CN115231826B - 一种原石釉、原石瓷砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种原石釉、原石瓷砖及其制备方法，涉及瓷砖技术领域。其中，所述原石釉，其化学组分按重量百分比计包括：SiO2 42.1%～45.8%、Al2O3 15.27%～19.2%、MgO 2.05%～2.77%、CaO 8.09%～10.3%、Na2O 2.56%～3.2%、K2O 1.4%～1.6%、BaO 6.38%～8.25%、ZnO 3.49%～5%、PbO 0.24%～0.6%、SrO 1.05%～2.11%、灼减8.48%～10.8%，余量为杂质。通过添加PbO，以及控制Na2O、K2O等碱性金属组分的含量，使得原石釉可以呈现出蜡质油状光泽，表面更加细腻，在视觉和触感上更接近原石材料。

Description

一种原石釉、原石瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及瓷砖技术领域，特别涉及一种原石釉、原石瓷砖及其制备方法。
背景技术
原石存在于大自然中，其形态各异，经加工过的原石产品会呈现独特、美丽的纹理，深受人们喜爱。为了满足消费者的需求，瓷砖行业不断地推出具有原石纹理效果的瓷砖。目前原石瓷砖大多使用抛光或柔抛来达到石材呈现的效果，但与原石还是存在差距。原石经流砂或水流的冲刷后，光泽度不高，且表面手感细腻，但不具有人工抛光后的原石瓷砖呈现的光滑效果，其具有更接近于蜡质材料的触感蜡质油状光泽，因此，现有原石瓷砖的效果与原石效果存在较大的差距。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种原石釉、原石瓷砖及其制备方法，旨在解决现有技术中原石瓷砖的视觉和触觉效果与原石的差距较大的技术问题。
为了达到上述目的，本发明采取了以下技术方案：
一种原石釉，其化学组分按重量百分比计包括：SiO2 42.1%～45.8%、Al2O3 15.27%～19.2%、MgO 2.05%～2.77%、CaO 8.09%～10.3%、Na2O 2.56%～3.2%、K2O 1.4%～1.6%、BaO6.38%～8.25%、ZnO 3.49%～5%、PbO 0.24%～0.6%、SrO 1.05%～2.11%、灼减8.48%～10.8%，余量为杂质。
所述的原石釉，其中，所述原石釉的制备原料按重量份计包括：霞石20～25份、钾长石2～4份、高岭土4～6份、煅烧高岭土15～20份、方解石5～7份、烧滑石5～7份、碳酸锶1.5～3份、氧化锌3.5～5份、碳酸钡9～11份、铅丹1～2.5份、硅灰石11～14份、石英粉9～13份。
一种原石瓷砖，其中，包括依次层叠设置的坯体层、面釉层、印花层、大理石纹理层以及原石釉层；所述原石釉层由上述的原石釉烧制得到。
所述的原石瓷砖，其中，所述面釉层由面釉烧制后制得，所述面釉的化学组成按重量百分比计包括：SiO2 56.44%～62.4%、Al2O3 19.3%～22.21%、MgO 0.3%～0.6%、CaO 2.54%～4.01%、Na2O 3.77%～4.31%、K2O 0.62%～1.03%、BaO 0.38%～0.75%、ZnO 1%～2.5%、ZrO25.15%～7.73%、灼减1.5%～2.1%，余量为杂质。
所述的原石瓷砖，其中，所述面釉的制备原料按重量份计包括：钠长石35～40份、钾长石3～7份、锆英粉8～12份、氧化锌1～2.5份、烧滑石0.3～1份、硅灰石6～10份、碳酸钡0.5～1份、煅烧高岭土22～26份、石英粉4～9份、高岭土4～6份。
一种原石瓷砖的制备方法，用于制备如上所述的原石瓷砖，其中，包括以下步骤：
S1.在坯体层表面布施面釉，以在烧制后形成面釉层；
S2.在布施有所述面釉的坯体层表面喷墨印花，以在烧制后形成印花层；
