CN115213062A - 液体供给装置 - Google Patents

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Abstract

一种液体供给装置，增加在设置有过滤器的液体供给路径中循环的液体量，提高液体中所含异物的减少量。液体供给装置(10)具有：第一泵(21)和第二泵(22)，分别设置在将液体收纳部(11)所收纳的液体供给到涂敷工具(13)的液体供给路径(12)中；过滤器(15)，过滤流向涂敷工具(13)的液体；以及返回通道(27)，将通过了过滤器的液体返回到液体收纳部(11)，在向返回通道(27)供给液体并停止向涂敷工具(13)供给液体的循环模式中，第一泵(21)和第二泵(22)中的任一个向返回通道(27)连续供给液体。

Description

液体供给装置
技术领域
本发明涉及一种用于将药液等液体涂敷于被涂敷物的液体供给装置。
背景技术
在半导体器件或液晶基板的制造工艺中，会使用光刻胶液等药液。例如，在半导体器件的制造工艺中，为了在半导体晶片的表面涂敷光刻胶液，在使半导体晶片在水平面内旋转的状态下，将光刻胶液滴到半导体晶片的表面。用于涂敷光刻胶液的药液供给装置中所使用的泵有管式隔膜泵和波纹管泵等，管式隔膜泵具有在径向自由膨胀收缩的柔性管即管式隔膜，波纹管泵具有在轴向自由伸缩的柔性波纹管。这些泵是具有吸入工序和排出工序的容积式泵。
如专利文献1所记载，管式隔膜泵具有在流入侧的接头部件和流出侧的接头部件之间所配置的管式隔膜，即柔性管。在管的内侧形成膨胀或收缩的泵室，在管的外侧形成被不可压缩的液体介质填充的驱动室。具有容器收纳型和波纹管收纳型，容器收纳型具有在内部收纳管的容器以及在容器和管之间形成的驱动室；波纹管收纳型，管被收纳在连接了直径不同的大小两个波纹管的波纹管的内部，在波纹管和管之间形成驱动室。
在容器收纳型中，通过从容器的外部供给或排出液体介质，经由驱动室内的液体介质使泵室膨胀或收缩，进行泵动作。而在波纹管收纳型中，通过使连接部在轴向上往复运动，从而经由在大小两个波纹管的内侧所形成的驱动室内的液体介质而使泵室膨胀或收缩，进行泵动作。
如专利文献2所记载，波纹管泵具有作为泵壳体的泵体和设置在其内部的波纹管，在波纹管和泵壳体之间形成泵室。波纹管包括沿轴向自由伸缩的波纹管部、设置在波纹管部的前端的前端部、以及设置在波纹管部的基端的环形的基端部。配置在波纹管内部的驱动轴与波纹管部的前端部连接，通过驱动轴使得波纹管部沿轴向伸缩，从而泵室膨胀或收缩，进行泵动作。专利文献2记载了一种波纹管泵，其通过两个波纹管使得两个泵室交替膨胀或收缩，从而连续排出液体。
专利文献3记载了一种药液供给装置，其具有波纹管收纳型的管式隔膜泵。该药液供给装置具有液体供给路径，用于将瓶中收纳的光刻胶液或聚酰亚胺液等药液即液体供给至喷嘴即涂敷工具，所述喷嘴用于涂敷晶片等被涂敷物，在液体供给路径上设置有泵和过滤器。从泵排出的液体被供给到涂敷工具，并且具有用于使液体返回到液体供给路径的上游部分或瓶中的返回通道。
【现有技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】日本特开2005-83337号公报
【专利文献2】日本特开平10-54368号公报
【专利文献3】日本特开2000-120530号公报
发明内容
在液体供给路径中设置有返回通道的液体供给装置，当没有从涂敷工具涂敷液体时，液体可以经由返回通道返回到上游部。因此，由于液体多次通过过滤器进行过滤，液体中含有的微小颗粒即粒子或气泡等异物可以被过滤器去除，能够减少被涂敷物上所涂敷的液体中含有的异物。
近年来，在半导体制造技术等领域，为了提高制造良品率，希望进一步提高液体中所含异物的降低率或减少量。可以考虑通过提高经由返回通道返回到瓶子侧的液体的流量，从而增加通过过滤器的液体的循环次数，提高被涂敷物中所含异物的减少量。
要增加液体的循环次数，就需要增加在有限时间内的液体的流量。但是，以柔性树脂材料构成的管式隔膜或波纹管等作为泵部件的泵具有针对被涂敷物的涂敷量或涂敷操作最优化的结构，在增加这种类型的泵的流量方面存在局限性。
本发明的目的是增加在设置有过滤器的液体供给路径中所循环的液体量，提高液体中所含异物的减少量。
