CN113119327B - 能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法,属于单晶硅切片技术领域。在<111>晶向上,以预定旋转角θ0进行切割,所述预定旋转角θ0为0°±5°、60°±5°或‑60°±5°。该方法能够显著降低硅片的warp值,显著降低批次间的warp值波动,且有利于改善硅片的面方位精度。
Description
技术领域
本发明属于单晶硅切片技术领域,具体涉及一种能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法。
背景技术
多线切割具有高效、低成本以及能很好地适应单晶硅棒直径越来越大的特点,在硅片加工中得到了广泛的应用,已经成为硅片加工中最重要的手段。切片过程中,需要控制硅片的warp、TTV、BOW以及局部平坦度等重要参数,传统的多线切割方式获得的切片warp值较大,且批次间切片warp值波动较大。
定晶向的多线切割方式有利于改善单晶硅切片的warp值,如专利号为201711037057.9的中国发明专利公开了一种<111>型单晶硅定晶向多线切割工艺,先通过X射线定向仪确定<111>型单晶硅径向的[1-10]、[-110]、[01-1]、[0-11]、[10-1]、[-110]六个晶向位置,然后在粘棒过程中,通过旋转单晶棒,使得其中任意一个晶向垂直于粘棒托进行粘结,切割时,切割线即能沿着该晶向方向进行切割。通过上述方法,能够减小单晶硅切片warp值约4-8μm。
然而,由于在单晶拉制的过程中,存在晶向偏离,导致在多线切割时,刀片可能从任意旋转角处切入,虽然一定程度地降低了硅片warp值,但warp值不稳地,多批次硅片的warp值波动较大,且硅片的面方位精度无法得到有效保证,面方位偏离容易大于0.29°的行业普遍要求,导致硅片合格率下降。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法,以解决现有技术中单晶硅切片时,从任意旋转角处切入,存在硅片warp值批次间波动较大,面方位精度无法保障的技术问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法,在<111>晶向上,以预定旋转角θ0进行切割,所述预定旋转角θ0为0°±5°、60°±5°或-60°±5°。
优选地,所述能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法包括以下步骤:
a.选取参考面;
b.获取<111>晶向的晶向偏离度;
c.根据晶向偏离度,计算晶棒的测定旋转角θ1、测定摆角β1;
d.根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,计算补充摆角Δβ;
e.根据测定摆角β1与补充摆角Δβ,计算实际摆角β0;
f.根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定,并完成切片。
优选地,步骤e中,所述“根据测定摆角β1与补充摆角Δβ,计算实际摆角β0”包括以下步骤:
e1.根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,确定旋转方向;
e2.计算实际摆角β0:
若旋转方向为顺时针,则β0=β1+Δβ;
若旋转方向为逆时针,则β0=β1-Δβ。
优选地,步骤e1中,所述“根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,确定旋转方向”包括以下步骤:
分别计算测定旋转角θ1与待选预定旋转角θ01、θ02、θ03的差值Δθ01、Δθ02、Δθ03;
比较|Δθ01|、|Δθ02|、|Δθ03|,以|Δθ01|、|Δθ02|、|Δθ03|中的最小值所对应的待选预定旋转角作为预定旋转角θ0;其中,θ01、θ02、θ03分别为0°±5°、60°±5°或-60°±5°;
根据测定旋转角θ1及选定的预定旋转角θ0,确定旋转方向。
优选地,步骤f中,“根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定”包括以下步骤:
f1.根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定;
f2.判断晶片面方位是否合格;如晶片面方位合格,则进行固化切片;如晶片面方位不合格,则对晶棒进行脱胶处理,并重复步骤a-f,重新进行晶棒接着固定。
由上述技术方案可知,本发明提供了一种能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法,其有益效果是:对<111>晶向晶棒进行定向切割时,以0°±5°、60°±5°或-60°±5°的预定旋转角进行定向切割,该种切割方式,能够显著降低硅片的warp值,显著降低批次间的warp值波动,且有利于改善硅片的面方位精度,硅片的面方位精度能够保持在0.1°左右。
附图说明
图1是改善后,同一批次硅片的warp值分布曲线。
图2是改善后,多批次硅片的warp值波动箱线图。
图3是改善前后,多批次硅片warp值波动箱线图对比。
具体实施方式
以下结合本发明的附图,对本发明的技术方案以及技术效果做进一步的详细阐述。
一具体实施方式中,一种能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法,在<111>晶向上,以预定旋转角θ0进行切割,所述预定旋转角θ0为0°±5°、60°±5°或-60°±5°。所述预定旋转角θ0为相对于参考面的旋转角,一般地,参考面为单晶硅晶棒的notch面。