S3.在喷印有印花层的坯体层表面喷印大理石纹理墨水，以在烧制后形成大理石纹理层；
S4.在喷印有大理石纹理墨水层的坯体层表面布施原石釉，以在烧制后形成原石釉层；
S5.对所述坯体层进行烧制处理，制得所述原石瓷砖。
所述的原石瓷砖的制备方法，其中，所述大理石纹理墨水按重量百分比计包括如下化学成分：亚光熔块30%～40%、钒酸锌1%～8%、丙烯酸树脂25%～35%、醋酸乙酯20%～30%，所述大理石纹理墨水按重量百分比计还包括如下溶剂：分散剂3%～6%、悬浮剂0.1%～0.2%、消泡剂0.2%～0.3%、流平剂0.3%～0.6%、pH值调节剂0.1%～0.2%。
所述的原石瓷砖的制备方法，其中，所述亚光熔块按重量百分比计包括：SiO2 49%～51%、Al2O3 10%～12%、MgO 0.3%～0.4%、CaO 8.5%～10.5%、Na2O 1%～2%、K2O 4%～5%、BaO12%～14%、ZnO 5.5%～7%、B2O3 2%～3%、灼减0.1%～0.3%，余量为杂质。
所述的原石瓷砖的制备方法，其中，所述在喷印有大理石纹理墨水层的坯体层表面布施原石釉的步骤包括：
采用喷釉的方式在所述坯体层表面进行第一道施釉处理；
采用钟罩淋釉的方式在经过第一道施釉处理的坯体层表面进行第二道施釉处理。
所述的原石瓷砖的制备方法，其中，在所述第一道施釉处理中，原石釉的比重为1.25～1.35g/cm3，原石釉的用量为75～110 g/m2；在所述第二道施釉处理中，原石釉的比重为1.80～1.95g/cm3，原石釉的用量为350～500g/m2。
有益效果：
本发明提供了一种原石釉，通过增加碱土金属组份提高釉层的透明度；通过加入PbO增加原石釉的蜡质光泽，通过降低 Na2O与K2O的含量，提高原石釉的始熔点，从而使挥发份可以充分排出。烧制后的釉层表面不仅具备光滑细腻的触感，还带有蜡质光泽，具有更接近于原石的效果。
本发明还提供了一种原石瓷砖，大理石纹理层和原石釉层的搭配使瓷砖表面不仅具有蜡质油状光泽和光滑细腻的触感，还具有模拟大理石的凹陷纹理。
本发明还提供了一种原石瓷砖的制备方法，该制备方法的工艺简单，在坯体层上依次形成面釉层、印花层、大理石纹理层和原石釉层后，经一次烧制得到。其中，原石釉中以霞石为主要成分，烧制时具有良好的传热效果，瓷砖在烧制时可以快速干燥，烧成周期更短，生产效率高。
附图说明
图1为本发明提供的原石瓷砖结构示意图；图中主要元件说明：1-坯体层、2-面釉层、3-印花层、4-大理石纹理层、5-原石釉层。
图2为原石素材。
图3为实施例1制得的原石瓷砖。
图4为实施例2制得的原石瓷砖。
图5为实施例3制得的原石瓷砖。
图6为实施例4制得的原石瓷砖。
图7为实施例5制得的原石瓷砖。
图8为对比例1制得的原石瓷砖。
图9为对比例2制得的原石瓷砖。
图10为对比例3制得的原石瓷砖。
图11为对比例4制得的原石瓷砖。
图12为对比例5制得的原石瓷砖。
图13为对比例6制得的原石瓷砖。
图14为对比例7制得的原石瓷砖。
具体实施方式
本发明提供一种原石釉、原石瓷砖及其制备方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”等指示方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以及特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本发明的限制。
一种原石釉，其化学组分按重量百分比计包括：SiO2 42.1%～45.8%、Al2O3 15.27%～19.2%、MgO 2.05%～2.77%、CaO 8.09%～10.3%、Na2O 2.56%～3.2%、K2O 1.4%～1.6%、BaO6.38%～8.25%、ZnO 3.49%～5%、PbO 0.24%～0.6%、SrO 1.05%～2.11%、灼减8.48%～10.8%，余量为杂质。所述原石釉的碱土金属组份较高，可减小原石釉的高温粘度，增加釉层的透明度。原石釉中Na2O和K2O的含量较低，具有较高的始熔点，有利于在烧制过程中坯体层与其他釉层的挥发份的排出。PbO可以增加原石釉的蜡质光泽。ZnO可以降低釉的膨胀系数，增加釉的光泽与白度，有利于图案层的色彩发色。