本发明的液体供给装置，将液体收纳部所收纳的液体供给到向被涂敷物涂敷液体的涂敷工具，所述液体供给装置包括：第一泵和第二泵，分别设置在将所述液体收纳部所收纳的液体供给到所述涂敷工具的液体供给路径中；过滤器，设置在所述液体供给路径中，过滤流向所述涂敷工具的液体；返回通道，将通过了所述过滤器的液体返回到所述液体收纳部，以及控制部，将所述第一泵和所述第二泵控制为涂敷模式或循环模式，所述涂敷模式为向所述涂敷工具供给液体并且停止向所述返回通道供给液体，所述循环模式为向所述返回通道供给液体并且停止向所述涂敷工具供给液体，在所述涂敷模式中，所述第一泵和所述第二泵中的一个向被涂敷物排出涂敷量的液体，在所述循环模式中，所述第一泵和所述第二泵中的另一个使返回流量的液体连续流向所述返回通道。
在循环模式中，液体在返回通道中连续循环，通过返回通道返回到液体收纳容纳部的液体被供给到液体供给路径，因此液体可以多次通过过滤器，减少液体中含有的异物。由于具备第一泵和第二泵，因此可以在循环模式中始终循环液体，并且可以在涂覆模式中高精度地控制排出量。
附图说明
图1是表示一实施方式的液体供给装置的概要图。
图2是表示液体供给装置的控制电路的框图。
图3是表示管式隔膜泵的一个示例的截面图。
图4是表示作为变形例的管式隔膜泵的截面图。
图5是表示波纹管泵的外观的主视图。
图6是图5中的A-A线截面图。
图7是图5中的B-B线截面图。
图8是表示用于从涂敷工具进行液体的涂敷操作的泵驱动示例的时序图。
具体实施方式
以下，根据附图对本发明的实施方式进行详细的说明。如图1所示的液体供给装置10，用于将液体收纳部11中所收纳的光刻胶液等液体L涂敷于半导体晶片等被涂敷物W。液体供给装置10具有由管道或软管等构成的液体供给路径12，在液体供给路径12的前端设置有喷嘴等涂敷工具13，在液体供给路径12的基端部设置液体收纳部11。
在液体供给路径12上串联设置有两台泵21、22，设置在液体供给路径12的下游侧的泵21是第一泵，设置在上游侧的泵22是第二泵。通过两个泵21和22将液体收纳部11中的液体供给到涂敷工具13。液体收纳部11包括罐11a和缓冲罐11b，当罐11a中的液体余量变为预定值以下的空时，更换新的罐。即使在更换期间，为了将液体供给到涂敷工具13，在位于泵22的上游侧的液体供给路径12中设置有缓冲罐11b。缓冲罐11b用于将空罐11a更换为充满液体的新罐11a的期间，在缓冲罐11b中的液体变空之前进行罐11a的更换作业。
用于过滤从泵21排出的液体的过滤器15设置在泵21的下游侧。用于将过滤器15中的气体排出到外部的通风通道16连接于过滤器15。此外，用于将缓冲罐11b中的气体排出到外部的通风通道17连接于缓冲罐11b。在通风通道16、17上分别设置有开关阀18、19。
为了将缓冲罐11b中的气体排出到外部，加压通道23连接于罐11a，并且通过加压通道23从外部供给作为惰性气体的氮气。在通过开关阀19使得通风通道17开放的状态下，当通过设置在加压通道23上的开关阀24从加压通道23将惰性气体供给到罐11a时，缓冲罐11b中的气体通过通风通道17排出到外部。在通过开关阀18使得通风通道16开放的状态下，当惰性气体供给到罐11a时，过滤器15中的气体被排出到外部。但是，在通过开关阀18使得通风通道16开放的状态下，过滤器15中的气体也能够通过从泵21排出液体来排出。为了回收当通风通道16、17分别排出气体时与气体同时排出的液体等，通风通道16、17的排出端设置在回收容器25中。
为了将从过滤器15过滤的液体从涂敷工具13涂敷到被涂敷物W上，在液体供给路径12中设置有涂敷阀26。用于使通过了过滤器15的液体返回到液体收纳部11的返回通道27连接于液体供给路径12。返回通道27的上游端通过过滤器15和涂敷阀26之间的连接部29连接于液体供给路径12，返回通道27的下游端部连接于液体收纳部11。在返回通道27中设置有循环阀28。返回通道27的下游端部可以连接在罐11a、缓冲罐11b、或缓冲罐11b和泵22之间。
图2是示出液体供给装置的控制电路的框图。由控制部30控制上述第一泵21、第二泵22、涂敷阀26和循环阀28的操作。控制部30连接到操作盘20，通过设置在操作盘20上的指令键(未图示)开始液体供给装置10的操作。控制部30具有计算控制信号的微处理器、存储控制程序的存储器等。
