下施加应力，因此上述应力几乎不会减轻而传递到聚酯膜与易粘接层的界面。因此，若如x-2那样凹凸层的Ssk过大，则有时无法改善聚酯膜与易粘接层的界面的密合性。另外，在Ssk过大的凹凸层上形成了防污层的情况下，在凹凸层的与海部对应的部位充分地形成防污层，另一方面，在凹凸层的与岛部对应的部位难以形成防污层，因此在防污层产生厚度不均。因此，由于产生与海部对应的部位和与岛部对应的部位的透射率或反射率的差异等引起的亮点等，有时在光学层积体中会产生局部缺陷。
另外，如x-3那样Sa适度小且Ssk适度大的情况下，表面形状示出凹凸的程度小，与岛部相比海部的比例适度高。在其他部件与该表面形状的光学层积体接触时，在上述其他部件贴附在光学层积体的海部的状态下施加应力，因此上述应力几乎不会减轻而传递到聚酯膜与易粘接层的界面。因此，若如x-3那样Sa适度小且Ssk适度大，则有时无法改善聚酯膜与易粘接层的界面的密合性。
另外，可以说式2-1的“A”在下述y-1～y3的任一种情况下示出极大的值。
y-1：Sa过大的情况。
y-2：Ssk过小的情况。
y-3：Sa适度大且Ssk适度小的場合。
如y-1那样凹凸层的Sa过大的情况下，在凹凸层的与海部对应的部位充分地形成防污层，另一方面，在凹凸层的与岛部对应的部位难以形成防污层，因此在防污层产生厚度不均。因此，由于产生与海部对应的部位和与岛部对应的部位的透射率或反射率的差异等引起的亮点等，有时在光学层积体中会产生局部缺陷。
另外，如y-2那样凹凸层的Ssk过小的情况下，凹凸层的岛部与海部之比接近1：1，进而光学层积体的表面的岛部与海部之比接近1：1。岛部与海部相比容易接触其他部件，因此容易贴附。因此，在其他部件与如y-2那样凹凸层的Ssk过小的表面形状的光学层积体接触时，在上述其他部件贴附在光学层积体的岛部的状态下施加应力，因此上述应力几乎不会减轻而传递到聚酯膜与易粘接层的界面。由此，在如y-2那样凹凸层的Ssk过小的情况下，有时无法改善聚酯膜与易粘接层的界面的密合性。
另外，如y-3那样Sa适度大且Ssk适度小的情况下，表面形状示出凹凸适度大，与岛部相比海部的比例不过高。该表面形状的光学层积体虽然不易产生贴附的问题，但在凹凸层的与海部对应的部位充分地形成防污层，另一方面，在凹凸层的与岛部对应的部位难以形成防污层，因此在防污层产生厚度不均。因此，由于产生与海部对应的部位和与岛部对应的部位的透射率或反射率的差异等引起的亮点等，有时在光学层积体中会产生局部缺陷。
综上所述，在不满足式2-1的情况下，无法改善聚酯膜与易粘接层的界面的密合性。此外，在不满足式2-1的情况下，由于在防污层产生厚度不均，因此会因透射率或反射率的差异等局部产生亮点等问题。即，在不满足式2-1的情况下，无法抑制光学层积体的局部缺陷的问题。
式2-1中，A优选为0.90以上、更优选为0.95以上、更优选为1.00以上。另外，式2-1中，A优选为1.75以下、更优选为1.65以下、进一步优选为1.60以下。
作为式2-1的A的范围的实施方式，可以举出0.80以上1.90以下、0.80以上1.75以下、0.80以上1.65以下、0.80以上1.60以下、0.90以上1.90以下、0.90以上1.75以下、0.90以上1.65以下、0.90以上1.60以下、0.95以上1.90以下、0.95以上1.75以下、0.95以上1.65以下、0.95以上1.60以下、1.00以上1.90以下、1.00以上1.75以下、1.00以上1.65以下、1.00以上1.60以下。
本说明书中，Ssk和Sa的测定在0.26mm见方的区域进行(上述式a～c的Lx和Ly为0.26mm)。测定Ssk和Sa的区域的纵向和横向长度可以不完全一致，也可以存在微小差异。实施例的测定区域为258μm×259μm。另外，本说明书中，Ssk和Sa是指不设定取样长度值而测定的值。
Ssk和Sa例如可以利用激光显微镜式的表面形状测定器进行测定。作为激光显微镜式的表面形状测定器，可以举出例如奥林巴斯公司的商品名“LEXT OLS4000”。
《式2-2》
凹凸层优选Ssk满足下述式2-2。
0.10≤Ssk≤1.50 (2-2)
通过使Ssk为0.10以上1.50以下，能够容易满足式2-1。
Ssk更优选为0.12以上、更优选为0.15以上。另外，Ssk更优选为1.00以下、更优选为0.90以下、更优选为0.70以下、更优选为0.55以下。
作为Ssk的范围的实施方式，可以举出0.10以上1.50以下、0.10以上1.00以下、0.10以上0.90以下、0.10以上0.70以下、0.10以上0.55以下、0.12以上1.50以下、0.12以上1.00以下、0.12以上0.90以下、0.12以上0.70以下、0.12以上0.55以下、0.15以上1.50以下、0.15以上1.00以下、0.15以上0.90以下、0.15以上0.70以下、0.15以上0.55以下。
《式2-3》
凹凸层优选Sa满足下述式2-3。
0.020μm≤Sa≤0.200μm (2-3)
通过使Sa为0.020μm以上0.200μm以下，能够容易满足式2-1。
Sa更优选为0.030μm以上、更优选为0.040μm以上。另外，Sa更优选为0.150μm以下、进一步优选为0.100μm以下、更进一步优选为0.085μm以下。
作为Sa的范围的实施方式，可以举出0.020μm以上0.200μm以下、0.020μm以上0.150μm以下、0.020μm以上0.100μm以下、0.020μm以上0.085μm以下、0.030μm以上0.200μm以下、0.030μm以上0.150μm以下、0.030μm以上0.100μm以下、0.030μm以上0.085μm以下、0.040μm以上0.200μm以下、0.040μm以上0.150μm以下、0.040μm以上0.100μm以下、0.040μm以上0.085μm以下。
凹凸层优选包含粘结剂树脂和颗粒。
《粘结剂树脂》
粘结剂树脂优选包含固化性树脂组合物的固化物。固化性树脂组合物的固化物可以举出热固性树脂组合物的固化物和电离射线固化性树脂组合物的固化物，为了进一步改善机械强度，优选电离射线固化性树脂组合物的固化物。
相对于凹凸层的全部粘结剂树脂，固化性树脂组合物的固化物的比例优选为60质量％以上、更优选为80质量％以上、进一步优选为90质量％以上、更进一步优选为100质量％。
热固性树脂组合物为至少包含热固性树脂的组合物，是通过加热而固化的树脂组合物。
作为热固性树脂，可以举出丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯树脂、酚醛树脂、脲三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、有机硅树脂等。在热固性树脂组合物中，可以根据需要在这些固化性树脂中添加固化剂。
电离射线固化性树脂组合物是包含具有电离射线固化性官能团的化合物的组合物。本说明书中，有时将“具有电离射线固化性官能团的化合物”称为“电离射线固化性化合物”。
电离射线是指电磁波或带电粒子束中具有能够使分子聚合或交联的能量量子的电离射线，通常使用紫外线或电子射线，除此以外，也可以使用X射线、γ射线等电磁波、α射线、离子束等带电粒子束。
作为电离射线固化性官能团，可以举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯键式不饱和键基团、以及环氧基、氧杂环丁基等。作为电离射线固化性化合物，优选具有烯键式不饱和键基团的化合物，更优选具有2个以上烯键式不饱和键基团的化合物，其中，进一步优选具有2个以上烯键式不饱和键基团的多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。
作为多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以使用单体和低聚物中的任一种，优选包含低聚物。即，凹凸层优选包含多官能性(甲基)丙烯酸酯低聚物的固化物作为粘结剂树脂。多官能性(甲基)丙烯酸酯低聚物的固化物能够在改善光学层积体的表面硬度的同时抑制凹凸层的过度的固化收缩，因此能够抑制包含颗粒的凹凸层的凹凸的标高差变得过度。因此，通过使凹凸层包含多官能性(甲基)丙烯酸酯低聚物的固化物，能够容易抑制Ssk和Sa过度增大。
另一方面，由于低聚物与单体相比粘度高，因此有时凹凸层用涂布液的流平性降低，Ssk升高。因此，作为多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，更优选包含低聚物和单体。即，凹凸层优选包含多官能性(甲基)丙烯酸酯低聚物的固化物和多官能性(甲基)丙烯酸酯单体的固化物作为粘结剂树脂。
在使用低聚物和单体作为多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物的情况下，低聚物与单体的质量比优选为20：80～80：20、更优选为20：80～60：40或40：60～80：20、进一步优选为40：60～60：40。
作为多官能性(甲基)丙烯酸酯低聚物，可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯系聚合物等。
氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯例如通过多元醇和有机二异氰酸酯与羟基(甲基)丙烯酸酯的反应而得到。
多官能性(甲基)丙烯酸酯低聚物的重均分子量的下限优选为500以上、更优选为1000以上，上限优选为5000以下、更优选为3000以下。
通过使低聚物的重均分子量为500以上，能够容易抑制凹凸层的过度的固化收缩。另外，通过使低聚物的重均分子量为5000以下，能够容易抑制凹凸层用涂布液的流平性降低、Ssk过度增大。