一种实施方式中，所述原石釉的制备原料按重量份计包括：霞石20～25份、钾长石2～4份、高岭土4～6份、煅烧高岭土15～20份、方解石5～7份、烧滑石5～7份、碳酸锶1.5～3份、氧化锌3.5～5份、碳酸钡9～11份、铅丹1～2.5份、硅灰石11～14份、石英粉9～13份。原石釉采用霞石作为基础原料，霞石具有良好的传热性能，有助于水分及烧失的外排和热的扩散，利于釉层快速干燥和快速烧成。此外，霞石有较高的铝含量，有助于拓宽烧成温度范围，减少釉面缺陷；烧制过程中，霞石中的钾钠高度互熔，使釉面质感呈半透明状。煅烧高岭土用于提高配方中的氧化铝含量，氧化铝在釉中起到骨架作用，也有助于拓宽烧成温度范围，但过高会减弱釉的光泽度与透明度。硅灰石与方解石主要用于引入氧化钙，氧化钙可以和二氧化硅形成玻璃，从而提高釉的透明度，并改善釉的弹性、硬度和光泽。碳酸锶用于引入氧化锶，氧化锶可以提高釉的耐磨性与坚韧性，降底釉的瓷化收缩率。碳酸钡用于引入氧化钡，氧化钡与氧化钙、氧化镁与二氧化硅都可以形成玻璃体，在釉中起到助熔、拓宽熔融温度范围的作用，氧化钡还能增加釉面玻璃的折射率、密度和化学稳定性。方解石和碳酸钡在900～1000℃烧成过程会分解出二氧化碳，使原石釉在这一温度范围内形成透气孔，可以让坯体层与面釉层的挥发物更容易排出去，随着烧成温度的升高，挥发物趋于分解完成，碱金属氧化物与氧化硅熔融形成玻璃液，熔融玻璃的粘度随温度的升高而降低，会把孔洞闭合，经冷却后形成蜡质状原石釉。
所述原石釉的釉浆可以通过以下方法制备：按配方称取各原料并置于球磨机中，在球磨机中加入0.1～0.4份羧甲基纤维素和0.2～0.6份三聚磷酸钠，将原料混合均匀，加水35～40份，球磨，得到釉浆；釉浆细度以350目筛网为标准，筛余量控制在0.1%～0.4%。
请参阅图1，一种原石瓷砖，包括依次层叠设置的坯体层1、面釉层2、印花层3、大理石纹理层4以及原石釉层5；所述原石釉层5由上述的原石釉烧制得到。大理石纹理层的高度小于原石釉层的高度，使得在釉面形成凹纹，再搭配上原石釉层所具有的蜡质光泽和光滑细腻的触感，整体效果更接近原石。
一种实施方式中，所述面釉层由面釉烧制后制得，所述面釉的化学组成按重量百分比计包括：SiO2 56.44%～62.4%、Al2O3 19.3%～22.21%、MgO 0.3%～0.6%、CaO 2.54%～4.01%、Na2O 3.77%～4.31%、K2O 0.62%～1.03%、BaO 0.38%～0.75%、ZnO 1%～2.5%、ZrO25.15%～7.73%、灼减1.5%～2.1%，余量为杂质。面釉层采用相对高硅高铝的配方，使面釉层在烧成过程具一定的高温强度，对上层的图案层与原石釉起到承接作用，同时可以增强釉的盖下作用。其Na2O与K2O的含量较原石釉层的高，始熔点较原石釉低，有利于挥发份穿过原石釉层排出。ZrO2用于增加釉的乳浊性与白度。
一种实施方式中，所述面釉的制备原料按重量份数计包括：钠长石35～40份、钾长石3～7份、锆英粉8～12份、氧化锌1～2.5份、烧滑石0.3～1份、硅灰石6～10份、碳酸钡0.5～1份、煅烧高岭土22～26份、石英粉4～9份、高岭土4～6份。配方中采用低挥发份的原料如煅烧高岭土、硅灰石、烧滑石，可以减少面釉层的挥发组份，因为坯体层与面釉层的挥发组份会对原石釉层的釉面效果会带来实质性影响，面釉层中的挥发组份如果排放不及时就会在釉面上形成针孔与气泡。
