CN112445075B - 平板簧片、微动装置及光刻机 - Google Patents
平板簧片、微动装置及光刻机 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112445075B CN112445075B CN201910818251.3A CN201910818251A CN112445075B CN 112445075 B CN112445075 B CN 112445075B CN 201910818251 A CN201910818251 A CN 201910818251A CN 112445075 B CN112445075 B CN 112445075B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- reed
- micro
- flat
- motion
- order
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 title claims abstract description 126
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910000639 Spring steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 244000089486 Phragmites australis subsp australis Species 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000002508 compound effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本发明提供一种平板簧片、微动装置及光刻机，所述平板簧片包括簧片本体以及设置于所述簧片本体上的模态干涉部件，所述模态干涉部件用以提高或降低所述簧片本体的模态频率。由此，通过调整和改变平板簧片的模态频率，使平板簧片的模态频率与承片台的模态频率错开，避免共振产生，从而能够提高微动装置的控制效果，提高运动控制精度。
Description
技术领域
本发明涉及光刻机技术领域，特别涉及一种平板簧片、微动装置及光刻机。
背景技术
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底之目标部分上的机器。微动工件台的承片台是光刻机工件台的最重要部件之一，用以承载硅片(作为一种衬底)。在磁悬浮工件台中，微动工件台的驱动通过平面电机实现，且由于对光刻效率的追求，对微动工件台提出了较高的运动加速度的需求。然而为提高微动工件台加速度，根据牛顿定律F＝M*a可知，有两种方法：1)提高平面电机驱动出力；2)减轻微动工件台自身重量。以当前行业技术条件下，提高平面电机驱动出力的是十分困难的，其研制、制造成本大，研制周期长。所以，选择减轻微动工件台质量是一种有效和经济的方法，其中承片台又占微动工件台的绝大部分的质量。
由于光刻机分辨率和套刻精度不断提高，这就对运动***有更高的动态性能的需求，所以要求微动工件台的承片台具有较高的模态和刚度。因此，在减轻承片台质量的同时又必须保证承片台的模态值指标及动态性能。一般的，承片台可采用独立的减振隔振方式，如承片台通过隔振解耦单元与微动工作台的其它部件连接。现有技术中，承片台的固有模态频率常与隔振解耦单元的模态频率相近，易引起共振，从而影响微动工件台的定位精度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种平板簧片、微动装置及光刻机，以解决现有承片台易与隔振解耦单元共振的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种平板簧片，用于光刻机，其包括：
簧片本体；以及
模态干涉部件，设置于所述簧片本体上，用以提高或降低所述平板簧片的模态频率。
可选的，在所述平板簧片中，所述模态干涉部件包括：
凹槽和/或凸起，所述凹槽用以降低所述簧片本体的模态频率，所述凸起用以提高所述簧片本体的模态频率。
可选的，在所述平板簧片中，所述模态干涉部件根据所述簧片本体的一阶至五阶的模态振形中的任意一种或多种进行配置。
可选的，在所述平板簧片中，所述平板簧片为三角形，所述模态干涉部件包括：根据所述簧片本体的一阶和三阶的模态振形进行配置的凹槽。
可选的，在所述平板簧片中，所述平板簧片包括三个角部，在每个所述角部中，所述凹槽均包括一组平行布置的第一凹槽和一组叉形布置的第二凹槽。