具体地,所述能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法包括以下步骤:
a.选取参考面。一般地,选取单晶硅晶棒的notch面作为参考面。
b.获取<111>晶向的晶向偏离度。通过X射线定向仪,获取单晶硅晶棒的晶向偏离度,即单晶硅晶棒的<111>晶向与单晶硅晶棒的轴的偏离角度。
c.根据晶向偏离度,计算晶棒的测定旋转角θ1、测定摆角β1。由晶向偏离度,可计算得到相对晶向偏离的测定旋转角θ1和测定摆角β1,其计算过程为常规技术,不在赘述。
由于测定旋转角θ1与预定旋转角θ0有一定偏差,如需要以预定旋转角θ0进行接着切割时,需要对测定摆角β1进行调整,以使得切割方向与<110>晶向方向垂直。具体对测定摆角β1的调整过程如下:
d.根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,计算补充摆角Δβ。
具体地,包括以下步骤:
e1.根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,确定旋转方向。
e2.计算实际摆角β0:若旋转方向为顺时针,则β0=β1+Δβ;若旋转方向为逆时针,则β0=β1-Δβ。
具体地,所述“根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,确定旋转方向”包括以下步骤:
分别计算测定旋转角θ1与待选预定旋转角θ01、θ02、θ03的差值Δθ01、Δθ02、Δθ03;其中,θ01、θ02、θ03分别为0°±5°、60°±5°或-60°±5°。
比较|Δθ01|、|Δθ02|、|Δθ03|,以|Δθ01|、|Δθ02|、|Δθ03|中的最小值所对应的待选预定旋转角作为预定旋转角θ0;根据测定旋转角θ1及选定的预定旋转角θ0,确定旋转方向。
f.根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定,并完成切片。
一具体实施例中,根据X射线定向仪测定的<111>晶向的晶向偏离度,计算得到的测定旋转角θ1为15°,摆角为-1.821°。根据测定旋转角θ1,可知将该旋转角向0°±5°方向转动,其调整范围较小,调整误差较小。故而,将预定旋转角θ0选为5°(理论上,以预定旋转角θ0为0°时为最优选择,实际操作中,受实际因素限制,可将预定旋转角θ0选为5°)。此时,计算补充摆角Δβ=-0.011°。
旋转角由15°旋转至5°的过程中,为顺时针旋转,则,β0=β1+Δβ=-1.821°+(-0.011)=-1.832°。
晶棒接着时,按照旋转角为5°、摆角为-1.832°进行接着。
请参看图1,图1为采用上述实施例的方法切割单晶硅晶棒,获得的硅片的warp值分布,由图1可以看出,同一批次的硅片的warp值集中分布在5μm附近,最大值不超过10μm,显著的降低了同一批次硅片的warp值。
请参看表1及图2,按照本发明具体实施方式的方法,对10组单晶硅晶棒进行接着,并在同等工艺条件下完成线切割,具体数据如表1所示。
表1 10组单晶硅晶棒调整前后的旋转角、摆角对比
10组单晶硅晶棒经切割后,得到的硅片,统计其warp值分布情况,如图2,可见各批次间warp值平均分布在5-9μm之间,平均值为6μm左右。可知,通过本发明的方法,显著降低了批次间的warp值分布。
请一并参看图3,对比专利号为201711037057.9的中国发明专利所提供的方法,经多个批次统计对比,本发明专利提供的方法不仅显著降低了硅片的平均warp值,将硅片warp至控制在5-9μm之间,且显著降低了warp值分布,提高了硅片的合格率。
同时,采用传统的工艺方法,在降低硅片warp值的同时,必将面临着硅片面方位精度不可控的问题。通过本发明提供的方法对多晶硅晶棒进行多线切割时,不仅可以降低硅片warp值,且能够将硅片的面方位精度控制在0.1°以内,进一步提高硅片的合格率。
一实施例中,步骤f中,“根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定”包括以下步骤:
f1.根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定;
f2.判断晶片面方位是否合格;如晶片面方位合格,则进行固化切片;如晶片面方位不合格,则对晶棒进行脱胶处理,并重复步骤a-f,重新进行晶棒接着固定。
即接着完成后,对晶棒的晶向进行检测,判断接着是否准确,若不准确,则重新进行接着,确保硅片合格率。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程,并依本发明权利要求所作的等同变化,仍属于发明所涵盖的范围。
Claims (2)
1.一种能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法,其特征在于在于,在<111>晶向上,以预定旋转角θ0进行切割,所述预定旋转角θ0为0°±5°、60°±5°或-60°±5°;
包括以下步骤:
a.选取参考面,所述预定旋转角θ0为相对于参考面的旋转角,参考面为单晶硅晶棒的notch面;
b.获取<111>晶向的晶向偏离度,即单晶硅晶棒的<111>晶向与单晶硅晶棒的轴的偏离角度;
c.根据晶向偏离度,计算晶棒的测定旋转角θ1、测定摆角β1;