所述面釉层的釉浆可通过以下方法制备：按比例称取各原料并置于球磨机中，在球磨机中加入0.1～0.4份羧甲基纤维素和0.2～0.6份三聚磷酸钠，将原料混合均匀，加水35～40份，球磨，得到釉浆；釉浆细度以350目筛网为标准，筛余量控制在0.1%～0.4%。
一种原石瓷砖的制备方法，用于制备如上所述的原石瓷砖，包括以下步骤：
S1.在坯体层表面布施面釉，以在烧制后形成面釉层；所述面釉层可以采用钟罩淋釉的方法施加，施釉的各个参数可以为：施釉量380～500g/m2，比重1.80～1.95g/cm3，流速30～45秒。采用钟罩淋釉，当釉的比重稍大，含水量较小，淋出釉面可以相对平整，淋的釉面可以相对较厚；
S2.在布施有所述面釉的坯体层表面喷墨印花，以在烧制后形成印花层；
S3.在喷印有印花层的坯体层表面喷印大理石纹理墨水，以在烧制后形成大理石纹理层；
S4.在喷印有大理石纹理墨水层的坯体层表面布施原石釉，以在烧制后形成原石釉层；大理石纹理墨水对原石釉具有排斥作用，使淋完原石釉后，釉面在喷有大理石纹理墨水的位置会形成凹陷纹路。大理石纹理可通过电脑软件进行绘制。大理石纹理墨水的打印灰度取值依产品的下陷效果而定，取值范围在10～100。
步骤S5.烧制，制得所述原石瓷砖；烧成温度控制在1200～1230℃，烧成周期为35～45分钟。
一种实施方式中，所述大理石纹理墨水按重量百分比计包括如下化学成分：亚光熔块30%～40%、钒酸锌1%～8%、丙烯酸树脂25%～35%、醋酸乙酯20%～30%，所述大理石纹理墨水按重量百分比计还包括如下溶剂：分散剂3%～6%、悬浮剂0.1%～0.2%、消泡剂0.2%～0.3%、流平剂0.3%～0.6%、pH值调节剂0.1%～0.2%。在烧成过程中，墨水中的钒酸锌会分解出五氧化二钒，五氧化二钒会降低原石釉的的高温表面张力，可以保持或加深精雕纹理处的深度，使瓷砖烧成后产品表面的大理石凹线纹路清晰可见，精雕墨水中的亚光熔块可以保持凹线纹路处于亚光状态。丙烯酸树脂、醋酸乙酯是无色透明液体，墨水的主要溶剂成份。丙烯酸树脂色浅、水白透明，涂膜性能优异，耐光、耐候性佳，耐热，耐过度烘烤、耐化学品性及耐腐蚀等性能都极好；醋酸乙酯具有优异的溶解性、快干性。
一种实施方式中，所述亚光熔块按重量百分比计，包括：SiO2 49%～51%、Al2O3 10%～12%、MgO 0.3%～0.4%、CaO 8.5%～10.5%、Na2O 1%～2%、K2O 4%～5%、BaO 12%～14%、ZnO5.5%～7%、B2O3 2%～3%、灼减 0.1%～0.3%，余量为杂质。
一种实施方式中，所述在喷印有大理石纹理墨水层的坯体层表面布施原石釉的步骤包括：
采用喷釉的方式在所述坯体层表面进行第一道施釉处理；
采用钟罩淋釉的方式在经过第一道施釉处理的坯体层表面进行第二道施釉处理。
其中，在所述第一道施釉处理中，原石釉的比重为1.25～1.35g/cm3，原石釉的用量为75～110g/m2；在所述第二道施釉处理中，原石釉的比重为1.80～1.95g/cm3，原石釉的用量为350～500g/m2。
喷釉时，对应的釉浆的比重较小，可以很好均匀的铺满砖坯表面，釉浆的含水率大，喷釉易把釉均匀铺满整个板面，可很好地保持模具纹理的体现。喷釉时釉浆的水份多，渗透性好，可以快速进入坯体中排出坯体的气体，但是釉快速进入气孔中会导致流平时间相对不足，造成喷釉形成的釉面平整度稍差。因此，通过进一步采用淋比重大的釉浆可以保证形成的釉面具有较好的平整度。淋釉形成的釉面相对平整，但如果在大理石纹理墨水层上直接淋釉，坯体中的气体来不及排出就很容易产生淋釉针孔。本实施方式中前期采用喷釉将气体排出后，再采用钟罩淋第二道原石釉的方法，可以避免淋釉针孔，保证淋釉的釉面平整度。砖坯经前一道喷釉工艺后，表面水份的增加可以延长淋釉后的干燥收水时间，从而可以增加釉面的流平时间。喷釉时还需注意含水率不宜太大，否则会降低坯体强度，而且过多的水份会把大理石纹理弄模糊。所述原石釉实施喷釉时，喷釉时釉量相对较少，这样能很好保持喷印的大理石纹理。