作为多官能性(甲基)丙烯酸酯低聚物的重均分子量的范围的实施方式，可以举出500以上5000以下、500以上3000以下、1000以上5000以下、1000以上3000以下。
本说明书中，重均分子量和数均分子量是指通过凝胶渗透色谱测定的聚苯乙烯换算值。
在多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物中，作为2官能(甲基)丙烯酸酯单体，可以举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A四乙氧基二丙烯酸酯、双酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
作为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯单体，可以举出例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸改性三(甲基)丙烯酸酯等。
上述(甲基)丙烯酸酯单体可以将分子骨架的一部分进行改性。例如，也可以使用利用环氧乙烷、环氧丙烷、己内酯、异氰脲酸、烷基、环状烷基、芳香族、双酚等进行了改性的(甲基)丙烯酸酯单体。
另外，出于调整凹凸层用涂布液的粘度等目的，作为电离射线固化性化合物，也可以添加单官能(甲基)丙烯酸酯。
作为单官能(甲基)丙烯酸酯，可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯和(甲基)丙烯酸异冰片酯等。
上述电离射线固化性化合物可以单独使用1种，或者将2种以上组合使用。
另外，除了电离射线固化性化合物以外，凹凸层用涂布液也可以添加聚合物以调整粘度。聚合物可以举出例如重均分子量超过5000且为20万以下的物质。
电离射线固化性化合物为紫外线固化性化合物的情况下，电离射线固化性组合物优选包含光聚合引发剂、光聚合促进剂等添加剂。
作为光聚合引发剂，可以举出选自苯乙酮、二苯甲酮、α-羟基烷基苯酮、米希勒酮、苯偶姻、安息香双甲醚、苯甲酰苯甲酸酯、α-酰基肟酯、蒽醌、卤代酮、噻吨酮类等中的1种以上。这些之中，优选不易黄变的α-羟基烷基苯酮。
光聚合促进剂能够减轻固化时空气所致的聚合抑制、提高固化速度，例如，可以举出选自对二甲氨基苯甲酸异戊酯、对二甲氨基苯甲酸乙酯等中的1种以上。
《颗粒》
颗粒可以举出有机颗粒、无机颗粒、金属系颗粒等。这些之中，优选有机颗粒和无机颗粒。
作为有机颗粒，可以举出由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯胍胺-三聚氰胺-甲醛缩合物、硅酮、氟系树脂和聚酯系树脂等构成的颗粒。有机颗粒的分散性良好，因此从容易控制Sa和Ssk的方面出发是优选的。
有机颗粒的平均粒径的下限优选为0.5μm以上、更优选为1.0μm以上、进一步优选为2.0μm以上，上限优选为5.0μm以下、更优选为4.0μm以下、进一步优选为3.0μm以下。
通过使有机颗粒的平均粒径为0.5μm以上，能够容易抑制Sa过度降低。另外，在有机颗粒的质量基准的含量相同的情况下，平均粒径越大则有机颗粒的数量越少。因此，若有机颗粒的平均粒径过大，则容易形成独立的陡峭的凸部，从而具有Ssk变大的倾向。由此，通过使有机颗粒的平均粒径为5.0μm以下，能够容易抑制Ssk过度增大。
作为有机颗粒的平均粒径的范围的实施方式，可以举出0.5μm以上5.0μm以下、0.5μm以上4.0μm以下、0.5μm以上3.0μm以下、1.0μm以上5.0μm以下、1.0μm以上4.0μm以下、1.0μm以上3.0μm以下、2.0μm以上5.0μm以下、2.0μm以上4.0μm以下、2.0μm以上3.0μm以下。
有机颗粒的平均粒径例如可以通过下述(A1)～(A3)的操作算出。
(A1)利用光学显微镜拍摄光学层积体的透射观察图像。倍率优选为500倍以上2000倍以下。
(A2)从观察图像中提取任意10个有机颗粒后，计算各个有机颗粒的粒径。粒径是作为在用任意平行的2条直线夹持颗粒的截面时上述2条直线间距离达到最大的2条直线的组合中的直线间距离所测定的。
(A3)在相同样品的另一画面的观察图像中进行5次相同的操作后，将由合计50个粒径的数均值得到的值作为有机颗粒的平均粒径。
有机颗粒的粒径的变异系数优选为13％以下、更优选为12％以下、进一步优选为11％以下。
通过使有机颗粒的粒径的变异系数为13％以下，能够容易控制Sa和Ssk。
有机颗粒的粒径的变异系数例如可以由通过在上述(A1)～(A3)的平均粒径的计算中使用的50个颗粒算出的标准偏差和平均粒径根据下式获得。
变异系数(％)＝(标准偏差/平均粒径)×100
作为无机颗粒，可以举出由二氧化硅、氧化铝、氧化锆和二氧化钛等构成的颗粒。这些之中，为了改善透明性，优选二氧化硅。另外，在二氧化硅中，优选气相法二氧化硅。
气相法二氧化硅是指通过干式法制作的具有200nm以下的粒径的非晶质二氧化硅，可以通过使包含硅的挥发性化合物在气相反应而得到。具体而言，可以举出使四氯化硅等硅化合物在氧与氢的火焰中水解而生成的物质等。从容易对表面进行疏水化处理的方面出发，气相法二氧化硅是合适的。
无机颗粒在单独使用的情况下，优选形成多个无机颗粒凝聚而成的凝聚体，并且利用上述凝聚体对凹凸层赋予凹凸。
另外，通过对无机颗粒实施疏水化处理，也可以以无机颗粒缠绕在有机颗粒上的方式形成凝聚体。因此，若将有机颗粒单独的体系与合用了有机颗粒和无机颗粒的体系进行对比，则有合用了有机颗粒和无机颗粒的体系的Sa变大的倾向。另一方面，由于无机颗粒形成平缓的凹凸，因此若将有机颗粒单独的体系与合用了有机颗粒和无机颗粒的体系进行对比，则有合用了有机颗粒和无机颗粒的体系的Ssk变小的倾向。
需要说明的是，在单独使用无机颗粒的情况下，与单独使用有机颗粒的情况相比，凸部的高度低，具有形成整体平缓的凹凸形状的倾向。
无机颗粒优选表面进行了疏水化处理。通过对无机颗粒的表面进行疏水化处理，能够抑制无机颗粒的过度凝聚。另外，通过合用表面经疏水化处理的无机颗粒与有机颗粒，如上所述能够容易增大Sa和Ssk。
表面经疏水化处理的无机颗粒可以举出在无机颗粒的表面具有无机颗粒的表面的官能团与表面处理剂的反应物的无机颗粒。作为无机颗粒的表面的官能团，可以举出例如二氧化硅颗粒的硅烷醇基。
作为表面处理剂，可以举出选自三甲基甲硅烷基氯化物、二甲基二氯硅烷、三甲基甲硅烷基三氟甲烷磺酸盐、氯甲基三甲基硅烷、六甲基二硅氮烷、三乙基硅烷、三乙基甲硅烷基氯化物、三异丙基甲硅烷基氯化物、叔丁基二甲基硅烷、叔丁基二甲基甲硅烷基氯化物、辛基硅烷、十六烷基硅烷、烯丙基三甲基硅烷、三甲基乙烯基硅烷、氨基硅烷、甲基丙烯酰基硅烷和聚二甲基硅氧烷等中的1种以上。
为了提高疏水化的程度，表面处理剂优选在分子内具有碳原子数多的烷基。具体而言，表面处理剂优选在分子内具有碳原子数为5以上的烷基，更优选在分子内具有碳原子数为6以上的烷基。上述烷基可以为直链，也可以具有支链，但优选为直链。
需要说明的是，分子内的烷基的碳原子数过多时，由于表面处理剂的分子的体积大的影响，无机颗粒的表面的官能团与表面处理剂能够反应的比例降低。因此，表面处理剂的烷基的碳原子数优选为20以下、更优选为16以下、进一步优选为12以下。
在单独使用无机颗粒作为颗粒时，也优选合用通过不同的表面处理剂进行了疏水化处理的无机颗粒。这是因为，在仅使用通过同一表面处理剂进行了疏水化处理的无机颗粒的情况下，由于相互性质的共通的，凝聚有时会过度。
在合用通过不同的表面处理剂进行了疏水化处理的无机颗粒的情况下，一种无机颗粒的表面处理剂的烷基的碳原子数的下限优选为4以上、更优选为6以上，上限优选为20以下、更优选为16以下、进一步优选为12以下。一种无机颗粒的表面处理剂的烷基的碳原子数的范围的实施方式可以举出4以上20以下、4以上16以下、4以上12以下、6以上20以下、6以上16以下、6以上12以下。另一者无机颗粒的表面处理剂的烷基的碳原子数优选为3以下、更优选为2以下、进一步优选为1。
无机颗粒的平均粒径的下限优选为3nm以上、更优选为5nm以上、进一步优选为8nm以上，上限优选为100nm以下、更优选为50nm以下、进一步优选为30nm以下。
作为无机颗粒的平均粒径的范围的实施方式，可以举出3nm以上100nm以下、3nm以上50nm以下、3nm以上30nm以下、5nm以上100nm以下、5nm以上50nm以下、5nm以上30nm以下、8nm以上100nm以下、8nm以上50nm以下、8nm以上30nm以下。
通过使无机颗粒的平均粒径为上述范围，能够容易控制由无机颗粒的凝聚体所带来的凹凸形状。需要说明的是，只要没有特别声明，则本说明书中的无机颗粒的平均粒径是指平均一次粒径。无机颗粒的平均粒径例如可以利用激光散射法进行测定。
金属系颗粒可以举出由金和银等金属本身构成的颗粒、用金属被覆有机颗粒的表面的金属被覆颗粒。金属系颗粒由于比重重，难以在凹凸层的表面浮起，因此难以增大Sa。另外，金属系颗粒由于与粘结剂树脂的亲和性低，因此从凹凸层的表面突出的金属系颗粒的突出部分不被树脂所被覆，会形成陡峭的凸部。因此，金属系颗粒具有难以增大Sa、使Ssk变得极大的倾向。
综上所述，优选在凹凸层中实质上不含有金属系颗粒。
颗粒的形状可以举出球状、椭圆状、无定形等，优选球状的颗粒。球状的颗粒容易抑制凹凸层的凹凸形状变得陡峭，因此能够容易抑制Ssk过度增大。
关于颗粒的含量，相对于粘结剂树脂100质量份，下限优选为0.3质量份以上、更优选为0.4质量份以上、进一步优选为0.5质量份以上，上限优选为12.0质量份以下、更优选为11.0质量份以下、进一步优选为10.0质量份以下。
通过使颗粒的含量为0.3质量份以上，能够容易抑制凹凸层的Sa变得过小和Ssk变得过大。另外，通过使颗粒的含量为12.0质量份以下，能够容易抑制凹凸层的Sa变得过大。另外，在颗粒为有机颗粒的情况下，通过使颗粒的含量为12.0质量份以下，还能容易抑制Ssk变得过小。
