CN115700237A - 一种山水画釉陶瓷制作工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种山水画釉陶瓷制作工艺，制备山水画釉陶瓷，所述山水画釉陶瓷包括陶瓷坯体和设置于陶瓷坯体上的山水画釉，其特征在于，由以下原料组成：霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色；所述霞石，所述高岭土，所述玻璃，所述泥土，所述钾长石，所述钾基粉，所述硅酸锆，所述色料黄，所述色料棕黄，所述黑色，由以下配比份组成：霞石16‑24％，高岭土16‑24％，玻璃14‑20％，泥土7‑13％，钾长石1‑7％，钾基粉1‑5％，硅酸锆9‑13％，色料黄13‑21％，色料棕黄16‑24％，黑色16‑24％。本发明提供的山水画釉陶瓷制作工艺，本发明提供的制作工艺较为简单，使得方便进行制作，且制作后的山水画釉陶瓷的色彩较为鲜明，呈现给参观者一种舒适，心旷神怡的感觉。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷制作技术领域，尤其涉及一种山水画釉陶瓷制作工艺。
背景技术
我国陶瓷具有悠久的历史，是人类文明进步的杰出代表，现今遍布我们生活的各领域，提高了我们的生活质量。随着工艺的进步，陶瓷的质地也在不断地提升，市场上各种陶瓷制品种繁多玲琅满目，其实用性和装饰性都比较强，釉是一种硅酸盐，陶瓷器上所施的釉一般以石英、长石、粘土为原料，经研磨、加水调制后，涂敷于坯体表面，经一定温度的焙烧而熔融，温度下降时，形成陶瓷表面的玻璃质薄层，它使陶瓷器增加机械强度、热稳定性、介电强度和防止液体、气体的侵蚀。
在现有技术中，山水画釉陶瓷制作工艺较为复杂，且制作后色彩较为一般，使得无法给予参观者一种舒适的感觉。
因此，有必要提供一种山水画釉陶瓷制作工艺解决上述技术问题。
发明内容
本发明提供一种山水画釉陶瓷制作工艺，解决了现有山水画釉陶瓷制作工艺较为复杂，且制作后色彩较为一般，使得无法给予参观者一种舒适的感觉的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供的山水画釉陶瓷制作工艺，制备山水画釉陶瓷，所述山水画釉陶瓷包括陶瓷坯体和设置于陶瓷坯体上的山水画釉，由以下原料组成：霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色；其中，所述霞石，所述高岭土，所述玻璃，所述泥土，所述钾长石，所述钾基粉，所述硅酸锆，所述色料黄，所述色料棕黄，所述黑色，由以下配比份组成：霞石16-24％，高岭土16- 24％，玻璃14-20％，泥土7-13％，钾长石1-7％，钾基粉1-5％，硅酸锆9- 13％，色料黄13-21％，色料棕黄16-24％，黑色16-24％。
优选的，由以下配比份组成：霞石16％，高岭土16％，玻璃14％，泥土7％，钾长石1％，钾基粉1％，硅酸锆9％，色料黄13％，色料棕黄 16％，黑色16％。
优选的，由以下配比份组成：霞石20％，高岭土20％，玻璃17％，泥土10％，钾长石4％，钾基粉2％，硅酸锆10％，色料黄17％，色料棕黄20％，黑色20％。
优选的，由以下配比份组成：霞石24％，高岭土24％，玻璃20％，泥土13％，钾长石7％，钾基粉5％，硅酸锆13％，色料黄21％，色料棕黄24％，黑色24％。
优选的，一种山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1：对霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色进行称量，称量后单独放置在容器的内部；
S2：对S1步骤中称量后的原料进行搅拌混合，充分混合后，采用 10kg-200㎏球磨机研磨，加水按釉料干重比例1:6水进去研磨24小时-48 小时，釉浆比重1.88；
S3：取出胚体，然后将S2步骤中的釉浆均匀涂抹在坯体的表面，涂抹后进窑炉烧1180度。
优选的，所述S3步骤中釉层厚度为0.2－0.3mm。
优选的，所述S1步骤中对颗粒物进行粉碎，粉碎的大小为2000目。
与相关技术相比较，本发明提供的山水画釉陶瓷制作工艺具有如下有益效果：
本发明提供一种山水画釉陶瓷制作工艺，本发明提供的制作工艺较为简单，使得方便进行制作，且制作后的山水画釉陶瓷的色彩较为鲜明，呈现给参观者一种舒适，心旷神怡的感觉。
具体实施方式
下面结合实施方式对本发明作进一步说明。
一种山水画釉陶瓷制作工艺，制备山水画釉陶瓷，所述山水画釉陶瓷包括陶瓷坯体和设置于陶瓷坯体上的山水画釉，由以下原料组成：霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色；其中，所述霞石，所述高岭土，所述玻璃，所述泥土，所述钾长石，所述钾基粉，所述硅酸锆，所述色料黄，所述色料棕黄，所述黑色，由以下配比份组成：霞石16-24％，高岭土16-24％，玻璃14-20％，泥土7- 13％，钾长石1-7％，钾基粉1-5％，硅酸锆9-13％，色料黄13-21％，色料棕黄16-24％，黑色16-24％。
实施例1
由以下配比份组成：霞石16％，高岭土16％，玻璃14％，泥土7％，钾长石1％，钾基粉1％，硅酸锆9％，色料黄13％，色料棕黄16％，黑色 16％。
实施例2
由以下配比份组成：霞石20％，高岭土20％，玻璃17％，泥土 10％，钾长石4％，钾基粉2％，硅酸锆10％，色料黄17％，色料棕黄 20％，黑色20％。