为进一步的阐述本发明，提供如下实施例。
实施例1
一种原石瓷砖，其制备方法包括以下步骤：
S1.经干燥处理的砖坯，采用喷枪喷水温润砖坯表面，喷水量80g/m2，然后用钟罩淋面釉，施釉量为440g/m2，比重为1.85g/cm3，流速为35秒；
S2.施好面釉的砖坯，收水后，通过喷墨打印依次形成印花层与大理石纹理层；
S3.经喷墨打印的砖经干燥后，用喷枪喷原石釉，原石釉的比重为1.3g/cm3，釉量为90g/m2,经喷釉的砖再用钟罩淋原石釉，比重为1.85g/cm3，釉量为370g/m2，流速为35秒；
S4.淋好原石釉的砖坯进入窑炉烧成，烧成温度1220℃，烧成周期38分钟；
S5.烧制完成后磨边获得成品。
所述大理石纹墨水按重量百分比计，包括：亚光熔块35%、钒酸锌5%、丙烯酸树脂25%、醋酸乙酯30%、分散剂4%、悬浮剂0.15%、消泡剂0.3%、流平剂0.4%、pH值调节剂0.15%。
所述亚光熔块按重量分数计，包括：SiO2 50%、Al2O3 11%、MgO 0.3%、CaO 9.5%、Na2O1.7%、K2O 4%、BaO 13%、ZnO 7%、B2O3 2.8%、灼减0.3%,杂质0.4%。
本实施例中，所述面釉的化学组成见表一，其制备原料配比见表二；所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
所述面釉的制备方法包括以下步骤：按表二中实施例1的配方，分别称取原材料，然后加入球磨机中球磨，磨至釉浆细度达到350目筛网为标准，筛余量为0.1%～0.4%为合格。过100目筛放置釉浆池陈腐24小时备用。
所述原石釉的制备方法包括以下步骤：按表四中实施例1的配方，分别称取原材料，然后加入球磨机中球磨，磨至釉浆细度达到350目筛网为标准，筛余量为0.1%～0.4%为合格。过100目筛放置釉浆池陈腐24小时备用。
实施例2
一种原石瓷砖，其制备方法包括以下步骤：
S1.经干燥处理的砖坯，采用喷枪喷水温润砖坯表面，喷水量80g/m2，然后用钟罩淋面釉，施釉量为380g/m2，比重为1.95g/cm3，流速为45秒；
S2.施好面釉的砖坯，收水后，通过喷墨打印依次形成印花层与大理石纹理层；
S3.经喷墨打印的砖经干燥后，用喷枪喷原石釉，原石釉的比重为1.35g/cm3，釉量为110g/m2,经喷釉的砖再用钟罩淋原石釉，比重为1.8g/cm3，釉量为500g/m2，流速为30秒；
S4.淋好原石釉的砖坯进入窑炉烧成，烧成温度1220℃，烧成周期42分钟；
S5.烧制完成后磨边获得成品。
所述大理石纹墨水按重量百分比计，包括：亚光熔块40%、钒酸锌1%、丙烯酸树脂31.8%、醋酸乙酯20%、分散剂6%、悬浮剂0.2%、消泡剂0.2%、流平剂0.6%、pH值调节剂0.2%。
所述亚光熔块按重量分数计，包括： SiO2 51%、Al2O3 10.4%、MgO 0.4%、CaO10.5%、Na2O 1%、K2O 5%、BaO 12%、ZnO 7%、B2O3 2%、灼减0.2%,杂质0.5%。
本实施例中，所述面釉的化学组成见表一，其制备原料配比见表二；所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
所述面釉和原石釉的制备方法与实施例1相同。
实施例3
一种原石瓷砖，其制备方法包括以下步骤：
S1.经干燥处理的砖坯，采用喷枪喷水温润砖坯表面，喷水量80g/m2，然后用钟罩淋面釉，施釉量为500g/m2，比重为1.8g/cm3，流速为30秒；
S2.施好面釉的砖坯，收水后，通过喷墨打印依次形成印花层与大理石纹理层；
S3.经喷墨打印的砖经干燥后，用喷枪喷原石釉，原石釉的比重为1.25g/cm3，釉量为75g/m2,经喷釉的砖再用钟罩淋原石釉，比重为1.95g/cm3，釉量为350g/m2，流速为45秒；
S4.淋好原石釉的砖坯进入窑炉烧成，烧成温度1210℃，烧成周期40分钟；