作为颗粒的含量相对于粘结剂树脂100质量份的范围的实施方式，可以举出0.3质量份以上12.0质量份以下、0.3质量份以上11.0质量份以下、0.3质量份以上10.0质量份以下、0.4质量份以上12.0质量份以下、0.4质量份以上11.0质量份以下、0.4质量份以上10.0质量份以下、0.5质量份以上12.0质量份以下、0.5质量份以上11.0质量份以下、0.5质量份以上10.0质量份以下。
凹凸层的平均膜厚的下限优选为0.5μm以上、更优选为0.7μm以上、进一步优选为1.0μm以上，上限优选为7.0μm以下、更优选为5.0μm以下、进一步优选为3.0μm以下。
通过使凹凸层的平均膜厚为0.5μm以上，能够容易抑制凹凸层的Sa变得过大和Ssk变得过大。另外，通过使凹凸层的平均膜厚为7.0μm以下，能够容易抑制凹凸层的Sa变得过小和Ssk变得过小。
作为凹凸层的平均膜厚的范围的实施方式，可以举出0.5μm以上7.0μm以下、0.5μm以上5.0μm以下、0.5μm以上3.0μm以下、0.7μm以上7.0μm以下、0.7μm以上5.0μm以下、0.7μm以上3.0μm以下、1.0μm以上7.0μm以下、1.0μm以上5.0μm以下、1.0μm以上3.0μm以下。
凹凸层和防污层等构成光学层积体的各层的平均膜厚例如可以如下算出：在由扫描型透射电子显微镜(STEM)得到的光学层积体的截面照片选择任意的20个部位，由其平均值算出。其中，20个部位按照地点不集中的方式进行选择。
STEM的加速电压和倍率根据测定对象的层设定即可。例如，在凹凸层的情况下，STEM的加速电压优选为10kV以上30kV以下、STEM的倍率优选为1000倍以上7000倍以下。
凹凸层也可以在不阻碍本发明的效果的范围内含有其他添加剂。作为添加剂，可以举出流平剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂和光稳定剂等。
凹凸层的折射率的下限优选为1.48以上、更优选为1.50以上、进一步优选为1.52以上，上限优选为1.58以下、更优选为1.54以下、进一步优选为1.53以下。通过使凹凸层的折射率为上述范围，使防污层的折射率为后述范围，能够容易降低光反射率Y值。
作为凹凸层的折射率的范围的实施方式，可以举出1.48以上1.58以下、1.48以上1.54以下、1.48以上1.53以下、1.50以上1.58以下、1.50以上1.54以下、1.50以上1.53以下、1.52以上1.58以下、1.52以上1.54以下、1.52以上1.53以下。
《溶剂》
凹凸层用涂布液中通常使用溶剂以调节粘度或使各成分能够溶解或分散。
溶剂可示例出例如：丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；二氧六环、四氢呋喃等醚类；己烷等脂肪族烃类；环己烷等脂环式烃类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二氯甲烷、二氯乙烷等卤化碳类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类；异丙醇、丁醇、环己醇等醇类；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等溶纤剂类；丙二醇单甲醚乙酸酯等二醇醚类；乙酸溶纤剂类；二甲基亚砜等亚砜类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等酰胺类；等，也可以为它们的混合物。
若凹凸层用涂布液中的溶剂的干燥所需的时间过长，则由于颗粒过度凝聚，有时Ssk会变得过大。另外，若凹凸层用涂布液中的溶剂的干燥所需的时间过短，则由于颗粒的凝聚不足，有时Sa会变得过小。因此，凹凸层用涂布液中的溶剂优选将蒸发速度快的溶剂与蒸发速度慢的溶剂混合使用。
本说明书中，蒸发速度快的溶剂是指，将乙酸丁酯的蒸发速度设为100时，蒸发速度为100以上的溶剂。另外，本说明书中，蒸发速度慢的溶剂是指，将乙酸丁酯的蒸发速度设为100时，蒸发速度小于100的溶剂。
凹凸层用涂布液的溶剂中，蒸发速度快的溶剂的蒸发速度的下限优选为120以上、更优选为130以上、进一步优选为140以上，蒸发速度的上限优选为400以下、更优选为300以下、进一步优选为220以下。作为蒸发速度快的溶剂，可以举出例如蒸发速度160的甲基异丁基酮、蒸发速度370的甲基乙基酮、蒸发速度200的甲苯、蒸发速度150的2-丙醇。
作为蒸发速度快的溶剂的蒸发速度的范围的实施方式，可以举出120以上400以下、120以上300以下、120以上220以下、130以上400以下、130以上300以下、130以上220以下、140以上400以下、140以上300以下、140以上220以下。
凹凸层用涂布液的溶剂中，蒸发速度慢的溶剂的蒸发速度的下限优选为15以上、更优选为20以上、进一步优选为25以上，蒸发速度的下限优选为90以下、更优选为50以下、进一步优选为35以下。作为蒸发速度慢的溶剂，可以举出例如蒸发速度32的环己酮、蒸发速度44的丙二醇单甲醚乙酸酯。
作为蒸发速度慢的溶剂的蒸发速度的范围的实施方式，可以举出15以上90以下、15以上50以下、15以上35以下、20以上90以下、20以上50以下、20以上35以下、25以上90以下、25以上50以下、25以上35以下。
凹凸层用涂布液的溶剂中，蒸发速度快的溶剂与蒸发速度慢的溶剂的质量比优选为50：50～90：10、更优选为50：50～80：20或60：40～90：10、进一步优选为60：40～80：20。
另外，关于凹凸层用涂布液中的溶剂的含量，固体成分浓度的下限优选为30质量％以上、更优选为35质量％以上。另外，关于凹凸层用涂布液中的溶剂的含量，固体成分浓度的上限优选为70质量％以下、更优选为45质量％以下。
凹凸层用涂布液中的溶剂的含量的范围的实施方式可以举出30质量％以上70质量％以下、30质量％以上45质量％以下、35质量％以上70质量％以下、35质量％以上45质量％以下。
<防污层>
防污层是位于凹凸层的与易粘接层相反一侧的面上的层。防污层优选与凹凸层相接形成。即，优选在凹凸层与防污层之间不具有其他层。
另外，防污层优选配置成成为光学层积体的表面。
通常，在其他部件与层积体的表面接触时会产生大的应力。因此，在其他部件与在面取向度ΔP高的聚酯膜上具有易粘接层和凹凸层等功能层的层积体的表面接触时，由于应力而会使聚酯膜与易粘接层之间发生剥离。上述应力中，横向应力的影响大。
但是，在其他部件与本发明的光学层积体的防污层侧的面接触的情况下，其他部件由于防污层的防污功能而滑动，因此在横向上难以产生应力。此外，由于在本发明的光学层积体的防污层侧的表面形成由满足式2-1的凹凸层引起的凹凸，因此，由于上述凹凸而使其他部件难以贴附到光学层积体的表面，难以产生应力。由此，本发明的光学层积体中，作为光学层积体整体的层间密合性良好，能够抑制在面取向度ΔP高的聚酯膜上形成的易粘接层和凹凸层等功能层的剥离。
另外，本发明的光学层积体由于在满足式2-1的凹凸层上形成有防污层，因此能够抑制防污层的厚度不均，进而能够抑制在光学层积体产生局部缺陷。
防污层例如可以由包含粘结剂树脂组合物和防污剂的防污层形成用涂布液形成。即，作为防污层的实施方式，可以举出包含粘结剂树脂和防污剂的实施方式。
防污层的粘结剂树脂优选包含固化性树脂组合物的固化物。固化性树脂组合物的固化物可以举出热固性树脂组合物的固化物和电离射线固化性树脂组合物的固化物。在固化性树脂组合物的固化物中，为了进一步改善机械强度，优选电离射线固化性树脂组合物的固化物。
防污层的固化性树脂组合物例如可以举出在凹凸层中示例的固化性树脂组合物。
为了改善防污性，形成防污层的树脂组合物优选包含在结构单元中包含氟原子的树脂组合物、在结构单元中包含硅氧烷键的树脂组合物。这些树脂组合物更优选具有固化性。
使用在结构单元中包含氟原子的树脂组合物、或在结构单元中包含硅氧烷键的树脂组合物的情况下，优选与这些以外的树脂组合物合用。作为在结构单元中包含氟原子的树脂组合物和在结构单元中包含硅氧烷键的树脂组合物以外的树脂组合物，优选固化性树脂组合物。
固化性树脂组合物的固化物相对于防污层的全部粘结剂树脂的比例优选为60质量％以上、更优选为80质量％以上、进一步优选为90质量％以上。
作为防污剂，可以举出氟流平剂和硅酮系流平剂。
为了抑制从防污层渗出，防污剂优选具有能够与粘结剂树脂组合物反应的反应性基团。换言之，在防污层中，防污剂优选固定于粘结剂树脂组合物。
另外，为了抑制从防污层渗出，也优选能够自交联的防污剂。
防污层中的防污剂的含量相对于防污层的粘结剂树脂100质量份下限优选为5质量份以上、更优选为10质量份以上，上限优选为30质量份以下、更优选为25质量份以下。
防污层中的防污剂的含量的范围的实施方式可以举出相对于防污层的粘结剂树脂100质量份为5质量份以上30质量份以下、5质量份以上25质量份以下、10质量份以上30质量份以下、10质量份以上25质量份以下。
防污层的厚度优选为200nm以下、更优选为150nm以下、进一步优选为110nm以下。通过使防污层的厚度为200nm以下，能够容易使凹凸层的凹凸形状反映到防污层的表面，容易改善光学层积体的密合性。
若防污层的厚度过薄，则防污性的面内均匀性受损，光学层积体的密合性有时会降低。另外，若防污层的厚度过薄，则容易在光学层积体产生亮点等局部缺陷。因此，防污层的厚度优选为50nm以上、更优选为70nm以上、进一步优选为90nm以上。
防污层的厚度的范围的实施方式可以举出200nm以下、50nm以上200nm以下、50nm以上150nm以下、50nm以上110nm以下、70nm以上200nm以下、70nm以上150nm以下、70nm以上110nm以下、90nm以上200nm以下、90nm以上150nm以下、90nm以上110nm以下。
