CN114114858A - 一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种胶嘴座承载装置，包括：承载体，胶嘴座设置于所述承载体上；所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔，所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通；所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径，并与所述喷嘴放置孔相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流，以清洗所述喷嘴。通过喷嘴放置孔与喷嘴冲洗孔两者以相切的方式设置，使冲洗液从喷嘴冲洗孔进入喷嘴放置孔后形成涡流，对喷嘴放置孔内的喷嘴进行冲洗，进而去除喷嘴处的结块，改善光刻胶吐出量的稳定性，提高工艺的稳定性。本发明还提供了一种涂胶显影设备。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备。
背景技术
涂胶显影机是半导体生产过程中不可或缺的设备之一，涂胶显影机主要包括涂胶单元、显影单元和热盘等。其中，涂胶单元负责在晶片表面均匀地涂覆光刻胶层，对光刻胶的吐出量有着很高的要求。胶嘴座承载装置及胶嘴座作为光刻胶的直接接触者，对光刻胶的吐出量有着直接影响。在胶嘴处于光刻工艺的等待阶段时，胶嘴放置在承载装置中，而光刻胶的溶剂因为具有挥发性，易使喷嘴处出现结块堵塞，造成吐出量的变化。
现有技术是依赖化学品的挥发保湿胶嘴，其防止光刻胶结块的效果不佳。另一现有技术是将直接浸泡在保湿液中实现保湿，胶嘴内的光刻胶不可避免地被稀释一部分，从而对涂覆性能产生影响。
因此，有必要开发一种新型胶嘴座承载装置和涂胶显影设备，以避免现有技术存在的上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备，能够避免光刻胶在喷嘴处的结块造成光刻胶吐出量不稳定的情况，以提高工艺的稳定性。
为实现上述目的，本发明提供的胶嘴座承载装置包括：承载体，胶嘴座设置于所述承载体上；所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔，所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通；冲洗管道，所述冲洗管道连通所述喷嘴冲洗孔，以提供冲洗液；所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径，并与所述喷嘴放置孔相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流，以清洗所述喷嘴。
本发明提供的胶嘴座承载装置的有益效果在于：通过喷嘴放置孔与喷嘴冲洗孔两者以相切的方式设置，使冲洗液从喷嘴冲洗孔进入喷嘴放置孔后形成涡流，对喷嘴放置孔内的喷嘴进行冲洗，进而去除喷嘴处的结块，改善光刻胶吐出量的稳定性，提高工艺的稳定性。
可选的，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔相互垂直。其有益效果在于：有利于形成涡流，提升冲洗效果。
可选的，所述喷嘴放置孔为阶梯孔，其孔段直径随喷嘴直径减小而减小。其有益效果在于：有利于减小喷嘴放置孔内壁与喷嘴之间的间隙，提升冲洗效果。
可选的，所述承载体还包括排废圆形槽和排废冲洗孔，所述排废圆形槽设置于所述喷嘴放置孔的液流下游，以接收所述喷嘴放置孔内流出的废液，所述排废冲洗孔连通于所述排废圆形槽的底部，其直径小于所述排废圆形槽的半径，并与所述排废圆形槽相切设置，使冲洗液在所述排废圆形槽中形成涡流，冲洗所述排废圆形槽后从所述排废圆形槽中溢出。其有益效果在于：通过排废冲洗孔对排废圆形槽注入冲洗液，防止喷嘴处的冲洗下来的光刻胶在排废圆形槽内重新结块，且排废圆形槽内积聚的冲洗液挥发至喷嘴位置，有利于对喷嘴进行保湿，防止光刻胶结块。
可选的，所述排废圆形槽与所述排废冲洗孔相互垂直。其有益效果在于：有利于形成涡流，提升冲洗效果。
可选的，所述承载体还包括排废槽和与排废槽连通的排废管道，所述排废槽设置于所述排废圆形槽内液体盛满后溢出的下游位置，所述排废槽的底面靠近排废管道处的高度低于所述底面的其他位置。其有益效果在于：通过排废槽底面的高度差有利于将废液从排废管道排出。
可选的，所述排废圆形槽的开口为斜口，所述斜口的低处朝向所述排废槽。其有益效果在于：有利于废液向排废槽流动。
可选的，还包括夹紧组件，所述夹紧组件设置于所述承载体表面，以夹紧所述胶嘴座。其有益效果在于：有利于胶嘴座稳定固定于所述承载体。
可选的，所述承载体包括相互连接的承载体上部件和承载体下部件，所述承载体上部件与所述承载体下部件之间设置有密封圈。其有益效果在于：有利于降低承载体的加工难度，并防止冲洗液从所述承载体内部溢出。
本发明提供的涂胶显影设备，具有上述胶嘴座承载装置。