实施例3
由以下配比份组成：霞石24％，高岭土24％，玻璃20％，泥土 13％，钾长石7％，钾基粉5％，硅酸锆13％，色料黄21％，色料棕黄 24％，黑色24％。
一种山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1：对霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色进行称量，称量后单独放置在容器的内部；
S2：对S1步骤中称量后的原料进行搅拌混合，充分混合后，采用10kg-200㎏球磨机研磨，加水按釉料干重比例1:6水进去研磨24小时-48 小时，釉浆比重1.88；
S3：取出胚体，然后将S2步骤中的釉浆均匀涂抹在坯体的表面，涂抹后进窑炉烧1180度。
采用霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色为原料，可以调整釉料的保水性，改善坯釉结合，提高施釉效率；加快施釉速度和釉料干燥速度、调整釉浆粘度，获得所要求的釉浆的触变性，改善施釉质量。施釉时防止釉面消釉、条纹或凹凸不平，还益于丝网施釉，避免施釉后图案模糊不清的现象，特别是形成高质量大理石花纹图案时。三、调整釉浆的密度，防止釉浆沉淀，促进釉料的排气和除泡，改变釉料的流变学性能提高釉层质量；不仅坯釉结合力强，釉层强度高，而且消除气孔、针孔、凸坑等缺陷，可以改善陶瓷的坯釉分离性能，提高陶瓷釉面硬度，还可以起到增白作用。
所述S3步骤中釉层厚度为0.2－0.3mm。
所述S1步骤中对颗粒物进行粉碎，粉碎的大小为2000目。
与相关技术相比较，本发明提供的山水画釉陶瓷制作工艺具有如下有益效果：
本发明提供的制作工艺较为简单，使得方便进行制作，且制作后的山水画釉陶瓷的色彩较为鲜明，呈现给参观者一种舒适，心旷神怡的感觉。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (7)
1.一种山水画釉陶瓷制作工艺，制备山水画釉陶瓷，所述山水画釉陶瓷包括陶瓷坯体和设置于陶瓷坯体上的山水画釉，其特征在于，由以下原料组成：
霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色；
其中，所述霞石，所述高岭土，所述玻璃，所述泥土，所述钾长石，所述钾基粉，所述硅酸锆，所述色料黄，所述色料棕黄，所述黑色，由以下配比份组成：霞石16-24％，高岭土16-24％，玻璃14-20％，泥土7-13％，钾长石1-7％，钾基粉1-5％，硅酸锆9-13％，色料黄13-21％，色料棕黄16-24％，黑色16-24％。
2.根据权利要求1所述的山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，由以下配比份组成：霞石16％，高岭土16％，玻璃14％，泥土7％，钾长石1％，钾基粉1％，硅酸锆9％，色料黄13％，色料棕黄16％，黑色16％。
3.根据权利要求1所述的山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，由以下配比份组成：霞石20％，高岭土20％，玻璃17％，泥土10％，钾长石4％，钾基粉2％，硅酸锆10％，色料黄17％，色料棕黄20％，黑色20％。
4.根据权利要求1所述的山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，由以下配比份组成：霞石24％，高岭土24％，玻璃20％，泥土13％，钾长石7％，钾基粉5％，硅酸锆13％，色料黄21％，色料棕黄24％，黑色24％。
5.一种山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1：对霞石，高岭土，玻璃，泥土，钾长石，钾基粉，硅酸锆，色料黄，色料棕黄，黑色进行称量，称量后单独放置在容器的内部；
S2：对S1步骤中称量后的原料进行搅拌混合，充分混合后，采用10kg-200㎏球磨机研磨，加水按釉料干重比例1:6水进去研磨24小时-48小时，釉浆比重1.88；
S3：取出胚体，然后将S2步骤中的釉浆均匀涂抹在坯体的表面，涂抹后进窑炉烧1180度。
6.根据权利要求5所述的山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，所述S3步骤中釉层厚度为0.2－0.3mm。
7.根据权利要求5所述的山水画釉陶瓷制作工艺，其特征在于，所述S1步骤中对颗粒物进行粉碎，粉碎的大小为2000目。
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| CN202211502603.2A Pending CN115700237A (zh) | 2022-11-28 | 2022-11-28 | 一种山水画釉陶瓷制作工艺 |
Country Status (1)
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2022
- 2022-11-28 CN CN202211502603.2A patent/CN115700237A/zh active Pending
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