如后所述，在使防污层低折射率化的情况下，为了降低光反射率Y值，防污层的厚度的下限优选为80nm以上、更优选为85nm以上、进一步优选为90nm，上限优选为120nm以下、更优选为110nm以下、进一步优选为105nm以下。此时，优选防污层的厚度大于中空颗粒和非中空颗粒等防污层中包含的颗粒的平均粒径。
使防污层低折射率化时的厚度的范围的实施方式可以举出80nm以上120nm以下、80nm以上110nm以下、80nm以上105nm以下、85nm以上120nm以下、85nm以上110nm以下、85nm以上105nm以下、90nm以上120nm以下、90nm以上110nm以下、90nm以上105nm以下。
防污层表面对于纯水的接触角优选为80度以上、更优选为85度以上、进一步优选为90度以上。通过使接触角为80度以上，其他部件与光学层积体的表面接触时的滑动性变得良好，能够容易改善光学层积体的密合性。
若防污层对于纯水的接触角过大，则由于防污剂相对于防污层的总固体成分的比例增加，防污层的硬度等物性有时会降低。因此，接触角优选为130度以下、更优选为120度以下。
防污层对于纯水的接触角的范围的实施方式可以举出80度以上130度以下、80度以上120度以下、85度以上130度以下、85度以上120度以下、90度以上130度以下、90度以上120度以下。
本说明书中，接触角是指利用θ/2法测定的静态接触角。
纯水可以使用通用的纯水。纯水的电阻率值通常为0.1MΩ·cm以上15MΩ·cm以下。
防污层可以进行低折射率化。
具体而言，防污层的折射率的下限优选为1.10以上、更优选为1.20以上、更优选为1.26以上、更优选为1.28以上、更优选为1.30以上，上限优选为1.48以下、更优选为1.45以下、更优选为1.40以下、更优选为1.38以下、更优选为1.32以下。通过使防污层的折射率为上述范围，能够容易降低光反射率Y值。
作为防污层的折射率的范围的实施方式，可以举出1.10以上1.48以下、1.10以上1.45以下、1.10以上1.40以下、1.10以上1.38以下、1.10以上1.32以下、1.20以上1.48以下、1.20以上1.45以下、1.20以上1.40以下、1.20以上1.38以下、1.20以上1.32以下、1.26以上1.48以下、1.26以上1.45以下、1.26以上1.40以下、1.26以上1.38以下、1.26以上1.32以下、1.28以上1.48以下、1.28以上1.45以下、1.28以上1.40以下、1.28以上1.38以下、1.28以上1.32以下、1.30以上1.48以下、1.30以上1.45以下、1.30以上1.40以下、1.30以上1.38以下、1.30以上1.32以下。
在将防污层低折射率化的情况下，防污层优选包含颗粒。
防污层的颗粒优选包含中空颗粒和非中空颗粒。即，低折射率的防污层优选包含粘结剂树脂、中空颗粒和非中空颗粒。
《中空颗粒和非中空颗粒》
中空颗粒和非中空颗粒的材质可以为二氧化硅和氟化镁等无机化合物、有机化合物中的任一种，出于低折射率化和强度的原因，优选二氧化硅。以下，关于中空颗粒和非中空颗粒，以中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒为中心进行说明。
中空二氧化硅颗粒是指下述颗粒：具有由二氧化硅构成的外壳层，被上述外壳层所包围的颗粒内部为空洞，在上述空洞内部包含空气。中空二氧化硅颗粒为下述颗粒：通过包含空气，与二氧化硅原本的折射率相比，折射率与气体的占有率成比例地降低。非中空二氧化硅颗粒是指内部不像中空二氧化硅颗粒那样为空洞的颗粒。非中空二氧化硅颗粒例如为实心的二氧化硅颗粒。
中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒的形状没有特别限定，可以为正球状、椭球体状、以及能够近似球体的多面体形状等近似球状等。其中，若考虑耐擦伤性，则优选为正球状、椭球体状或近似球状。
中空二氧化硅颗粒由于在内部包含空气，因此起到降低防污层整体的折射率的作用。通过使用提高了空气比例的粒径大的中空二氧化硅颗粒，能够进一步降低防污层的折射率。另一方面，中空二氧化硅颗粒具有机械强度差的倾向。特别是，在使用提高了空气比例的粒径大的中空二氧化硅颗粒的情况下，具有容易降低防污层的耐擦伤性的倾向。
非中空二氧化硅颗粒通过分散在粘结剂树脂中，起到提高防污层的耐擦伤性的作用。
对于中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒来说，优选按照中空二氧化硅颗粒之间接近、进而非中空颗粒能够进入中空二氧化硅颗粒之间的方式来设定中空二氧化硅颗粒的平均粒径和非中空二氧化硅颗粒的平均粒径。
具体而言，非中空二氧化硅颗粒的平均粒径相对于中空二氧化硅颗粒的平均粒径之比即“非中空二氧化硅颗粒的平均粒径/中空二氧化硅颗粒的平均粒径”优选为0.29以下、更优选为0.27以下。通过使平均粒径之比为上述范围，在防污层的膜厚方向上，中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒容易均匀分散，能够容易改善耐擦伤性。需要说明的是，上述平均粒径之比优选为0.05以上、更优选为0.15以上。
作为上述平均粒径的比的范围的实施方式，可以举出0.05以上0.29以下、0.05以上0.27以下、0.15以上0.29以下、0.15以上0.27以下。
关于中空二氧化硅颗粒的平均粒径，若考虑光学特性和机械强度，下限优选为50nm以上、更优选为60nm以上，上限优选为100nm以下、更优选为80nm以下。作为中空二氧化硅颗粒的平均粒径的范围的实施方式，可以举出50nm以上100nm以下、50nm以上80nm以下、60nm以上100nm以下、60nm以上80nm以下。
若在防止非中空二氧化硅颗粒的凝聚的同时考虑分散性，则非中空二氧化硅颗粒的平均粒径的下限优选为5nm以上、更优选为10nm以上，上限优选为20nm以下、更优选为15nm以下。作为非中空二氧化硅颗粒的平均粒径的范围的实施方式，可以举出5nm以上20nm以下、5nm以上15nm以下、10nm以上20nm以下、10nm以上15nm以下。
中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒优选表面被硅烷偶联剂被覆。作为硅烷偶联剂，优选具有(甲基)丙烯酰基或环氧基的硅烷偶联剂。
通过利用硅烷偶联剂对二氧化硅颗粒实施表面处理，二氧化硅颗粒与粘结剂树脂的亲和性提高，难以发生二氧化硅颗粒的凝聚。因此，二氧化硅颗粒的分散容易均匀。另外，通过利用硅烷偶联剂提高二氧化硅颗粒与粘结剂树脂的亲和性，在凹凸层的凸部上形成的湿润状态的防污层流落到凹凸层的平坦部侧时的阻力增加，因此能够容易抑制凹凸层的凸部上的防污层的膜厚过度减少。因此，能够容易抑制光学层积体的局部缺陷。
中空二氧化硅颗粒的含量越多，则粘结剂树脂中的中空二氧化硅颗粒的填充率越高，防污层的折射率越低。另外，中空二氧化硅颗粒的含量越多，则防污层用涂布液的粘度越高，由此在凹凸层的凸部上形成的湿润状态的防污层流落到凹凸层的平坦部侧时的阻力增加，因此能够容易抑制凹凸层的凸部上的防污层的膜厚过度减少。因此，能够容易抑制光学层积体的局部缺陷。由此，相对于粘结剂树脂100质量份，中空二氧化硅颗粒的含量优选为100质量份以上、更优选为130质量份以上。
另一方面，若中空二氧化硅颗粒的含量过多，则具有防污层的耐擦伤性等机械强度降低的倾向。另外，若中空二氧化硅颗粒的含量过多，相对地防污剂的含量降低，因此具有防污性降低的倾向。因此，相对于粘结剂树脂100质量份，中空二氧化硅颗粒的含量优选为300质量份以下、更优选为200质量份以下。
作为相对于粘结剂树脂100质量份的中空二氧化硅颗粒的含量的范围的实施方式，可以举出100质量份以上400质量份以下、100质量份以上300质量份以下、130质量份以上400质量份以下、130质量份以上300质量份以下。
若非中空二氧化硅颗粒的含量少，即便在防污层的表面存在非中空二氧化硅颗粒，有时也不会对硬度上升造成影响。另外，非中空二氧化硅颗粒的含量越多，则防污层用涂布液的粘度越高，由此在凹凸层的凸部上形成的湿润状态的防污层流落到凹凸层的平坦部侧时的阻力增加，因此能够容易抑制凹凸层的凸部上的防污层的膜厚过度减少。因此，能够容易抑制光学层积体的局部缺陷。另外，非中空二氧化硅颗粒的含量越多，则能够越容易减小粘结剂树脂的聚合导致的收缩不均的影响。由此，相对于粘结剂树脂100质量份，非中空二氧化硅颗粒的含量优选为10质量份以上、更优选为20质量份以上。
另一方面，若非中空二氧化硅颗粒的含量过多，相对地防污剂的含量降低，因此具有防污性降低的倾向。因此，相对于粘结剂树脂100质量份，非中空二氧化硅颗粒的含量优选为150质量份以下、更优选为100质量份以下、进一步优选为50质量份以下。
作为相对于粘结剂树脂100质量份的非中空二氧化硅颗粒的含量的范围的实施方式，可以举出10质量份以上150质量份以下、10质量份以上100质量份以下、10质量份以上50质量份以下、20质量份以上150质量份以下、20质量份以上100质量份以下、20质量份以上50质量份以下。
防污层也可以在不阻碍本发明的效果的范围内含有其他添加剂。作为添加剂，可以举出紫外线吸收剂、抗氧化剂和光稳定剂等。
《溶剂》
防污层用涂布液中通常使用溶剂以调节粘度或使各成分能够溶解或分散。
防污层用涂布液的溶剂可以举出与作为凹凸层涂布液的溶剂所示例的溶剂同样的物质。
若防污层用涂布液中的溶剂的干燥所需的时间过长，则在凹凸层的凸部上形成的湿润状态的防污层过度地流落到凹凸层的平坦部侧，由此凹凸层的凸部上的防污层的膜厚有时会过度减少。另外，若防污层用涂布液中的溶剂的干燥所需的时间过短，则防污层的流平性有时不足。因此，防污层用涂布液中的溶剂优选将蒸发速度快的溶剂与蒸发速度慢的溶剂混合使用。