通过控制部30控制泵21、22和阀26、28的操作，从而液体供给装置10被设定为涂敷模式和循环模式。图1所示的其他部件也通过来自控制部30的信号控制，但是在图2中，仅示出了设定为涂敷模式和循环模式的部件。
图3是表示管式隔膜泵31的截面图，该管式隔膜泵31是容积式，可以用作图1所示的泵21、22。
如图3所示，管式隔膜泵31具有作为收纳部件的圆筒形状的收纳容器32、设置在其一端部的流入侧的接头部件33和设置在另一端部的流出侧的接头部件34。液体供给路径12的流入侧部12a连接于流入侧的接头部件33，流出侧部12b连接于流出侧的接头部件34。柔性管即管式隔膜35设置在收纳容器32中，并且管式隔膜35具有固定在流入侧的接头部件33上的流入侧的固定端部36、固定在流出侧的接头部件34上的流出侧的固定端部37、以及两个固定端部36和37之间的弹性变形部38。接头部件33、34和管式隔膜35分别由氟树脂等合成树脂形成。
通过管式隔膜35分隔开其内侧的泵室39和外侧的液体收纳室41，液体收纳室41形成在管式隔膜35和收纳容器32之间。通过这样的方式，管式隔膜35设置在收纳容器32中，该管式隔膜泵31是容器收纳型。
不可压缩的液体作为液体介质M填充到液体收纳室41中，并且经由形成在收纳容器32上的给排口42从外部将液体介质M供给到液体收纳室41。给排泵43连接于给排口42。该给排泵43具有安装在沿直线往复运动的杆44上的波纹管45，通过电动机或气动缸等驱动部件将杆44沿轴向驱动。波纹管45外侧的液体收纳室46中也填充有液体介质，并且液体收纳室46通过液体介质M与管式隔膜泵31的液体收纳室41连通。
当通过驱动给排泵43将液体介质M从液体收纳室46向液体收纳室41供给时，通过液体收纳室41的液体介质，使管式隔膜35的弹性变形部38沿径向收缩，从而泵室39收缩。另一方面，当从液体收纳室41排出液体介质时，弹性变形部38沿径向膨胀，从而泵室39膨胀。在液体供给路径12的流入侧部12a设置有止回阀47，在流出侧部12b设置有止回阀48，当泵室39膨胀时，液体L从流入侧部12a流入泵室39。此时，阻止来自流出侧部12b的液体的回流。另一方面，当泵室39收缩时，液体L从泵室39向流出侧部12b流出。此时，阻止液体回流到流入侧部12a。止回阀47可以组装到接头部件33中，止回阀48可以组装到接头部件34中。此外，也可以不在给排泵43中设置波纹管45，而是通过杆44将液体介质M供给到液体收纳室41或排出。
图4是表示作为变形例的管式隔膜泵51的截面图，该管式隔膜泵51也可以用作图1所示的泵21、22。
该管式隔膜泵51是波纹管收纳型，其中管式隔膜35收纳在作为收纳部件的波纹管容器52的内部。波纹管容器52具有安装在流入侧的接头部件33上的固定环53和安装在流出侧的接头部件34上的固定环54。在固定环53上设置有大波纹管55，在固定环54上设置有小波纹管56，并且两个波纹管55、56之间设置有操作环57。大波纹管55的平均有效直径大于小波纹管56的平均有效直径。波纹管容器52由氟树脂等刚性树脂一体成形两个固定环53、54及其之间的部分。
与图3所示相同的管式隔膜35安装在波纹管容器52的内部，在管式隔膜35与波纹管容器52之间形成液体收纳室41。泵驱动单元61附接于波纹管容器52，用于使得两个波纹管55和56沿轴向变形，从而经由液体收纳室41的液体介质M使得泵室39沿径向膨胀或收缩。泵驱动单元61具有由电动机62经由动力传递机构63驱动的滚珠丝杠64、和与滚珠丝杠64螺纹连接的滚珠螺母65，在滚珠螺母65上设置有与操作环57接合的操作部件66。
当通过电动机62向图4中的上方驱动操作环57时，大波纹管55在轴向上伸展，小波纹管56在轴向上收缩，因此波纹管整体的平均有效直径变大。由此，管式隔膜35沿径向膨胀，液体L从流入侧部12a流入泵室39中。另一方面，当操作环57被向相反方向驱动时，大波纹管55在轴向上收缩，小波纹管56在轴向上伸展，因此波纹管整体的平均有效直径变小。由此，管式隔膜35沿径向收缩，泵室39内的液体L从流出侧部12b流出。
因此，通过电动机62使滚珠螺母65沿直线往复运动，管式隔膜35的弹性变形部38膨胀或收缩，从而与图3所示的管式隔膜泵31同样，液体L从泵室39朝向流出侧部12b流出，进行泵操作。