可选的，在所述平板簧片中，所述平板簧片还包括中部，所述中部设有多个安装孔，用以与水平电机连接；所述角部用以与承片台连接。
可选的，所述平板簧片的一阶固有频率小于10Hz。
为解决上述技术问题，本发明还提供一种微动装置，其包括：
如上所述的平板簧片；
支架，与所述平板簧片的一端连接；
承片台，设置于所述支架上；以及
水平向电机，与所述平板簧片的另一端连接；
所述微动装置用于设置于一运动台的微动台中。
可选的，在所述微动装置中，所述承片台的一阶固有频率大于600Hz。
为解决上述技术问题，本发明还提供一种光刻机，其包括如上所述的微动装置，还包括运动台，所述运动台包括工件台或掩摸台，所述工件台或掩摸台包括一微动台，所述微动装置设置于所述微动台中。
综上所述，在本发明提供的平板簧片、微动装置及光刻机中，平板簧片包括簧片本体以及设置于所述簧片本体上的模态干涉部件，模态干涉部件能够提高或降低所述簧片本体的模态频率，由此，通过调整和改变平板簧片的模态频率，使平板簧片的模态频率与承片台的模态频率错开，避免共振产生，从而提高微动装置的控制效果，提高运动控制精度。
附图说明
本领域的普通技术人员将会理解，提供的附图用于更好地理解本发明，而不对本发明的范围构成任何限定。其中：
图1是本发明实施例一提供的微动装置的示意图；
图2是图1所示的微动装置的侧视图；
图3是本发明实施例一提供的承片台的示意图；
图4是本发明实施例一提供的平板簧片的一阶模态振形的示意图；
图5是本发明实施例一提供的平板簧片的一阶配置布局的示意图；
图6是本发明实施例一提供的平板簧片的二阶模态振形的示意图；
图7是本发明实施例一提供的平板簧片的二阶配置布局的示意图；
图8是本发明实施例一提供的平板簧片的三阶模态振形的示意图；
图9是本发明实施例一提供的平板簧片的三阶配置布局的示意图；
图10是本发明实施例一提供的平板簧片的四阶模态振形的示意图；
图11是本发明实施例一提供的平板簧片的四阶配置布局的示意图；
图12是本发明实施例一提供的平板簧片的混合配置布局的俯视图；
图13是图12的平板簧片的立体图；
图14是本发明实施例二提供的平板簧片的一阶至五阶模态振形的示意图；
图15是本发明实施例二提供的平板簧片的混合配置布局的示意图。
附图中：
100-承片台；101-吸盘装置；102-局部辅助支撑肋板；103-矩形支撑柱体；104-Z向电机安装空间；106-三角形支撑肋板；
200-平板簧片；201-簧片本体；210-角部；220-中部；221-安装孔；230-模态干涉部件；231-第一凹槽；232-第二凹槽；241-一阶模态；242-二阶模态；243-三阶模态；244-四阶模态；245-五阶模态；
300-支架；
400-水平向电机；410-垂向凸轮机构和电机；
500-气浮装置；
具体实施方式
为使本发明的目的、优点和特征更加清楚，以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且未按比例绘制，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。此外，附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的，各附图需要展示的侧重点不同，有时会采用不同的比例。
如在本说明书和所附权利要求书中所使用的，单数形式“一”、“一个”以及“该”包括复数对象，除非内容另外明确指出外。如在本说明书和所附权利要求中所使用的，术语“或”通常是以包括“和/或”的含义而进行使用的，除非内容另外明确指出外。
本发明的核心思想在于提供一种平板簧片、微动装置及光刻机，以解决现有承片台易与隔振解耦单元共振的问题。其中平板簧片包括：簧片本体以及模态干涉部件，所述模态干涉部件设置于所述簧片本体上，用以提高或降低所述平板簧片的模态频率。由此，通过调整和改变平板簧片的模态频率，使平板簧片的模态频率与承片台的模态频率错开，避免共振产生。
以下参考附图进行描述。
【实施例一】
请参考图1至图13，其中，图1是本发明实施例一提供的微动装置的示意图，图2是图1所示的微动装置的侧视图，图3是本发明实施例一提供的承片台的示意图，图4是本发明实施例一提供的平板簧片的一阶模态振形的示意图，图5是本发明实施例一提供的平板簧片的一阶配置布局的示意图，图6是本发明实施例一提供的平板簧片的二阶模态振形的示意图，图7是本发明实施例一提供的平板簧片的二阶配置布局的示意图，图8是本发明实施例一提供的平板簧片的三阶模态振形的示意图，图9是本发明实施例一提供的平板簧片的三阶配置布局的示意图，图10是本发明实施例一提供的平板簧片的四阶模态振形的示意图，图11是本发明实施例一提供的平板簧片的四阶配置布局的示意图，图12是本发明实施例一提供的平板簧片的混合配置布局的俯视图，图13是图12的平板簧片的立体图。
