CN114411109A - 一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置 - Google Patents

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吕敏
孙辉
何吉刚
彭宏
雷梁
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

本发明公开了一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，涉及防镀膜偏移技术领域，用于解决现有技术中卷膜式镀膜设备对带状材料进行镀膜时，带状材料会出现偏移的现象，从而极大的影响了带状材料镀膜质量的问题，本发明包括第一支架和控制器，所述第一支架上安装有旋转机构，所述旋转机构上安装有第二支架，所述第二支架上安装有滚筒组件，所述第二支架的两端还均安装有光栅，所述光栅、旋转机构均与控制器电性连接。本发明通过光栅检测带状材料的偏转角度，再将偏转角度反馈给旋转机构，旋转机构再通过光栅反馈的数据做出相应的转动，最终将带状材料旋转到合适的角度，从而可以减少带状材料的偏移现象，进而可以极大提高带状材料的镀膜质量。

Description

一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置
技术领域
本发明涉及防镀膜偏移技术领域，更具体的是涉及一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置。
背景技术
卷膜式镀膜设备主要用于塑料、布、纸、钢带等带状材料表面的真空镀膜，作为食品的金属化包装材料、反光材料、保温隔热材料、表面装潢材料、电气材料以及各种标识、标签、商标等装饰材料，广泛应用于包装、装潢、印刷、防伪、卷烟、电子工业领域。
在卷膜式镀膜设备的开发应用中，由于多种不确定因素的影响，如加工、装配精度等，卷膜式镀膜设备对带状材料进行镀膜时，材料会出现偏移的现象，极大的影响了带状材料的镀膜质量。
发明内容
本发明的目的在于：为了解决现有技术中卷膜式镀膜设备对带状材料进行镀膜时，带状材料会出现偏移的现象，从而极大的影响了带状材料镀膜质量的问题，本发明提供一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，以提高带状材料镀膜的质量。
本发明为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，包括第一支架和控制器，所述第一支架上安装有旋转机构，所述旋转机构上安装有第二支架，所述第二支架上安装有滚筒组件，所述第二支架的两端还均安装有光栅，所述光栅、旋转机构均与控制器电性连接。
旋转机构的优选结构为：所述旋转机构包括通过轴承安装在第一支架上的转轴，所述转轴上安装有涡轮，所述第一支架上还安装有旋转电机，所述旋转电机的电机轴上安装有与涡轮啮合的蜗杆，所述涡轮与第二支架连接，所述旋转电机与控制器连接。
优选的，所述第二支架包括支杆，所述支杆的两端均一体成型有固定块，所述涡轮上安装有转盘，所述转盘与支杆连接，所述光栅安装在支杆的两端。
优选的，所述滚筒组件包括上滚筒和下滚筒，所述上滚筒和下滚筒从上到下依次通过轴承安装在两个所述固定块间。
本发明的有益效果如下：
(1)本发明中通过旋转机构带动滚筒组件发生偏转，滚筒再带动带状材料发生偏移，通过光栅检测带状材料的偏转角度，再将偏转角度反馈给旋转机构，旋转机构再通过光栅反馈的数据做出相应的转动，最终将带状材料旋转到合适的角度，从而可以减少带状材料的偏移现象，进而可以极大提高带状材料的镀膜质量。
(2)本发明中通过涡轮蜗杆机构带动第二支架旋转，可以有效的提高第二支架的旋转精度，从而可以提高带状材料的偏移角度精度。
(3)本发明中涡轮与第二支架间通过转盘连接，可以使涡轮与第二支架间连接得更加稳定，同时也更加便于将涡轮的旋转运动传递给第二支架。
附图说明
图1为本发明的立体结构简图；
图2为本发明的正面结构简图；
图3为本发明的俯视结构简图；
图4为本发明图3中A-A处的剖视结构简图；
附图标记：1第一支架，2第二支架，21支杆，22固定块，3光栅，4涡轮，5蜗杆，6旋转电机，7转盘，8滚筒组件，81上滚筒，82下滚筒，9转轴。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
实施例1
如图1所示，本实施例提供一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，包括第一支架1和控制器，第一支架1上安装有旋转机构，旋转机构上安装有第二支架2，第二支架2上安装有滚筒组件8，第二支架2的两端还均安装有光栅3，光栅3、旋转机构均与控制器电性连接。
工作原理：当需要对带状材料进行镀膜时，通过常规的方式将带状材料缠绕在滚筒组件8上，并通过常规的方式使带状材料绕滚筒组件8移动，若带状材料在移动的过程中发生偏移，则光栅3会立刻检测到带状材料发生偏移的角度并发送给常规的控制器，控制器再控制旋转机构进行旋转，旋转机构旋转带动第二支架2和滚筒组件8旋转，最终滚筒组件8带动带状材料发生偏移，最终将带状材料旋转到合适的角度，有效提高了镀膜设备的工艺水准，促进了磁控溅射卷绕镀膜设备的高速发展，结合常规控制***对偏差进行调节，增强了防镀膜偏移装置的实用性和适用性，从而可以减少带状材料的偏移现象，进而可以极大提高带状材料的镀膜质量。
实施例2
如图1-图4所示，在上述实施例1的基础上，本实施例给出了旋转机构的优选结构为：旋转机构包括通过轴承安装在第一支架1上的转轴9，转轴9上安装有涡轮4，第一支架1上还安装有旋转电机6，旋转电机6的电机轴上安装有与涡轮4啮合的蜗杆5，涡轮4与第二支架2连接，旋转电机6与控制器连接。
优选的，第二支架2包括支杆21，支杆21的两端均一体成型有固定块22，涡轮4上安装有转盘7，转盘7与支杆21连接，光栅3安装在支杆21的两端。涡轮4与第二支架2间通过转盘7连接，可以使涡轮4与第二支架2间连接得更加稳定，同时也更加便于将涡轮4的旋转运动传递给第二支架2。
优选的，滚筒组件8包括上滚筒81和下滚筒82，上滚筒81和下滚筒82从上到下依次通过轴承安装在两个固定块22间，这样便于上滚筒81和下滚筒82安装在第二支架2上，便于带状材料缠绕在上滚筒81和下滚筒82上。
本实施例中：当旋转电机6收到控制器的信号后开始转动，旋转电机6带动蜗杆5旋转，蜗杆5再带动涡轮4旋转，涡轮4再依次带动第二支架2、上滚筒81和下滚筒82偏移，最终带动带状材料偏移，带状材料偏移的角度会实时被光栅3监测到，当带状材料偏移的角度合适后，再通过控制器控制旋转电机6停止转动，这样可以减少带状材料的偏移现象，进而可以极大提高带状材料的镀膜质量，同时通过涡轮蜗杆机构带动第二支架2旋转，可以有效的提高第二支架2的旋转精度，从而可以提高带状材料的偏移角度精度。