图3和图4所示的管式隔膜泵31和51是从泵室39排出液体的操作与吸入液体的操作交替进行的间歇式排出泵。间歇式排出泵可以高精度地控制排出量。将至少两台管式隔膜泵组成一个单元，作为具有至少两个泵室的泵，设定为当一个泵室收缩进行排出操作时，另一个泵室膨胀进行吸入操作，则成为能够连续排出液体的连续式排出泵。
图5至图7示出作为容积式泵的变形例的波纹管泵71。该波纹管泵71具有泵壳体72和驱动单元73，泵壳体72包括由氟树脂等合成树脂制成的泵体74。在泵体74中形成有两个泵室39a、39b，泵室39a中具有波纹管75a，泵室39b中具有波纹管75b。波纹管75a、75b分别具有固定到泵体74的环形基部76a、76b，封闭端部77a、77b，以及它们之间的可自由伸缩的波纹管部78a、78b，并且由合成树脂形成。
为了驱动各波纹管部78a、78b沿轴向伸缩，在波纹管75a、75b的内部配置有驱动轴79a、79b，各驱动轴79a、79b的前端安装在封闭端部77a、77b上。螺母81a、81b安装在驱动轴79a、79b的大直径的基端部，滚珠丝杠82a、82b与螺母81a、81b螺纹连接。滚珠丝杠82a、82b由设置在驱动单元73中的轴承83a、83b支撑从而可自由旋转。滚珠丝杠82a通过接头85a连接到电动机84a的轴，滚珠丝杠82b通过接头85b连接到电动机84b的轴。
如图7所示，流入侧块86安装在泵体74的下表面，流出侧块87安装在上表面。在流入侧块86中形成有与液体供给路径12的流入侧部12a连通的流入通道88a和88b，流入通道88a与泵室39a连通，流入通道88b与泵室39b连通。在流出侧块87中形成有与流出侧部12b连通的流出通道89a和89b，流出通道89a与泵室39a连通，流出通道89b与泵室39b连通。在流入通道88a、88b中分别设置有止回阀47a、47b，在流出通道89a、89b中分别设置有止回阀48a、48b。
通过电动机84a、84b的驱动，使得波纹管75a、75b伸展，泵室39a、39b收缩，液体L通过止回阀48a、48b排出到流出侧部12b。另一方面，当波纹管75a、75b收缩时，泵室39a、39b膨胀，液体通过止回阀47a、47b从流入侧部12a流入。图6示出了波纹管75b伸展、波纹管75a收缩的状态。
波纹管泵71具备两个波纹管75a、75b，因此是连续式排出泵，当波纹管75a、75b中的一个伸展从而从泵室39a、39b中的一个排出液体时，使波纹管75a、75b中的另一个收缩从而将液体吸入泵室39a、39b中的另一个，由此能够将液体L连续排出到流出侧部12b。在电动机84a、84b中分别设置编码器90a、90b，用于分别检测电动机84a、84b的转速和旋转方向。
如图1所示，在液体供给路径12中设置有两台泵21、22。当涂敷阀26被打开、循环阀28被关闭时，第一泵21和第二泵22中的任意一个将液体供给到涂敷工具13，将涂敷量的液体排出到被涂敷物W。另一方面，当涂敷阀26被关闭、循环阀28被打开时，第一泵21和第二泵22中的另一个将返回流量的液体供给到返回通道27。由于从两个泵21、22排出的液体全部都通过过滤器15供给到返回通道27和涂敷工具13，因此液体多次通过过滤器15，从而能够提高液体的清洁度。
图8示出当设置在下游的第一泵21是间歇式排出泵、设置在上游的第二泵是连续式排出泵时，进行从涂敷工具13施加液体L的涂敷操作的涂敷模式和进行循环操作的循环模式的时序图。图8中的涂敷流量表示流过涂敷工具13的液体的流量，循环流量表示流过返回通道27的液体的流量。
在涂敷模式中，涂敷阀26打开、循环阀28关闭，因此液体被排出到被涂敷物W，并且停止向返回通道27供给液体。另一方面，在循环模式中，涂敷阀26关闭、循环阀28打开，因此停止向被涂敷物W排出液体，并且将液体供给到返回通道27。代替涂敷阀26和循环阀28，也可以在连接部29设置作为切换装置的三通阀，用来切换涂敷模式和循环模式。
由于在循环模式中仅驱动连续式排出泵即第二泵22，因此液体能够始终在返回通道27中循环。因此，在循环模式中，可以增加循环的液体量，从而提高液体中含有的异物的减少量。此外，在涂敷模式中，由于仅驱动间歇式排出泵即第一泵21，因此能够高精度地控制排出量。第一泵的吸入操作可以在循环模式中进行、也可以在涂敷模式中进行。