d.根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,计算补充摆角Δβ;
e.根据测定摆角β1与补充摆角Δβ,计算实际摆角β0;
f.根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定,并完成切片;步骤e中,所述“根据测定摆角β1与补充摆角Δβ,计算实际摆角β0”包括以下步骤:
e1.根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,确定旋转方向;
e2.计算实际摆角β0:
若旋转方向为顺时针,则β0=β1+Δβ;
若旋转方向为逆时针,则β0=β1-Δβ;
步骤e1中,所述“根据测定旋转角θ1及预定旋转角θ0,确定旋转方向”包括以下步骤:
分别计算测定旋转角θ1与待选预定旋转角θ01、θ02、θ03的差值Δθ01、Δθ02、Δθ03;比较Δθ01、Δθ02、Δθ03,以Δθ01、Δθ02、Δθ03中的最小值所对应的待选预定旋转角作为预定旋转角θ0;其中,θ01、θ02、θ03分别为0°±5°、60°±5°或-60°±5°;根据测定旋转角θ1及选定的预定旋转角θ0,确定旋转方向。
2.如权利要求1所述的能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法,其特征在于,步骤f中,“根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定”包括以下步骤:
f1.根据预定旋转角θ0与实际摆角β0,旋转晶棒,进行接着固定;
f2.判断晶片面方位是否合格;如晶片面方位合格,则进行固化切片;如晶片面方位不合格,则对晶棒进行脱胶处理,并重复步骤a-f,重新进行晶棒接着固定。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110446789.3A CN113119327B (zh) | 2021-04-25 | 2021-04-25 | 能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202110446789.3A CN113119327B (zh) | 2021-04-25 | 2021-04-25 | 能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法 |
Publications (2)
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CN113119327A CN113119327A (zh) | 2021-07-16 |
CN113119327B true CN113119327B (zh) | 2023-04-14 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN202110446789.3A Active CN113119327B (zh) | 2021-04-25 | 2021-04-25 | 能够改善<111>晶向晶棒切割warp值的定向多线切割方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113119327B (zh) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19825051A1 (de) * | 1998-06-04 | 1999-12-09 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines zylinderförmigen Einkristalls und Verfahren zum Abtrennen von Halbleiterscheiben |
DE19825050C2 (de) * | 1998-06-04 | 2002-06-13 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren zum Anordnen und Orientieren von Einkristallen zum Abtrennen von Scheiben auf einer ein Drahtgatter aufweisenden Drahtsäge |
CN102152410A (zh) * | 2010-12-23 | 2011-08-17 | 万向硅峰电子股份有限公司 | 一种旋转单晶棒调整晶向偏移的切割方法 |
CN107599196A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-01-19 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种<111>型单晶硅定晶向多线切割工艺 |
CN110065171B (zh) * | 2019-04-25 | 2021-12-24 | 西安奕斯伟材料科技有限公司 | 一种切割装置和晶棒的切割方法 |
CN111361030B (zh) * | 2020-04-24 | 2021-11-23 | 西安奕斯伟材料科技有限公司 | 多线切割装置及多线切割方法 |
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