防污层用涂布液的溶剂中，蒸发速度快的溶剂的蒸发速度的下限优选为125以上、更优选为130以上、进一步优选为150以上，蒸发速度的上限优选为450以下、更优选为430以下、进一步优选为400以下。
作为蒸发速度快的溶剂的蒸发速度的范围的实施方式，可以举出125以上450以下、125以上430以下、125以上400以下、130以上450以下、130以上430以下、130以上400以下、150以上450以下、150以上430以下、150以上400以下。
防污层用涂布液的溶剂中，蒸发速度慢的溶剂的蒸发速度的下限优选为20以上、更优选为30以上、进一步优选为40以上，蒸发速度的上限优选为90以下、更优选为60以下、进一步优选为50以下。
作为蒸发速度慢的溶剂的蒸发速度的范围的实施方式，可以举出20以上90以下、20以上60以下、20以上50以下、30以上90以下、30以上60以下、30以上50以下、40以上90以下、40以上60以下、40以上50以下。
防污层用涂布液的溶剂中，蒸发速度快的溶剂与蒸发速度慢的溶剂的质量比优选为50：50～90：10、更优选为50：50～80：20或60：40～90：10、进一步优选为60：40～80：20。
另外，关于防污层用涂布液中的溶剂的含量，固体成分浓度的下限优选为1质量％以上、更优选为2质量％以上。另外，关于防污层用涂布液中的溶剂的含量，固体成分浓度的上限优选为10质量％以下、更优选为5质量％以下。
防污层用涂布液中的溶剂的含量的范围的实施方式可以举出1质量％以上10质量％以下、1质量％以上5质量％以下、2质量％以上10质量％以下、2质量％以上5质量％以下。
<物性>
光学层积体优选从具有防污层的一侧以5度的光入射角测定的光反射率Y值优选为3.0％以下、更优选为2.0％以下。
需要说明的是，光反射率Y值的下限没有特别限定，通常为0.5％左右。
本说明书中，光反射率Y值是指CIE1931标准色度***的光反射率Y值。光反射率Y值可以利用分光光度计算出。测定光反射率时，优选在基材的背面贴合黑色板。作为分光光度计，可以举出例如岛津制作所公司的商品名“UV-3600plus”。
光反射率Y值、总光线透射率和雾度为测定10处的平均值。
光学层积体的JIS K7361-1：1997的总光线透射率优选为50％以上、更优选为80％以上、进一步优选为90％以上。
总光线透射率和后述雾度将光入射面设为聚酯膜侧而进行测定。总光线透射率和后述雾度例如可以利用村上色彩技术研究所制造的雾度计(件号：HM-150)进行测定。
光学层积体中，依据JIS K7136：2000的雾度的下限优选为0.3％以上、更优选为0.4％以上、进一步优选为0.5％以上，上限优选为10％以下、更优选为7％以下、进一步优选为5％以下。
作为光学层积体的雾度的范围的实施方式，可以举出0.3％以上10％以下、0.3％以上7％以下、0.3％以上5％以下、0.4％以上10％以下、0.4％以上7％以下、0.4％以上5％以下、0.5％以上10％以下、0.5％以上7％以下、0.5％以上5％以下。
<尺寸、形状等>
光学层积体可以是切割成规定尺寸的单叶状的形态，也可以是将长片卷取成卷状的卷状形态。单叶的尺寸没有特别限定，最大径为2英寸以上500英寸以下左右。“最大径”是指连结光学层积体的任意2点时的最大长度。例如，在光学层积体为长方形的情况下，长方形的对角线为最大径。在光学层积体为圆形的情况下，圆的直径为最大径。
卷状的宽度和长度没有特别限定，通常，宽度为500mm以上8000mm以下、长度为100m以上10000m以下左右。卷状形态的光学层积体可以根据图像显示装置等的尺寸切割成单叶状使用。在切割时，优选物性不稳定的卷端部除外。
单叶的形状也没有特别限定，例如，可以为三角形、四边形、五边形等多边形，可以为圆形，也可以为随机的无定形。更具体而言，在光学层积体为四边形状时，纵横比只要作为显示画面没有问题就没有特别限定。例如，可以举出横：纵＝1：1、4：3、16：10、16：9、2：1、5：4、11：8等。
[偏振片]
本发明的偏振片是具有偏振元件、配置于上述偏振元件的一侧的第一透明保护板和配置于上述偏振元件的另一侧的第二透明保护板的偏振片，其中，上述第一透明保护板和上述第二透明保护板中的至少一者为上述本发明的光学层积体，按照上述防污层侧的面朝向与上述偏振元件相反一侧的方式配置上述光学层积体。
<偏振元件>
作为偏振元件，可以举出例如用碘等染色并拉伸后的聚乙烯醇膜、聚乙烯醇缩甲醛膜、聚乙烯醇缩乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等片型偏振元件；由平行排列的大量金属线构成的线栅型偏振元件；涂布有溶致液晶或二色性主-客体材料的涂布型偏振元件；多层薄膜型偏振元件等。这些偏振元件可以是具备反射不透射的偏振成分的功能的反射型偏振元件。
<透明保护板>
在偏振元件的一侧配置第一透明保护板，在另一侧配置第二透明保护板。第一透明保护板和第二透明保护板中的至少一者为上述本发明的光学层积体。
作为光学层积体以外的第一透明保护板和第二透明保护板，可以举出塑料膜和玻璃等。作为塑料膜，可以举出聚酯膜、聚碳酸酯膜、环烯烃聚合物膜和丙烯酸膜，为了改善机械强度，优选它们的拉伸膜。玻璃可以举出碱性玻璃、氮化玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃和铅玻璃等。另外，作为保护偏振元件的透明保护板的玻璃优选与图像显示装置的其他部件兼用。例如，优选兼用液晶显示元件的玻璃基板与保护偏振元件的透明保护板。
需要说明的是，偏振元件和透明保护板优选藉由粘接剂贴合。粘接剂可以使用通用的粘接剂，优选PVA系粘接剂。
本发明的偏振片可以是第一透明保护板和第二透明保护板两者为上述本发明的光学层积体，但优选第一透明保护板和第二透明保护板中的一者为上述本发明的光学层积体。另外，在将本发明的偏振片用作配置于显示元件的光出射面侧的偏振片时，优选偏振元件的光出射面侧的透明保护板为上述本发明的光学层积体。另一方面，在将本发明的偏振片用作配置于显示元件的与光出射面相反一侧的偏振片时，优选偏振元件的与光出射面相反一侧的透明保护板为上述本发明的光学层积体。
[图像显示装置用的表面板]
本发明的图像显示装置用的表面板是在树脂板或玻璃板上贴合有光学层积体的图像显示装置用的表面板，其中，上述光学层积体为上述本发明的光学层积体，按照上述防污层侧的面朝向与上述树脂板或上述玻璃板相反一侧的方式配置上述光学层积体。
图像显示装置用的表面板优选按照贴合有光学层积体的一侧的面朝向表面侧的方式配置。换言之，图像显示装置用的表面板优选按照贴合有光学层积体的一侧的面朝向与显示元件相反一侧的方式配置。
作为树脂板或玻璃板，可以使用作为图像显示装置的表面板所通用使用的树脂板或玻璃板。
为了改善强度，树脂板或玻璃板的厚度优选为10μm以上。树脂板或玻璃板的厚度的上限通常为5000μm以下，近年来，由于图像显示装置的薄型化受到欢迎，因此优选为1000μm以下、更优选为500μm以下、进一步优选为100μm以下。
作为树脂板或玻璃板的厚度的范围的实施方式，可以举出10μm以上5000μm以下、10μm以上1000μm以下、10μm以上500μm以下、10μm以上100μm以下。
[图像显示装置]
本发明的图像显示装置在显示元件上按照上述本发明的光学层积体的防污层侧的面朝向与上述显示元件相反一侧的方式进行配置，并且上述光学层积体配置在表面。
作为显示元件，可以举出液晶显示元件、有机EL显示元件和无机EL显示元件等EL显示元件、等离子体显示元件等，进而可以举出小型LED显示元件和微型LED显示元件等LED显示元件。这些显示元件也可以在显示元件的内部具有触控面板功能。
作为液晶显示元件的液晶的显示方式，可以举出IPS方式、VA方式、多域方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。在显示元件为液晶显示元件的情况下，需要背光源。背光源配置于液晶显示元件的与具有光学层积体的一侧相反的一侧。作为背光源，可以举出使用量子点的背光源、使用白色发光二极管的背光源。
图像显示装置可以为可折叠型的图像显示装置、可卷曲型的图像显示装置。另外，图像显示装置可以为带触控面板的图像显示装置。
实施例
以下，举出实施例和比较例具体说明本发明。需要说明的是，本发明不限定于实施例中记载的方式。
1.评价、测定
对实施例1～20和比较例1～21中得到的光学层积体进行下述1-1～1-6的测定和评价。结果示于表1～4。需要说明的是，只要不特别记载，则各测定和评价时的气氛为温度23±5℃、相对湿度40％以上65％以下，在各测定和评价开始前，将对象样品在上述气氛中暴露30分钟以上后进行测定和评价。
1-1.Sa和Ssk的测定
在实施例和比较例中，测定在聚酯膜(PET膜)上形成易粘接层和凹凸层后且形成防污层前的凹凸层的表面形状。由所测定的表面形状计算出Sa、Ssk和式2-1的“A”。表面形状的测定使用激光显微镜(奥林巴斯公司的商品名“LEXT OLS4000”)，在下述条件下进行测定和分析。通过上述激光显微镜测定的Sa和Ssk依据ISO 25178：2012。结果示于表1～4。
<测定条件>
物镜：MPLAPONLEXT50(50倍的透镜)
变焦距镜头：×1
图像尺寸(像素)：1024×1024
图像尺寸：258μm×259μm
取样长度值：未设定
<分析条件>
分析模式：面
计算种类：粗糙度
1-2.密合性
从实施例和比较例的光学层积体的防污层侧的面切入切割器的刀刃，由此形成100格的棋盘格状的切口(切割数：纵向和横向有11条切入线、切割间隔：1mm)。切割器的刀刃使用NT公司的产品编号“BA-52P”。接着，在光学层积体的形成有棋盘格的表面粘贴胶带(米其邦株式会社、产品名“Cellotape(注册商标)”)，之后将上述胶带剥离，由此进行依据JIS K5600-5-6：1999中规定的交叉切割法的剥离试验。根据下述评价基准，评价了实施例和比较例的光学层积体的密合性。