如图1和图2所示，本发明实施例一提供一种微动装置，其包括：承片台100，平板簧片200，支架300以及水平向电机400。承片台100设置于支架300上，支架300与平板簧片200的一端连接，水平向电机400与平板簧片200的另一端连接；所述微动装置用于设置于一运动台的微动台中。其中，图2(A)是图1所示的微动装置的一个方向的侧视图，图2(B)是图1的微动装置的另一个方向的侧视图，图2(A)的图示方向与图2(B)的图示方向相垂直。
在一个示范性的实施例中，承片台100为用于承载吸盘装置101和硅片的结构，其优选采用微晶玻璃或碳化硅材料所制，具有高模态、低质量的特性。图3示出了一种承片台的范例，其中，图3(A)是承片台100俯视角度的立体示意图，图3(B)是承片台100仰视角度的立体示意图，亦即图3(A)与图3(B)分别示意了承片台100的上下两个面。在承片台100的吸盘装置101和Z向电机安装空间104内设有局部辅助支撑肋板102；在承片台100的底部具有三个矩形支撑柱体103，以供承片台100与垂向支撑模块和支架300连接；在承片台100的底部还具有三角形支撑肋板106，以起到加强局部和整体强度和刚度的作用，提高整体模态的作用。承片台100的一阶自由模态(固有频率)达到600Hz以上，一般的，为实现更好地控制，微动装置的控制带宽需满足150Hz以上，此时，承片台100的一阶自由模态满足高于三倍以上控制带宽的需求。微动装置具有X、Y、Z和Rx、Ry、Rz 6个自由度，吸盘装置101用于吸附硅片，同时吸盘装置101是一种Rz自由度旋转装置，为硅片提供Rz方向自由度，水平向电机400能够提供X向出力或Y向出力。此外微动装置还设有三组垂向凸轮机构和电机410，三组垂向凸轮机构和电机410联动即构成了微动装置的垂向Rx、Ry和Z向自由度。在微动装置的底部设有一气浮装置500，可提供气浮支撑，以供微动装置置放于光滑的大理石平台上并提供气浮支持和产生极低的水平运动摩擦力。
较佳的，在一个可替代的实施例中，平板簧片200为三角形，其包括三个角部210和一个中部220，中部220设有多个安装孔221(如螺纹孔或通孔)，水平向电机400通过安装孔221与平板簧片200连接固定(本实施例中优选为3个水平向电机400)。该平板簧片200具有较低的垂向(Z向)刚度，可以为微动装置进行垂向运动解耦，为提供三组垂向凸轮机构和电机410的运动提供Rx、Ry和Z向自由度。使得微动装置垂向运动和水平向运动相互独立互不干扰。
平板簧片200的角部210连接垂向支撑模块和支架300，垂向支撑模块的底部装有三组垂向凸轮机构和电机410，该三组垂向凸轮机构和电机410独立和联动控制，以调整微动台Rx、Ry和Z向的自由度。承片台100则通过矩形支撑柱体103与垂向支撑模块和支架300连接，由此，承片台100通过平板簧片200间接地与水平向电机400和垂向凸轮机构和电机410连接。
一般认为当两个物体的一阶模态(固有频率)的数值较为临近时两者会发生共振。但此类共振情况不仅仅会在两个物体的一阶模态(固有频率)时发生，同时也会在一个物体(振源或目标物体)的一阶模态(固有频率)同另一个物体(目标物体或振源)的高阶频率(二阶以上，一般认为在二阶至六阶)相互临近时发生。一般认为当振源的固有频率ω1同目标物体的固有频率ω2的比值 时，振源与目标物体基本不会产生共振。
然而发明人发现，在工程实践中设计受多种因素的限制和约束， 的条件实际上较难满足，由于工程实践中模型的复杂性、振型和方向的多样性，采用有限元软件FEA通过多次反复的仿真计算验证，当两种物体之间的r在1.2-1.4之间时，频率距离已经足够远了，足以避免共振。为达到上述避免共振的目标，有两种有效的设计手段，一种是降低振源的固有频率，另一种是提高目标物体的固有频率。两者同步实施，则更易达到目标。在微动装置中，承片台100可以看作是目标物体，连接承片台100的平板簧片200可以看作是振源。由此，一方面，通过在承片台100的材料和结构布置，尽量提高其固有频率，另一方面，可通过降低平板簧片200的固有频率来实现避免微动装置共振的目的。
基于上述研究，本实施例提供一种平板簧片200，其包括簧片本体201以及设置于所述簧片本体201上的模态干涉部件230，模态干涉部件230用以提高或降低所述平板簧片200的模态频率。优选的，模态干涉部件230包括凹槽和/或凸起，所述凹槽用以降低所述簧片本体201的模态频率，所述凸起用以提高所述簧片本体201的模态频率。发明人发现，通过模态干涉部件230，可使平板簧片200对于某些特定频率的振形产生特定的变化，当承片台100与平板簧片200的固有频率在某些阶的频率上相近时，可根据实际需要，依据模态振形在簧片本体201局部增强或局部减弱(即设置凸起或凹槽)，使得平板簧片200的模态频率与承片台100的模态频率相异。以下以一三角形的平板簧片200为例进行说明：