当管式隔膜泵31、51或波纹管泵71用作两个泵21、22时，与活塞型的泵不同，由于没有滑动部分，因此可以降低液体中包含磨损粉末等异物的可能性。此外，两个泵21、22串联布置时，液体总是通过两个泵21、22，因此能够抑制粒子的产生，提高液体的清洁度。进而，当第一泵21是间歇式排出泵、第二泵22是连续式排出泵时，能够进一步提高液体排出精度。
本发明不限于上述实施方式，能够在不脱离其主旨的范围内进行各种变更。例如，第一泵可以是连续式排出泵，第二泵可以是间歇式排出泵，可以在涂敷模式下驱动第二泵22停止第一泵21，在循环模式下停止第一泵21驱动第二泵22。
【附图标记说明】
10 液体供给装置
11 液体收纳部
12 液体供给路径
13 涂敷工具
15 过滤器
21 第一泵
22 第二泵
26 涂敷阀
27 返回通道
28 循环阀
29 连接部
31 管式隔膜泵
32 收纳容器
35 管式隔膜
38 弹性变形部
39 泵室
41、46 液体收纳室
51 管式隔膜泵
52 波纹管容器
55、56 波纹管
57 操作环
61 泵驱动单元
71 波纹管泵
75a、75b 波纹管
79a 驱动轴
84a、84b 电动机

Claims (8)

1.一种液体供给装置，将液体收纳部所收纳的液体供给到向被涂敷物涂敷液体的涂敷工具，所述液体供给装置包括：
第一泵和第二泵，分别设置在将所述液体收纳部所收纳的液体供给到所述涂敷工具的液体供给路径中；
过滤器，设置在所述液体供给路径中，过滤流向所述涂敷工具的液体；
返回通道，将通过了所述过滤器的液体返回到所述液体收纳部，以及
控制部，将所述第一泵和所述第二泵控制为涂敷模式和循环模式，所述涂敷模式为向所述涂敷工具供给液体并且停止向所述返回通道供给液体，所述循环模式为向所述返回通道供给液体并且停止向所述涂敷工具供给液体，
在所述涂敷模式中，所述第一泵和所述第二泵中的一个向被涂敷物排出涂敷量的液体，
在所述循环模式中，所述第一泵和所述第二泵中的另一个使返回流量的液体连续流向所述返回通道。
2.根据权利要求1所述的液体供给装置，其中，
所述第一泵和所述第二泵串联连接，在下游侧的泵和所述涂敷工具之间设置所述过滤器，在所述涂敷工具和所述过滤器之间设置用于连接所述返回通道和所述液体供给路径的连接部。
3.根据权利要求2所述的液体供给装置，其中，
所述液体供给装置具有：设置在所述连接部和所述涂敷工具之间的涂敷阀，和设置在所述返回通道中的循环阀，
在所述循环模式中，关闭所述涂敷阀并且打开所述循环阀，
在所述涂敷模式中，打开所述涂敷阀并且关闭所述循环阀。
4.根据权利要求2所述的液体供给装置，其中，
在所述连接部设置用于切换所述涂敷模式和所述循环模式的切换装置。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的液体供给装置，其中，
所述第二泵具有至少两个泵室，在循环模式中，当一个泵室收缩时，另一个泵室膨胀。
6.根据权利要求2-5中任一项所述的液体供给装置，其中，
所述第二泵设置在所述第一泵的上游，
在所述涂敷模式中，仅通过所述第一泵将涂敷量的液体涂敷到所述被涂敷物，在所述循环模式中，仅通过所述第二泵使返回流量的液体流向所述返回通道。
7.根据权利要求6所述的液体供给装置，其中，
所述第一泵是管式隔膜泵，具有：管式隔膜，该管式隔膜沿径向膨胀或收缩，并且在内侧形成泵室；收纳部件，收纳所述管式隔膜，并且与所述管式隔膜之间形成液体收纳室；以及液体介质，填充在所述液体收纳室中，
通过液体介质使得所述管式隔膜膨胀或收缩，从而进行泵操作。
8.根据权利要求6所述的液体供给装置，其中，
所述第一泵是波纹管泵，具有：沿轴向伸缩的波纹管；收纳该波纹管并且与该波纹管之间形成液体收纳室的收纳部件；以及填充在所述液体收纳室的液体介质，
沿轴向驱动所述波纹管伸缩，从而进行泵操作。
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61245527A (ja) * 1985-04-23 1986-10-31 Toshiba Mach Co Ltd 感光剤塗布装置
JPH09108605A (ja) * 1995-10-20 1997-04-28 Tdk Corp 間欠塗布方法および間欠塗布装置