<评价基准>
A：剥离的格子数为0，并且没有格子的一部分缺损的情况。
B：剥离的格子数为0，但存在格子的一部分沿着切口缺损等从而格子的一部分缺损的部位。
C：剥离的格子数为1以上。
1-3.亮点
按照实施例和比较例的光学层积体的防污层侧朝上的方式设置于水平台上，在亮室环境下，从观察到作为照明的荧光灯的反射光的各种角度目视评价有无亮点。从距样品直线距离约50cm的上方进行评价。亮室环境的条件设为样品上的照度为500lux以上1000lux以下。照明使用Hf32形的直管三波长型中性白荧光灯。照明的位置为铅直方向上距离水平台2m上方的高度。
不在意亮点时记为3分，在意亮点时记为1分，两者均不符时记为2分，由20岁～59岁的各年代分别5名、合计20名被测者进行评价。计算出20人评价的平均分，根据下述基准排列等级。
<评价基准>
A：平均分为2.5以上
B：平均分为2.0以上且小于2.5
C：平均分小于2.0
1-4.接触角
使用接触角计(协和界面科学制造、件号：DM-300)，在实施例和比较例的光学层积体的防污层侧的表面滴加1.0μL纯水，根据θ/2法测量液滴附着10秒后的静态接触角。测定3次，将其平均值作为各实施例和比较例的接触角。
1-5.光反射率Y值(反射率)
藉由厚度25μm的透明粘合剂层(Panac公司、商品名：Panaclean PD-S1)将黑色板(KURARAY公司、商品名：COMOGLAS DFA2CG 502K(黑)系、厚度2mm)贴合至实施例和比较例的光学层积体的基材侧，制作出5cm×5cm的样品。
将与光学层积体的防污层表面垂直的方向设为0度时，从5度的方向向样品入射光，基于上述入射光的正反射光测定作为样品的反射率的光反射率Y值。
关于反射率，使用分光反射率测定器(日本分光公司、商品名：V-7100)，以视场角2度、C光源、波长范围380nm以上780nm以下的条件测定5度正反射光，之后求出由换算成人眼感知的亮度的软件(JASCO spectrum manager版本2.0)算出的表示光反射率的值作为反射率。在样品内测定10处，将10处的平均值作为各实施例和比较例的反射率。测定时使用5mm×10mm大小的掩模。因此，入射角5度的反射率的测定光斑的大小为50.2mm2。
1-6.总光线透射率(Tt)和雾度(Hz)
使用雾度计(HM-150、村上色彩技术研究所制造)，对实施例和比较例的光学层积体测定JIS K7361-1：1997的总光线透射率和JIS K7136：2000的雾度。光入射面为聚酯膜侧。
2.化合物A(氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物)的合成
向装备有搅拌机、温度计、冷却管和氮气导入管的反应容器中导入空气后，投入1,3-丁二醇10.0质量份、1,4-丁二醇10.0质量份、对甲氧基苯酚0.1质量份、二月桂酸二丁基锡0.1质量份和甲基乙基酮100.0质量份，在氮流下一边搅拌一边升温至50℃。另一方面，向滴加容器中投入异佛尔酮二异氰酸酯50.3质量份，用时1小时均匀地滴加至反应容器中。此时，将反应容器温度保持为50±3℃。在搅拌下保温1小时后，进一步追加添加对甲氧基苯酚0.1质量份、二月桂酸二丁基锡0.1质量份，在氮气流下一边搅拌一边升温至60℃。之后，对于投入到滴加容器中的季戊四醇三丙烯酸酯与季戊四醇四丙烯酸酯的质量比80：20的混合物176.0质量份，在搅拌下用时1小时均匀滴加到反应容器中。
滴加结束后，用甲基乙基酮120.0质量份清洗滴加容器，清洗后的溶液直接投入反应容器中。进而在搅拌下保温2小时后，升温至75℃。之后，在75±3℃下继续搅拌保温，直至红外吸收光谱的来自异氰酸酯的峰消失为止。大约4小时～6小时，来自异氰酸酯的峰消失。确认该峰消失后，降温至60℃，添加甲醇7.0质量份，在60±3℃下保温30分钟。之后添加甲基乙基酮120.8质量份，得到透明的树脂溶液。最后，利用蒸发器除去溶剂，得到作为化合物A的氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物。所得到的化合物A的重均分子量为2000。
3.涂布液的制备
(1)凹凸层用涂布液1
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲基异丁基酮与甲基乙基酮的质量比35：65的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液1。
<凹凸层用涂布液1的材料>
·季戊四醇三丙烯酸酯：56质量份
(日本化药公司、商品名“PET-30”、固体成分100质量％)
·含紫外线固化型丙烯酸酯的组合物：44质量份
(第一工业制药公司、商品名“New Frontier R-1403MB”、固体成分80质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Omnirad184”)
·流平剂：3质量份
(DIC公司、商品名“MEGAFAC F-568”、固体成分5质量％)
(2)凹凸层用涂布液2
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯、2-丙醇与环己酮的质量比60：10：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液2。
<凹凸层用涂布液2的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·有机颗粒：0.5质量份
(丙烯酸珠、平均粒径2.2μm、折射率1.559、变异系数：10.4％)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(3)凹凸层用涂布液3
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯、2-丙醇与环己酮的质量比60：10：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液3。
<凹凸层用涂布液3的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·有机颗粒：0.6质量份
(丙烯酸珠、平均粒径2.2μm、折射率1.559、变异系数：10.4％)
·气相法二氧化硅：1质量份
(辛基硅烷处理、平均粒径12nm、NIPPON AEROSIL公司)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(4)凹凸层用涂布液4
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯、2-丙醇与环己酮的质量比60：10：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液4。
<凹凸层用涂布液4的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·气相法二氧化硅：0.5质量份
(辛基硅烷处理、平均粒径12nm、NIPPON AEROSIL公司)
·气相法二氧化硅：0.2质量份
(甲基硅烷处理、平均粒径12nm、NIPPON AEROSIL公司)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(5)凹凸层用涂布液5
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯、2-丙醇与环己酮的质量比60：10：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液5。
<凹凸层用涂布液5的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·有机颗粒：3质量份
(丙烯酸珠、平均粒径2.3μm、折射率1.559、变异系数：10.2％)
·气相法二氧化硅：1质量份
(辛基硅烷处理、平均粒径12nm、NIPPON AEROSIL公司)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(6)凹凸层用涂布液6
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯、2-丙醇与环己酮的质量比60：10：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液6。
<凹凸层用涂布液6的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·有机颗粒：10质量份
(丙烯酸珠、平均粒径3.0μm、折射率1.559、变异系数：9.8％)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(7)凹凸层用涂布液7
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯、2-丙醇与环己酮的质量比60：10：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液7。
<凹凸层用涂布液7的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·有机颗粒：15质量份
(丙烯酸珠、平均粒径3.6μm、折射率1.559、变异系数：10.5％)
·金属被覆颗粒：0.5质量份
(镍被覆丙烯酸珠、平均粒径4.5μm)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(8)凹凸层用涂布液8