S5.烧制完成后磨边获得成品。
所述大理石纹墨水按重量百分比计，包括：亚光熔块30%、钒酸锌8%、丙烯酸树脂35%、醋酸乙酯23.3%、分散剂3%、悬浮剂0.1%、消泡剂0.2%、流平剂0.3%、pH值调节剂0.1%。
所述亚光熔块按重量分数计，包括： SiO2 49%、Al2O3 12%、MgO 0.3%、CaO 10%、Na2O2%、K2O 4%、BaO 14%、ZnO 5.5%、B2O3 3%、灼减0.1%,杂质0.1%。
本实施例中，所述面釉的化学组成见表一，其制备原料配比见表二；所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
所述面釉和原石釉的制备方法与实施例1相同。
实施例4
一种原石瓷砖，其制备方法包括以下步骤：
S1.经干燥处理的砖坯，采用喷枪喷水温润砖坯表面，喷水量80g/m2 ，然后用钟罩淋面釉，施釉量为400g/m2，比重为1.9g/cm3，流速为38秒；
S2.施好面釉的砖坯，收水后，通过喷墨打印依次形成印花层与大理石纹理层；
S3.经喷墨打印的砖经干燥后，用喷枪喷原石釉，原石釉的比重为1.25g/cm3，釉量为90g/m2,经喷釉的砖再用钟罩淋原石釉，比重为1.9g/cm3，釉量为400g/m2，流速为40秒；
S4.淋好原石釉的砖坯进入窑炉烧成，烧成温度1200℃，烧成周期45分钟；
S5.烧制完成后磨边获得成品。
本实施例中，所述大理石纹墨水和亚光熔块的配比同实施例1。所述面釉的化学组成见表一，其制备原料配比见表二；所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
所述面釉和原石釉的制备方法与实施例1相同。
实施例5
一种原石瓷砖，其制备方法包括以下步骤：
S1.经干燥处理的砖坯，采用喷枪喷水温润砖坯表面，喷水量80g/m2，然后用钟罩淋面釉，施釉量为450g/m2，比重为1.85g/cm3，流速为35秒；
S2.施好面釉的砖坯，收水后，通过喷墨打印依次形成印花层与大理石纹理层；
S3.经喷墨打印的砖经干燥后，用喷枪喷原石釉，原石釉的比重为1.25g/cm3，釉量为90g/m2,经喷釉的砖再用钟罩淋原石釉，比重为1.85g/cm3，釉量为450g/m2，流速为35秒；
S4.淋好原石釉的砖坯进入窑炉烧成，烧成温度1230℃，烧成周期35分钟；
S5.烧制完成后磨边获得成品。
本实施例中，所述大理石纹墨水和亚光熔块的配比同实施例2。所述面釉的化学组成见表一，其制备原料配比见表二；所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
所述面釉和原石釉的制备方法与实施例1相同。
对比例1
一种原石瓷砖，其与实施例1的区别在于，所述面釉的化学组成和原料组成不同。
本对比例中，所述面釉的化学组成见表一，其制备原料配比见表二。
对比例2
一种原石瓷砖，其与实施例1的区别在于，所述面釉的化学组成和原料组成不同。
本对比例中，所述面釉的化学组成见表一，其制备原料配比见表二。
对比例3
一种原石瓷砖，其与实施例1的区别在于，所述原石釉的化学组成和原料组成不同。
本对比例中，所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
对比例4
一种原石瓷砖，其与实施例1的区别在于，所述原石釉的化学组成和原料组成不同。
本对比例中，所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
对比例5
一种原石瓷砖，其与实施例1的区别在于，所述原石釉的化学组成和原料组成不同。
本对比例中，所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
对比例6
一种原石瓷砖，其与实施例1的区别在于，所述原石釉的化学组成和原料组成不同。