JPH1054368A (ja) * 1996-08-13 1998-02-24 Koganei Corp ベローズポンプ
JPH10172881A (ja) * 1996-12-06 1998-06-26 Sony Corp フォトレジスト塗布装置
KR20030048515A (ko) * 2001-12-12 2003-06-25 가부시키가이샤 고가네이 약액공급장치
US20040144736A1 (en) * 2001-12-28 2004-07-29 Koganei Corporation A Chemical Liquid Supply Apparatus and A Chemical Liquid Supply Method
KR101113083B1 (ko) * 2011-08-12 2012-02-15 허명순 순환식 무 방류 분뇨처리장치
CN104511408A (zh) * 2013-10-02 2015-04-15 东京毅力科创株式会社 处理液供给装置和处理液供给方法
JP2017220547A (ja) * 2016-06-07 2017-12-14 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置、機器ユニット、処理液供給方法及び記憶媒体

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4011210B2 (ja) 1998-10-13 2007-11-21 株式会社コガネイ 薬液供給方法および薬液供給装置
TW550632B (en) * 2001-11-23 2003-09-01 Koganei Ltd Chemical feed system
JP4124712B2 (ja) 2003-09-11 2008-07-23 株式会社コガネイ 薬液供給用の可撓性チューブ
JP5967045B2 (ja) * 2013-10-02 2016-08-10 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置及び処理液供給方法
CN109254500A (zh) * 2018-11-23 2019-01-22 上海华力微电子有限公司 一种具有多重过滤能力的光刻胶输送***

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61245527A (ja) * 1985-04-23 1986-10-31 Toshiba Mach Co Ltd 感光剤塗布装置
JPH09108605A (ja) * 1995-10-20 1997-04-28 Tdk Corp 間欠塗布方法および間欠塗布装置
JPH1054368A (ja) * 1996-08-13 1998-02-24 Koganei Corp ベローズポンプ
JPH10172881A (ja) * 1996-12-06 1998-06-26 Sony Corp フォトレジスト塗布装置
KR20030048515A (ko) * 2001-12-12 2003-06-25 가부시키가이샤 고가네이 약액공급장치
US20040144736A1 (en) * 2001-12-28 2004-07-29 Koganei Corporation A Chemical Liquid Supply Apparatus and A Chemical Liquid Supply Method
KR101113083B1 (ko) * 2011-08-12 2012-02-15 허명순 순환식 무 방류 분뇨처리장치
CN104511408A (zh) * 2013-10-02 2015-04-15 东京毅力科创株式会社 处理液供给装置和处理液供给方法
JP2017220547A (ja) * 2016-06-07 2017-12-14 東京エレクトロン株式会社 処理液供給装置、機器ユニット、処理液供給方法及び記憶媒体

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