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用4-甲基-2-戊酮与2-丙醇的质量比70：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液8。
<凹凸层用涂布液8的材料>
·季戊四醇三丙烯酸酯：100质量份
(产品名：PET-30、日本化药公司)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·金属被覆颗粒：0.6质量份
(镍被覆丙烯酸珠、平均粒径4.5μm)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(9)凹凸层用涂布液9
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用4-甲基-2-戊酮与2-丙醇的质量比70：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液9。
<凹凸层用涂布液9的材料>
·季戊四醇三丙烯酸酯：100质量份
(产品名：PET-30、日本化药公司)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(10)凹凸层用涂布液10
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯与环己酮的质量比70：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液10。
<凹凸层用涂布液10的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·有机颗粒：15质量份
(丙烯酸珠、平均粒径3.6μm、折射率1.559、变异系数：10.5％)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(11)凹凸层用涂布液11
按照固体成分浓度为40质量％的方式，将下述材料用甲苯与环己酮的质量比70：30的混合溶剂稀释，制备出凹凸层用涂布液11。
<凹凸层用涂布液11的材料>
·季戊四醇四丙烯酸酯：45质量份
(产品名：PETA、Daicel·SciTech公司)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物：55质量份
(三菱化学株式会社、商品名“UV-1700B”、固体成分100质量％)
·光聚合引发剂：3质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Esacure 1”)
·有机颗粒：0.5质量份
(丙烯酸珠、平均粒径3.6μm、折射率1.559、变异系数：10.5％)
·流平剂：0.5质量份
(大日精化工业公司、商品名“SEIKA-BEAM 10-28(TL)”、固体成分10质量％)
(12)防污层用涂布液
按照固体成分浓度为2.5质量％的方式，将下述材料用甲基异丁基酮、甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的质量比40：30：30的混合溶剂稀释，制备出防污层用涂布液。
<防污层用涂布液的材料>
·上述化合物(A)：15质量份
(氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物、固体成分100质量％)
·含氟树脂组合物：850质量份
(荒川化学工业公司、商品名“TU-2362”、固体成分10质量％)
·光聚合引发剂：5质量份
(IGM Resins B.V.公司、商品名“Omnirad127”)
·中空二氧化硅颗粒：100质量份
(平均粒径60nm、折射率1.212)
·实心二氧化硅颗粒：25质量份
(平均粒径15nm)
·氟系流平剂：100质量份
(信越有机硅制造、商品名“X-71-1203M”、固体成分20质量％)
4.PET膜的制作和准备、以及PET膜的面内相位差等的测定
作为实施例和比较例的聚酯膜，制备下述PET膜1～4，同时准备下述PET膜5。
另外，使用大塚电子公司的商品名“RETS-100”测定各PET膜的nx、ny和nz、以及面内相位差(Re)。将各PET膜Δn(nx-ny)、ΔP、面内相位差(Re)示于表5。
4-1.PET膜1
<原料(PET(A))的制作>
将酯化反应罐升温，在达到200℃的时刻，投入对苯二甲酸86.5质量份和乙二醇64.5质量份，在搅拌下投入作为催化剂的三氧化锑0.020质量份、乙酸镁四水合物0.061质量份、三乙胺0.16质量份。接着，进行加压升温，在表压力0.34MPa、240℃的条件下进行加压酯化反应后，使酯化反应罐恢复常压，添加磷酸0.014质量份。此外，用时15分钟升温至260℃，添加磷酸三甲酯0.012质量份。接着，15分钟后用高压分散机进行分散处理，进而相对于二氧化硅颗粒含有以钠原子计为0.1质量％的三聚磷酸钠水溶液，通过离心分离处理使粗粒部为35％截止，并且用网孔5μm的金属过滤器进行过滤处理，所得到的平均粒径2.5μm的二氧化硅颗粒的乙二醇浆料以颗粒含量计添加0.2质量份。15分钟后，将所得到的酯化反应产物输送至缩聚反应罐，于280℃在减压下进行缩聚反应。
缩聚反应结束后，用95％截止直径为5μm的NASLON制过滤器进行过滤处理，之后从喷嘴以线料状挤出，使用预先通过孔径1μm以下的过滤器进行了过滤处理的冷却水进行冷却，使其固化，切割成粒状。所得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(A)的特性粘度为0.64dl/g，低聚物含量为0.96质量％，实质上不含有惰性颗粒和内部析出颗粒。需要说明的是，有时将“聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(A)”简称为“PET(A)”。
<原料(PET(B))的制作>
在上述PET(A)的制造中，得到未添加二氧化硅颗粒的特性粘度0.62dl/g的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(B)。需要说明的是，有时将“聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(B)”简称为“PET(B)”。
<PET膜1的制作>
将特性粘度为0.62dl/g的PET(B)树脂粒料100质量份在135℃下以1Torr减压干燥6小时后，供给至中间层II层用的挤出机2。另外，按照二氧化硅颗粒的含量为0.10质量％的方式混合调整PET(A)和PET(B)，通过常规方法进行干燥后，供给至外层I层和外层III用的挤出机1。二氧化硅颗粒为PET(A)中包含的二氧化硅颗粒。将供给至挤出机1和2的PET在288℃下溶解。将溶解的聚合物分别用不锈钢烧结体的滤材进行过滤，用2种3层合流块层积，由模口挤出成片状后，利用静电施加浇注法缠绕到表面温度30℃的流延鼓上，进行冷却固化，制作出未拉伸膜。此时，调整各挤出机的排出量，以使I层、II层、III层的厚度之比为5：90：5。上述不锈钢烧结体的滤材是“公称过滤精度；10μm颗粒95％截止”的滤材。
将该未拉伸膜用加热后的辊组和红外线加热器加热至100℃，之后用具有圆周速度差的辊组沿长度方向拉伸3.0倍，得到单轴取向PET膜。
接着，将单向拉伸膜引导至拉幅机拉伸机，一边用夹具把持膜的端部，一边引导至温度140℃的热风区，沿宽度方向拉伸3.2倍。接着，在保持沿宽度方向拉伸的宽度的状态下引导至温度210℃的热风区，在该热风区沿宽度方向拉伸1.1倍。进而在温度210℃的热风区进行约5秒热处理后，沿宽度方向进行3％的松弛处理，得到膜厚度约40μm的双向拉伸PET膜(PET膜1)。
4-2.PET膜2
将长度方向的拉伸倍率变更为3.5倍，将宽度方向的第一阶段的拉伸倍率变更为3.6倍，将宽度方向的第二阶段的拉伸倍率变更为1.2倍，除此以外与PET膜1同样地得到双向拉伸PET膜2。
4-3.PET膜3
将长度方向的拉伸倍率变更为3.9倍，将宽度方向的第一阶段的拉伸倍率变更为3.7倍，将宽度方向的第二阶段的拉伸时的温度变更为220℃，将宽度方向的第二阶段的拉伸倍率变更为1.2倍，将松弛处理时的温度变更为220℃，除此以外与PET膜1同样地得到双向拉伸PET膜3。
4-4.PET膜4
参照日本特开2018-112635号公报，制作该公报的实施例9的厚度25μm的双向拉伸PET膜。将该PET膜作为PET膜4。
4-5.PET膜5
作为PET膜5，准备市售的双向拉伸PET膜(东洋纺公司制造的商品名“CosmoshineA4100”、厚度38μm、单面具有易粘接层)。
4-6.PET膜6
将宽度方向的第一阶段的拉伸倍率变更为3.5倍，除此以外与PET膜1同样地得到双向拉伸PET膜6。
4-7.PET膜7
将宽度方向的第一阶段的拉伸倍率变更为3.4倍，除此以外与PET膜1同样地得到双向拉伸PET膜7。
4-8.PET膜8
将长度方向的拉伸倍率变更为3.1倍，将宽度方向的第二阶段的拉伸倍率变更为1.2倍，除此以外与PET膜1同样地得到双向拉伸PET膜8。
4-9.PET膜9
将长度方向的拉伸倍率变更为4.0倍，将宽度方向的第一阶段的拉伸倍率变更为3.7倍，将宽度方向的第二阶段的拉伸时的温度变更为220℃，将宽度方向的第二阶段的拉伸倍率变更为1.2倍，将松弛处理时的温度变更为220℃，除此以外与PET膜1同样地得到双向拉伸PET膜9。
5.光学层积体的制作
5-1.使用PET膜1的光学层积体
[实施例1]
按照湿质量为5g/m2的方式，在PET膜1(参照上述“4”。ΔP：0.150、nx-ny：0.125、Re：500nm))上涂布下述的易粘接层用涂布液1，在70℃下干燥30秒，形成干燥质量0.5g/m2的易粘接层。