请参考图4，其示出了三角形的平板簧片200的一阶模态振形。需理解，此处以三角形的平板簧片200的一个角部210为示例进行模拟分析。该三角形的平板簧片200的一阶模态振形在1Hz-100Hz之前，呈现如图4的近似水平向的等高线垂向弯曲的效果。基于此，可在三角形的平板簧片200的类似区域开设同等高线趋势一致或相似的凹槽，以降低该振形的刚度，进而降低模态的频率。请参考图5，其示出了三角形的平板簧片200的一阶开槽布局，其中开设了两条横向的第一凹槽231。需要说明的，这里凹槽的数量不限于两根，可根据实际需求进行设定，如可为一根或多根。
请参考图6，其示出了三角形的平板簧片200的二阶模态振形。需理解，此处以三角形的平板簧片200的一个角部210为示例进行模拟分析。该三角形的平板簧片200的二阶模态振形在100Hz-300Hz之前，呈现如图6的等高线垂向弯曲的效果。基于此，可在三角形的平板簧片200的类似区域开设同等高线趋势一致或相似的凹槽，以降低该振形的刚度，进而降低模态的频率。请参考图7，其示出了三角形的平板簧片200的二阶开槽布局，其中开设了两根相对的弧形凹槽。需要说明的，这里凹槽的数量不限于两根，可根据实际需求进行设定。
请参考图8，其示出了三角形的平板簧片200的三阶模态振形。需理解，此处以三角形的平板簧片200的一个角部210为示例进行模拟分析。该三角形的平板簧片200的三阶模态振形在300Hz-500Hz之前，呈现如图9的等高线垂向弯曲的效果。基于此，可在三角形的平板簧片200的类似区域开设同等高线趋势一致或相似的凹槽，以降低该振形的刚度，进而降低模态的频率。请参考图10，其示出了三角形的平板簧片200的三阶开槽布局，其中开设了两根交叉的第二凹槽232。需要说明的，这里凹槽的数量不限于两根，可根据实际需求进行设定。
请参考图11，其示出了三角形的平板簧片200的四阶模态振形。需理解，此处以三角形的平板簧片200的一个角部210为示例进行模拟分析。该三角形的平板簧片200的四阶模态振形在500Hz-700Hz之前，呈现如图12的等高线垂向弯曲的效果。基于此，可在三角形的平板簧片200的类似区域开设同等高线趋势一致或相似的凹槽，以降低该振形的刚度，进而降低模态的频率。请参考图12，其示出了三角形的平板簧片200的四阶开槽布局，其中开设了一根圆形凹槽。需要说明的，这里凹槽的数量不限于一根，可根据实际需求进行设定。
发明人通过研究发现，在三角形的平板簧片200中，通过降低一阶和三阶的模态频率，即能有效地避免平板簧片200与承片台100产生共振。因此，模态干涉部件230包括根据所述簧片本体201的一阶和三阶的模态振形进行配置的凹槽。具体的，如图12和图13所示，所述凹槽包括根据一阶模态振形的第一凹槽231和根据二阶模态振形的第二凹槽232。较佳的，三角形的平板簧片200包括三个角部210，在每个角部210中，凹槽均包括一组平行布置的第一凹槽231和一组叉形布置的第二凹槽232。优选的，平板簧片200的一阶固有频率小于10Hz。二阶或高阶的固有频率(尤其是二阶或三阶的固有频率)尽可能的低，如可配置在100Hz-400Hz以下。如此配置，平板簧片200的高阶频率与承片台100的一阶频率相异，拉开一定的差距，即能有效避免两者产生共振。
需要说明的是，在其它的一些实施例中，模态干涉部件230并不限于根据簧片本体201的一阶和三阶的模态振形进行配置，还可以根据不同的结构需要，根据簧片本体201的一阶至五阶的模态振形中的任意一种或多种进行配置，如可选择性地根据一阶、二阶及三阶的模态振形进行配置，模态干涉部件230可结合图5、图7及图9的配置布局进行设置。模态干涉部件230也不限于开设凹槽，在一些实施例中，根据需要，还可以依据簧片本体201的一阶至五阶的模态振形设置凸起，以调整簧片本体201的固有频率。当然，凸起和凹槽也可以结合使用，本发明对此不限。
可选的，本实施例提供的平板簧片200，至少可以根据如下几种方法获得：
1、直接采用金属材料如弹簧钢进行铣削加工或线切割加工；
2、采用3D金属(如弹簧钢粉末)增材料打印加工；
3、通过多层簧片装配后，在局部面上进行焊接或粘接加工，如采用0.5mm厚的大面积簧片，并在局部需要加强的位置上焊接或粘接小面积的簧片，以形成模态干涉部件。
通过以上制造方法，都可以获得一种特定几何形状的平板簧片200，并使得该平板簧片200的一阶至五阶的模态受控。