Claims (4)

1.一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，其特征在于：包括第一支架(1)和控制器，所述第一支架(1)上安装有旋转机构，所述旋转机构上安装有第二支架(2)，所述第二支架(2)上安装有滚筒组件(8)，所述第二支架(2)的两端还均安装有光栅(3)，所述光栅(3)、旋转机构均与控制器电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，其特征在于：所述旋转机构包括通过轴承安装在第一支架(1)上的转轴(9)，所述转轴(9)上安装有涡轮(4)，所述第一支架(1)上还安装有旋转电机(6)，所述旋转电机(6)的电机轴上安装有与涡轮(4)啮合的蜗杆(5)，所述涡轮(4)与第二支架(2)连接，所述旋转电机(6)与控制器连接。
3.根据权利要求2所述的一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，其特征在于：所述第二支架(2)包括支杆(21)，所述支杆(21)的两端均一体成型有固定块(22)，所述涡轮(4)上安装有转盘(7)，所述转盘(7)与支杆(21)连接，所述光栅(3)安装在支杆(21)的两端。
4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，其特征在于：所述滚筒组件(8)包括上滚筒(81)和下滚筒(82)，所述上滚筒(81)和下滚筒(82)从上到下依次通过轴承安装在两个所述固定块(22)间。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001163494A (ja) * 1999-12-08 2001-06-19 Canon Inc ウェブの巻き取り装置及び巻き取り方法
JP2003341893A (ja) * 2002-05-21 2003-12-03 Sony Corp 帯状体巻取装置
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CN209702851U (zh) * 2019-03-14 2019-11-29 深圳天成机器有限公司 一种设有纠偏送膜机构的真空镀膜机

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