接着，按照湿质量为12.5g/m2(干燥质量5g/m2)的方式，在易粘接层上涂布凹凸层用涂布液2，在70℃下干燥30秒，以100mJ/cm2照射紫外线，形成干燥厚度5μm的凹凸层。
接着，按照湿质量为4g/m2(干燥质量0.1g/m2)的方式，在凹凸层上涂布防污层用涂布液，在60℃下干燥30秒，以200mJ/cm2照射紫外线，形成干燥厚度100nm的防污层，得到实施例1的光学层积体。
<易粘接层用涂布液1>
将混合聚酯树脂(东洋纺公司的商品名“Vylon UR-1400”)33质量份和交联剂(三井化学公司的商品名“Takenate D110N”)1质量份而成的物质用甲基乙基酮与甲苯的质量比8：2的混合溶剂稀释成固体成分10质量％的涂布液。
实施例1的光学层积体中的、凹凸层和防污层的湿质量；凹凸层和防污层的干燥条件；凹凸层和防污层的紫外线照射的条件；凹凸层和防污层的干燥厚度；等制造条件为制作法1。表1～4中的“制作法”的项目为“1”意味着，与实施例1的光学层积体的上述制造条件相同。
[实施例2～5]
将凹凸层用涂布液2变更为表1中记载的物质，除此以外与实施例1同样地得到实施例2～5的光学层积体。
[实施例6]
按照湿质量为5g/m2的方式，在PET膜1(参照上述“4”)上涂布上述易粘接层用涂布液1，在70℃下干燥30秒，形成干燥质量0.5g/m2的易粘接层。
接着，按照湿质量为2.5g/m2(干燥质量1g/m2)的方式，在易粘接层上涂布凹凸层用涂布液3，在70℃下干燥30秒，以100mJ/cm2照射紫外线，形成干燥厚度1μm的凹凸层。
接着，按照湿质量为4g/m2(干燥质量0.1g/m2)的方式，在凹凸层上涂布防污层用涂布液，在60℃下干燥30秒，以200mJ/cm2照射紫外线，形成干燥厚度100nm的防污层，得到实施例6的光学层积体。
实施例6的光学层积体中的、凹凸层和防污层的湿质量；凹凸层和防污层的干燥条件；凹凸层和防污层的紫外线照射的条件；凹凸层和防污层的干燥厚度；等制造条件为制作法2。
[比较例1～2、4～7]
将凹凸层用涂布液2变更为表1中记载的物质，除此以外与实施例1同样地得到比较例1～2、4～7的光学层积体。
[比较例3]
按照湿质量为5g/m2的方式，在PET膜1(参照上述“4”)上涂布上述易粘接层用涂布液1，在70℃下干燥30秒，形成干燥质量0.5g/m2的易粘接层。
接着，按照湿质量为12.5g/m2(干燥质量5g/m2)的方式，在易粘接层上涂布凹凸层用涂布液1，在50℃干燥30秒，以100mJ/cm2照射紫外线，形成干燥厚度5μm的凹凸层。
接着，按照湿质量为4g/m2(干燥质量0.1g/m2)的方式，在凹凸层上涂布防污层用涂布液，在60℃干燥30秒，以200mJ/cm2照射紫外线，形成干燥厚度100nm的防污层，得到比较例3的光学层积体。
需要说明的是，比较例3的光学层积体中的、凹凸层和防污层的湿质量；凹凸层和防污层的干燥条件；凹凸层和防污层的紫外线照射的条件；凹凸层和防污层的干燥厚度：等制造条件为制作法3。表1～4中的“制作法”的项目为“3”意味着，与比较例3的光学层积体的上述制造条件相同。
5-2.使用PET膜2的光学层积体
[实施例7～12]
将PET膜1变更为上述“4”的PET膜2，除此以外与实施例1～6同样地得到实施例7～12的光学层积体。
[比较例8～14]
将PET膜1变更为上述“4”的PET膜2，除此以外与比较例1～7同样地得到比较例8～14的光学层积体。
5-3.使用PET膜3的光学层积体
[实施例13～18]
将PET膜1变更为上述“4”的PET膜3，除此以外与实施例1～6同样地得到实施例13～18的光学层积体。
[比较例15～21]
将PET膜1变更为上述“4”的PET膜3，除此以外与比较例1～7同样地得到比较例15～21的光学层积体。
5-4.变更了防污层的厚度的光学层积体
[实施例19]
将防污层的厚度变更为90nm，除此以外与实施例1同样地得到实施例19的光学层积体。
[实施例20]
将防污层的厚度变更为110nm，除此以外与实施例1同样地得到实施例20的光学层积体。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
由表1～4可以确认，实施例的光学层积体中，面取向度ΔP高的聚酯膜与易粘接层的密合性优异，进而作为光学层积体整体的密合性优异，并且能够抑制局部缺陷。
6.铅笔硬度和虹斑的验证
6-1.光学层积体的制作
[实施例21～24]
将PET膜1变更为上述“4”的PET膜6～9，除此以外与实施例1同样地得到实施例21～24的光学层积体。
[比较例8]
将PET膜1变更为上述“4”的PET膜4，除此以外与实施例1同样地得到比较例8的光学层积体。
[比较例9]
将PET膜1变更为上述“4”的PET膜5，除此以外与实施例1同样地得到比较例9的光学层积体。需要说明的是，比较例9的光学层积体在PET膜5的不具有易粘接层一侧的面形成易粘接层、凹凸层和防污层。
6-2.评价
对实施例1、7、13、21～24和比较例8～9中得到的光学层积体进行下述(1)和(2)的测定和评价。结果示于表5。
(1)铅笔硬度
将实施例1、7、13、21～24和比较例8～9中得到的光学层积体在100℃下加热10分钟。对于加热后的光学层积体，依据JIS K 5600-5-4：1999的划痕硬度(铅笔法)测定铅笔硬度。具体而言，在光学层积体的防污层侧的面上，使具有规定硬度的铅笔以相对于样品的面成45°的角度接触，在500g负荷下以1.4mm/秒的速度移动，测定铅笔硬度。对作为样品的光学层积体施加负荷后，在目视评价划痕前，再次将样品在100℃下加热10分钟。
对于各样品，使用具有各硬度的铅笔实施3次上述操作。此时，将一条划痕也没有的铅笔中最硬的铅笔硬度作为该样品的铅笔硬度。
(2)虹斑
按照实施例和比较例的光学层积体的PET膜侧的面朝向偏振片侧的方式配置于下述构成的图像显示装置1的观察侧偏振片上。接着，在暗室环境下点亮图像显示装置，用裸眼从各种角度进行观察，按照下述基准评价虹斑的有无。评价者是矫正视力为1.0以上的20岁～59岁的各年代分别5名、合计20名健康人。
评价时的气氛设为温度23±5℃、相对湿度40％以上65％以下。另外，在评价开始前，将对象样品在上述气氛中暴露30分钟以上后进行评价。
A：回答无法观察到虹斑的人为16人以上。
B：回答无法观察到虹斑的人为11人以上15人以下。
C：回答无法观察到虹斑的人为10人以下。
<图像显示装置1的构成>
(1)显示元件：具备微腔结构的三色独立方式的有机EL显示元件(基于CIE-xy色度图的BT.2020-2的覆盖率：77％)。
(2)光源侧偏振片：无
(3)观察侧偏振片：作为由PVA和碘构成的偏振元件的偏振元件保护膜使用了TAC膜的偏振片。配置成偏振元件的吸收轴的方向与画面的水平方向平行。
(4)尺寸：对角10英寸
[表5]
表5
由表4可以确认，使用了满足式1-1和1-2的聚酯膜的实施例的光学层积体能够抑制由面内相位差引起的虹斑，并且能够改善光学层积体的铅笔硬度。
符号说明
10聚酯膜
20易粘接层
30凹凸层
40防污层
100光学层积体
Claims (11)
1.一种光学层积体，其在聚酯膜上具有易粘接层、凹凸层和防污层，
将所述聚酯膜的面内的慢轴方向的折射率定义为nx、将在该面内与慢轴正交的方向的折射率定义为ny、将所述聚酯膜的厚度方向的折射率定义为nz时，所述聚酯膜满足下述式1-2，
对于所述凹凸层，将所述凹凸层的表面的三维偏斜度定义为Ssk、将所述凹凸层的表面的三维算术平均粗糙度定义为Sa时，Ssk和Sa满足下述式2-1，
0.140≤ΔP (1-2)
0.80≤A≤1.90 (2-1)
式1-2中，“ΔP”表示“((nx+ny)/2)-nz”；
式2-1中，“A”表示“log10(Sa×100/Ssk)”，Sa的单位为μm；其中，0＜Ssk。
2.如权利要求1所述的光学层积体，其中，所述聚酯膜还满足下述式1-1，
nx-ny≤0.0250(1-1)。
3.如权利要求1或2所述的光学层积体，其中，所述凹凸层的Ssk满足下述式2-2，
0.10≤Ssk≤1.50(2-2)。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光学层积体，其中，所述凹凸层的Sa满足下述式2-3，
0.020μm≤Sa≤0.200μm(2-3)。
5.如权利要求1～4中任一项所述的光学层积体，其中，所述防污层的厚度为1nm以上200nm以下。
6.如权利要求1～5中任一项所述的光学层积体，其中，所述防污层表面与纯水的接触角为80度以上。
7.如权利要求1～6中任一项所述的光学层积体，其中，从具有所述防污层的一侧以5度的光入射角测定的光反射率Y值为3.0％以下。
8.如权利要求1～7中任一项所述的光学层积体，其中，所述聚酯膜的厚度为10μm以上75μm以下。
9.一种偏振片，其为具有偏振元件、配置于所述偏振元件的一侧的第一透明保护板和配置于所述偏振元件的另一侧的第二透明保护板的偏振片，其中，所述第一透明保护板和所述第二透明保护板中的至少一者为权利要求1～8中任一项所述的光学层积体，按照所述防污层侧的面朝向与所述偏振元件相反一侧的方式配置所述光学层积体。
10.一种图像显示装置用的表面板，其为在树脂板或玻璃板上贴合有光学层积体的图像显示装置用的表面板，其中，所述光学层积体为权利要求1～8中任一项所述的光学层积体，按照所述防污层侧的面朝向与所述树脂板或所述玻璃板相反一侧的方式配置所述光学层积体。
11.一种图像显示装置，在显示元件上按照权利要求1～8中任一项所述的光学层积体的防污层侧的面朝向与所述显示元件相反一侧的方式进行配置，并且所述光学层积体配置在表面。
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