本对比例中，所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
对比例7
一种原石瓷砖，其与实施例1的区别在于，所述原石釉的化学组成和原料组成不同。
本对比例中，所述原石釉的化学组成见表三，其制备原料配比见表四。
表一：各实施例、对比例中的面釉的化学组成（按重量百分比（%）计）
Figure 917179DEST_PATH_IMAGE001
表二：各实施例、对比例的面釉所用原料的用量（按重量份计）
Figure 388612DEST_PATH_IMAGE002
表三：各实施例、对比例中的原石釉的化学组成（按重量百分比（%）计）
Figure 380838DEST_PATH_IMAGE003
表四：各实施例、对比例的原石釉所用原料的用量（按重量份计）
Figure 669737DEST_PATH_IMAGE004
检查各实施例、对比例制得的原石瓷砖的性能，结果如下表：
表五
Figure 380204DEST_PATH_IMAGE005
图2为原石素材的实物图，图3-图7为实施例1-5的原石瓷砖的实物图，其表面光泽度在15-25的范围内，大理石纹理清晰，从肉眼上观察，图3-图7与图2的视觉效果十分相近，且釉面无针孔或气泡，说明原石瓷砖的仿真度高，且质量好。
图8为对比例1的原石瓷砖的实物图，对比例1与实施例1相比，其面釉中的Na2O含量更高，Al2O3的含量更低（钠长石从38.4份提高到45份，煅烧高岭土从24.1份降至17.5份），导致面釉的烧成温度下降，在高温熔融时，面釉的高温黏度变小，流动性加大，整个砖釉面烧成后大理石的纹理立体效果差，边界模糊。
图9为对比例2的原石瓷砖的实物图，对比例2与实施例1相比，其面釉中的Na2O含量更低，Al2O3的含量更高（钠长石从38.4份降到32.5份，煅烧岭土从24.1份升至30份），导致面釉的烧成温度下降，在高温熔融时，面釉的高温黏度变大，流动性加小，烧成时釉面不容易摊平，光泽度低。
图10为对比例3的原石瓷砖的实物图，对比例3与实施例1相比，其原石釉中不含有PbO，烧成后得到的釉面光泽度不足，显得粗糙。
图11为对比例4的原石瓷砖的实物图，对比例4与实施例1相比，其原石釉中减少了碳酸盐组分的含量（方解石含量由6.2份降到4份，碳酸锶含量由1.8份降到1份，碳酸钡含量由9.7份降到8份，铅丹由1.8份降到0.5份），碱土金属组分含量的减少，会导致釉的高温粘度增加，流平性变差，导致部分气孔没有封闭，烧成后形成针孔，同时釉面稍皱。
图12为对比例5的原石瓷砖的实物图，对比例5与实施例1相比，其原石釉中增加了碳酸盐组分的含量（方解石含量由6.2份增到8份，碳酸锶含量由1.8份增到4份，碳酸钡含量由9.7份增到12份，铅丹由1.8份增到2.5份），由于增加了碱土金属组份的含量，釉的高温流动性增加，挥发份的增加导致所需分解时间较长，部分气孔过早流平闭合，残留的挥发气体滞留釉下形成釉泡，同时釉面釉的高温流动性增加，使大理石纹理的立体效果差。
图13为对比例6的原石瓷砖的实物图，对比例6与实施例1相比，其原石釉中增加了霞石的含量（霞石由22.3份增加到30份），霞石含量的增加会带来氧化钠含量的增加，烧成后釉面油光泽增加，大理石纹理不够立体，釉面易起泡。
图14为对比例7的原石瓷砖的实物图，对比例7与实施例1相比，其原石釉中减少了霞石的含量（霞石含量由22.3份减少到15份），霞石含量的减少会带来氧化钠含量的减少，烧成温度提高。烧成后釉面油状光泽减弱，大理石纹理不够立体，釉面易起泡，釉面手感不细腻显粗糙。