本发明的所述涂胶显影设备的有益效果在于：能够对喷嘴进行冲洗，进而去除喷嘴处的结块，改善光刻胶吐出量的稳定性，提高工艺的稳定性。
附图说明
图1为本发明胶嘴座承载装置实施例的结构示意图；
图2为图1所示的承载体的结构示意图；
图3为图2所示的光刻胶喷嘴孔与喷嘴冲洗孔的位置关系的剖面图；
图4为图2所示的光刻胶溶剂喷嘴孔与喷嘴冲洗孔的位置关系的剖面图；
图5为喷嘴放置孔和排废圆形槽内的涡流流动示意图；
图6为图2所示的喷嘴放置孔的剖面结构示意图；
图7为图2所示的承载体下部件的结构示意图；
图8为图7所示的承载体下部件的冲洗液流动路径示意图；
图9为图7所示的承载体下部件的剖面结构示意图；
图10为图1所示的胶嘴座的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
为解决现有技术存在的问题，本发明实施例提供了一种胶嘴座承载装置。
图1为本发明胶嘴座承载装置实施例的结构示意图。
本发明一些实施例中，参照图1，包括：承载体1，胶嘴座2设置于所述承载体1上；所述承载体1包括喷嘴放置孔3和喷嘴冲洗孔4，所述胶嘴座2的喷嘴置于所述喷嘴放置孔3内部，所述喷嘴放置孔3与所述喷嘴冲洗孔4在所述喷嘴所在位置处相通；冲洗管道(图中未示)，所述冲洗管道(图中未示)连通所述喷嘴冲洗孔4，以提供冲洗液；所述喷嘴冲洗孔4直径小于所述喷嘴放置孔3的半径，并与所述喷嘴放置孔3相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔3中形成涡流，以清洗所述喷嘴。
具体的，参照图1，所述承载体1包括相互连接承载体上部件11和承载体下部件12。
图2为图1所示的承载体的结构示意图。
具体的，参照图1和图2，所述承载体上部件11的上表面开设有竖直方向贯通的喷嘴放置孔3，所述喷嘴放置孔3包括光刻胶喷嘴孔和光刻胶溶剂喷嘴孔，所述光刻胶喷嘴孔包括第一光刻胶喷嘴孔311和第二光刻胶喷嘴孔312，所述光刻胶溶剂喷嘴孔包括第一光刻胶溶剂喷嘴孔321和第二光刻胶溶剂喷嘴孔322。
具体的，参照图1，所述胶嘴座2包括第一胶嘴座21和第二胶嘴座22。
具体的，参照图1和图2，所述胶嘴座2设置于所述承载体上部件11的上表面，其喷嘴分别置于所述第一光刻胶喷嘴孔311和第二光刻胶喷嘴孔312中。
图3为图2所示的光刻胶喷嘴孔与喷嘴冲洗孔的位置关系的剖面图；图4为图2所示的光刻胶溶剂喷嘴孔与喷嘴冲洗孔的位置关系的剖面图。
具体的，参照图3和图4，所述承载体上部件11侧壁上开设有与所述喷嘴放置孔3相互连通的喷嘴冲洗孔4。
具体的，参照图3和图4，所述喷嘴冲洗孔4的直径小于所述喷嘴放置孔3的半径，以实现所述喷嘴冲洗孔4的开口设置于所述喷嘴放置孔3内壁至轴线之间的半径长度内。
具体的，参照图3和图4，在垂直于所述喷嘴放置孔3的延伸方向的平面内，所述喷嘴冲洗孔4的内壁在该平面内的投影所形成的直线与所述喷嘴放置孔3的内壁在该平面内的投影所形成的圆相切。
图5为喷嘴放置孔和排废圆形槽内的涡流流动示意图。
具体的，参照图3、图4和图5，冲洗液从所述喷嘴冲洗孔4进入所述喷嘴放置孔3，沿所述喷嘴放置孔3的内壁流动，形成冲洗喷嘴的涡流，最后从所述喷嘴放置孔3的底部开口流出。
本发明一些实施例中，所述喷嘴放置孔3与所述喷嘴冲洗孔4相互垂直。
具体的，所述喷嘴放置孔3的轴线与所述喷嘴冲洗孔4的轴线在所述喷嘴放置孔3的轴线和所述喷嘴冲洗孔4的轴线均平行的平面内的投影相互垂直。
图6为图2所示的喷嘴放置孔的剖面结构示意图。
本发明一些实施例中，参照图6，所述喷嘴放置孔3为阶梯孔，其孔段直径随喷嘴直径减小而减小。
具体的，参照图6和图10，喷嘴为圆锥形结构，所述喷嘴放置孔3的孔段直径随喷嘴直径减小而减小。
图7为图2所示的承载体下部件的结构示意图；图8为图7所示的承载体下部件的冲洗液流动路径示意图。
本发明一些实施例中，参照图2、图5、图7和图8，所述承载体1还包括排废圆形槽5和排废冲洗孔6，所述排废圆形槽5设置于所述喷嘴放置孔3的液流下游，以接收所述喷嘴放置孔3内流出的废液，所述排废冲洗孔6连通于所述排废圆形槽5的底部，其直径小于所述排废圆形槽5的半径，并与所述排废圆形槽5相切设置，使冲洗液在所述排废圆形槽5中形成涡流，冲洗所述排废圆形槽5后从所述排废圆形槽5中溢出。
具体的，参照图7和图8，所述排废圆形槽5和所述排废冲洗孔6设置于所述承载体下部件12，所述排废圆形槽5位于所述喷嘴放置孔3的下方。
具体的，参照图7和图8，所述排废冲洗孔6开口设置于所述排废圆形槽5的内壁上靠近底部的位置。
图9为图7所示的承载体下部件的剖面结构示意图。
具体的，参照图9，所述排废冲洗孔6的直径小于所述排废圆形槽5的半径，以实现所述排废冲洗孔6的开口设置于所述排废圆形槽5内壁至轴线之间的半径长度内。
具体的，参照图9，在垂直于所述排废圆形槽5的延伸方向的平面内，所述排废冲洗孔6的内壁在该平面内的投影所形成的直线与所述排废圆形槽5的内壁在该平面内的投影所形成的圆相切。
本发明一些实施例中，所述排废圆形槽5与所述排废冲洗孔6相互垂直。