本实施例还提供一种光刻机，其包括如上所述的微动装置，还包括运动台，所述运动台包括工件台或掩摸台，所述工件台或掩摸台包括一微动台，所述微动装置设置于所述微动台中。本领域技术人员可根据现有技术对该光刻机的其它部件进行配置，在此不再详述。由于本实施例提供的光刻机包括如上所述的微动装置，因此也具备上述微动装置所带来的有益效果。
【实施例二】
本发明实施例二的平板簧片、微动装置及光刻机与实施例一基本相同，对于相同部分不再叙述，以下仅针对不同点进行描述。
请参考图14和图15，其中图14是本发明实施例二提供的平板簧片的一阶至五阶模态振形的示意图，图15是本发明实施例二提供的平板簧片的混合配置布局的示意图。
本实施例提供一种四边形的平板簧片200，其一端(如平板簧片200的四个角部)连接垂向支撑模块和支架300，另一端(如平板簧片200的中心部)连接水平向电机400。图14示出了该四边形的平板簧片200的模态振形，其中，图14(A)为一阶模态振形，图14(B)为二阶模态振形，图14(C)为三阶模态振形，图14(D)为四阶模态振形，图14(E)为五阶模态振形，在1Hz-2000Hz范围内，平板簧片200分别呈现如图14所示的等高线垂向弯曲的效果。基于此，可在四边形的平板簧片200的类似区域开设同等高线趋势一致或相似的凹槽，以降低该振形的刚度进而降低模态的频率。
可理解的，本领域技术人员可根据需要，选择性地在四边形的平板簧片200的一阶至五阶模态振形中任意选取一种或多种，来配置模态干涉部件230，模态干涉部件230如可为复合形槽，如根据多阶模态振形开设的凹槽集合；或者根据若干模态振形开设凹槽，根据若干模态振形设置凸起等。该平板簧片200通过复合形槽的设置，可以同时降低一阶至五阶任意组合自由模态频率，如此配置，可同时控制其呈现为一阶至五阶任意组合自由模态频率同时降低的复合效果。其中一阶低频率模态可保证平板簧片200的垂向低刚度，二阶至五阶低频率模态可避免平板簧片200同其他结构件，如承片台100(固有频率600Hz)发生共振。如图15所示，其示出了四边形的平板簧片200的混合配置布局，其主要根据簧片本体201的一阶至五阶的模态振形混合配置。本领域技术人员可根据需要在该混合配置布局上选择性地设置模态干涉部件230，以实现对平板簧片200的固有频率进行干涉调整的目的。
综上所述，在本发明提供的平板簧片、微动装置及光刻机中，平板簧片包括簧片本体以及设置于所述簧片本体上的模态干涉部件，模态干涉部件能够提高或降低所述簧片本体的模态频率，由此，通过调整和改变平板簧片的模态频率，使平板簧片的模态频率与承片台的模态频率错开，避免共振产生，从而提高微动装置的控制效果，提高运动控制精度。
需要说明的是，本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可，此外，各个实施例之间不同的部分也可互相组合使用，本发明对此不作限定。此外，上述若干实施例仅为对本发明的示范性描述而非对本发明的限定，本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，其均属于权利要求书的保护范围。
Claims (8)
1.一种平板簧片，用于光刻机，其特征在于，所述平板簧片用于与承片台连接；所述平板簧片包括：
簧片本体；以及
模态干涉部件，设置于所述簧片本体上，包括用以降低所述簧片本体的模态频率的凹槽；所述凹槽根据所述簧片本体的一阶和三阶的模态振形进行配置；
所述平板簧片为三角形。
2.根据权利要求1所述的平板簧片，其特征在于，所述模态干涉部件包括：
凸起，所述凸起用以提高所述簧片本体的模态频率。
3.根据权利要求1所述的平板簧片，其特征在于，所述平板簧片包括三个角部，在每个所述角部中，所述凹槽均包括一组平行布置的第一凹槽和一组叉形布置的第二凹槽。
4.根据权利要求3所述的平板簧片，其特征在于，所述平板簧片还包括中部，所述中部设有多个安装孔，用以与水平电机连接；所述角部用以与承片台连接。
5.根据权利要求1所述的平板簧片，其特征在于，所述平板簧片的一阶固有频率小于10Hz。
6.一种微动装置，其特征在于，包括：
根据权利要求1所述的平板簧片；
支架，与所述平板簧片的一端连接；
承片台，设置于所述支架上；以及
水平向电机，与所述平板簧片的另一端连接；
所述微动装置用于设置于一运动台的微动台中。
7.根据权利要求6所述的微动装置，其特征在于，所述承片台的一阶固有频率大于600Hz。