可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，而所有这些改变或替换都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种原石釉，其特征在于，其化学组分按重量百分比计包括：SiO2 42.1%～45.8%、Al2O3 15.27%～19.2%、MgO 2.05%～2.77%、CaO 8.09%～10.3%、Na2O 2.56%～3.2%、K2O1.4%～1.6%、BaO 6.38%～8.25%、ZnO 3.49%～5%、PbO 0.24%～0.6%、SrO 1.05%～2.11%、灼减8.48%～10.8%，余量为杂质。
2.根据权利要求1所述的原石釉，其特征在于，所述原石釉的制备原料按重量份计包括：霞石20～25份、钾长石2～4份、高岭土4～6份、煅烧高岭土15～20份、方解石5～7份、烧滑石5～7份、碳酸锶1.5～3份、氧化锌3.5～5份、碳酸钡9～11份、铅丹1～2.5份、硅灰石11～14份、石英粉9～13份。
3.一种原石瓷砖，其特征在于，包括依次层叠设置的坯体层、面釉层、印花层、大理石纹理层以及原石釉层；所述原石釉层由权利要求1-2任一项所述的原石釉烧制得到。
4.根据权利要求3所述的原石瓷砖，其特征在于，所述面釉层由面釉烧制后制得，所述面釉的化学组成按重量百分比计包括：SiO2 56.44%～62.4%、Al2O3 19.3%～22.21%、MgO0.3%～0.6%、CaO 2.54%～4.01%、Na2O 3.77%～4.31%、K2O 0.62%～1.03%、BaO 0.38%～0.75%、ZnO 1%～2.5%、ZrO2 5.15%～7.73%、灼减1.5%～2.1%，余量为杂质。
5.根据权利要求4所述的原石瓷砖，其特征在于，所述面釉的制备原料按重量份计包括：钠长石35～40份、钾长石3～7份、锆英粉8～12份、氧化锌1～2.5份、烧滑石0.3～1份、硅灰石6～10份、碳酸钡0.5～1份、煅烧高岭土22～26份、石英粉4～9份、高岭土4～6份。
6.一种原石瓷砖的制备方法，用于制备如权利要求3-5任一项所述的原石瓷砖，其特征在于，包括以下步骤：
S1.在坯体层表面布施面釉，以在烧制后形成面釉层；
S2.在布施有所述面釉的坯体层表面喷墨印花，以在烧制后形成印花层；
S3.在喷印有印花层的坯体层表面喷印大理石纹理墨水，以在烧制后形成大理石纹理层；
S4.在喷印有大理石纹理墨水层的坯体层表面布施原石釉，以在烧制后形成原石釉层；
S5.对所述坯体层进行烧制处理，制得所述原石瓷砖。
7.根据权利要求6所述的原石瓷砖的制备方法，其特征在于，所述大理石纹理墨水按重量百分比计包括如下化学成分：亚光熔块30%～40%、钒酸锌1%～8%、丙烯酸树脂25%～35%、醋酸乙酯20%～30%，所述大理石纹理墨水按重量百分比计还包括如下溶剂：分散剂3%～6%、悬浮剂0.1%～0.2%、消泡剂0.2%～0.3%、流平剂0.3%～0.6%、pH值调节剂0.1%～0.2%。
8.根据权利要求7所述的原石瓷砖的制备方法，其特征在于，所述亚光熔块按重量百分比计包括：SiO2 49%～51%、Al2O3 10%～12%、MgO 0.3%～0.4%、CaO 8.5%～10.5%、Na2O 1%～2%、K2O 4%～5%、BaO 12%～14%、ZnO 5.5%～7%、B2O3 2%～3%、灼减0.1%～0.3%，余量为杂质。
9.根据权利要求6所述的原石瓷砖的制备方法，其特征在于，所述在喷印有大理石纹理墨水层的坯体层表面布施原石釉的步骤包括：
采用喷釉的方式在所述坯体层表面进行第一道施釉处理；
采用钟罩淋釉的方式在经过第一道施釉处理的坯体层表面进行第二道施釉处理。
10.根据权利要求9所述的原石瓷砖的制备方法，其特征在于，在所述第一道施釉处理中，原石釉的比重为1.25～1.35g/cm3，原石釉的用量为75～110g/m2；在所述第二道施釉处理中，原石釉的比重为1.80～1.95g/cm3，原石釉的用量为350～500g/m2。
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