具体的，所述排废圆形槽5的轴线与所述排废冲洗孔6的轴线在所述排废圆形槽5的轴线和所述排废冲洗孔6的轴线均平行的平面内的投影相互垂直。
本发明一些实施例中，参照图1、图7和图9，所述承载体1还包括排废槽7和与排废槽7连通的排废管道8，所述排废槽7设置于所述排废圆形槽5内液体盛满后溢出的下游位置，所述排废槽7的底面靠近排废管道8处的高度低于所述底面的其他位置。
具体的，参照图7和图9，所述排废槽7的底面为V字形，其最低点位于所述排废管道8处。
本发明另一些实施例中，所述排废槽7的底面为圆弧面，其最低点位于所述排废管道8处。
本发明一些实施例中，参照图2和图7，所述排废圆形槽5的开口为斜口，所述斜口的低处朝向所述排废槽。
本发明一些实施例中，参考图1，所述胶嘴座承载装置还包括夹紧组件9，所述夹紧组件9设置于所述承载体1表面，以夹紧所述胶嘴座2。
具体的，参考图1，所述夹紧组件9包括旋转气缸91，旋转气缸91固定于所述承载体1，用以夹紧所述胶嘴座2；所述旋转气缸上安装有用以调整夹紧位置的限位件92和垫片93。
本发明一些实施例中，参考图1和图2，所述承载体1包括相互连接的承载体上部件11和承载体下部件12，所述承载体上部件11与所述承载体下部件12之间设置有密封圈。
具体的，参考图2，所述承载体下部件12上与承载体上部件11相连接位置处开设有凹槽，所述密封圈设置于所述凹槽内。
图10为图1所示的胶嘴座的结构示意图。
本发明一些实施例中，参考图10，所述胶嘴座2通过销钉确定与承载体1的相对位置，胶嘴座2与光刻胶胶管之间通过子弹密封。
本发明实施例提供了一种涂胶显影设备，所述涂胶显影设备具有所述胶嘴座承载装置。
虽然在上文中详细说明了本发明的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本发明的范围和精神之内。而且，在此说明的本发明可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。
Claims (10)
1.一种胶嘴座承载装置，其特征在于，包括：
承载体，胶嘴座设置于所述承载体上；
所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔，所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通；
冲洗管道，所述冲洗管道连通所述喷嘴冲洗孔，以提供冲洗液；
所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径，并与所述喷嘴放置孔相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流，以清洗所述喷嘴。
2.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔相互垂直。
3.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述喷嘴放置孔为阶梯孔，其孔段直径随喷嘴直径减小而减小。
4.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述承载体还包括排废圆形槽和排废冲洗孔，所述排废圆形槽设置于所述喷嘴放置孔的液流下游，以接收所述喷嘴放置孔内流出的废液，所述排废冲洗孔连通于所述排废圆形槽的底部，其直径小于所述排废圆形槽的半径，并与所述排废圆形槽相切设置，使冲洗液在所述排废圆形槽中形成涡流，冲洗所述排废圆形槽后从所述排废圆形槽中溢出。
5.根据权利要求4所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述排废圆形槽与所述排废冲洗孔相互垂直。
6.根据权利要求4所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述承载体还包括排废槽和与排废槽连通的排废管道，所述排废槽设置于所述排废圆形槽内液体盛满后溢出的下游位置，所述排废槽的底面靠近排废管道处的高度低于所述底面的其他位置。
7.根据权利要求6所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述排废圆形槽的开口为斜口，所述斜口的低处朝向所述排废槽。
8.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，还包括夹紧组件，所述夹紧组件设置于所述承载体表面，以夹紧所述胶嘴座。
9.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述承载体包括相互连接的承载体上部件和承载体下部件，所述承载体上部件与所述承载体下部件之间设置有密封圈。
10.一种涂胶显影设备，其特征在于，具有权利要求1至9中任一项所述的胶嘴座承载装置。
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