8.一种光刻机，其特征在于，包括根据权利要求6或7所述的微动装置，还包括运动台，所述运动台包括工件台或掩摸台，所述工件台或掩摸台包括一微动台，所述微动装置设置于所述微动台中。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910818251.3A CN112445075B (zh) | 2019-08-30 | 2019-08-30 | 平板簧片、微动装置及光刻机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910818251.3A CN112445075B (zh) | 2019-08-30 | 2019-08-30 | 平板簧片、微动装置及光刻机 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112445075A CN112445075A (zh) | 2021-03-05 |
| CN112445075B true CN112445075B (zh) | 2023-12-29 |
Family
ID=74733841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910818251.3A Active CN112445075B (zh) | 2019-08-30 | 2019-08-30 | 平板簧片、微动装置及光刻机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112445075B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113917796A (zh) * | 2021-09-22 | 2022-01-11 | 哈尔滨工业大学 | 一种多自由度宏微混合的精密运动台 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6812813B2 (en) * | 2000-03-13 | 2004-11-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for adjusting frequency of attenuation pole of dual-mode band pass filter |
| KR20050121945A (ko) * | 2004-06-23 | 2005-12-28 | 삼성전기주식회사 | 판 스프링을 구비하는 선형 진동모터 및 상기 판 스프링의공진주파수 보정 방법 |
| CN102200689A (zh) * | 2010-03-23 | 2011-09-28 | 上海微电子装备有限公司 | 一种混合磁浮式的重力补偿装置 |
| CN102720707A (zh) * | 2012-06-21 | 2012-10-10 | 江苏超力电器有限公司 | 一种汽车空调鼓风机总成 |
| JP2014149027A (ja) * | 2013-01-31 | 2014-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | ばね装置および振動絶縁装置 |
| CN104076612A (zh) * | 2013-03-27 | 2014-10-01 | 上海微电子装备有限公司 | 重载荷柔性支撑装置 |
| CN207427466U (zh) * | 2017-09-21 | 2018-05-29 | 深圳倍声声学技术有限公司 | 一种簧片及动铁单元 |
| CN108144831A (zh) * | 2016-12-05 | 2018-06-12 | 南京圣威惠众机电技术有限公司 | 一种集成动态力实时测量与共振频率可调的旋转激振器 |
| CN110154716A (zh) * | 2018-02-12 | 2019-08-23 | 比亚迪股份有限公司 | 电机控制器的盖板、电机控制器和动力总成 |
-
2019
- 2019-08-30 CN CN201910818251.3A patent/CN112445075B/zh active Active
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6812813B2 (en) * | 2000-03-13 | 2004-11-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for adjusting frequency of attenuation pole of dual-mode band pass filter |
| KR20050121945A (ko) * | 2004-06-23 | 2005-12-28 | 삼성전기주식회사 | 판 스프링을 구비하는 선형 진동모터 및 상기 판 스프링의공진주파수 보정 방법 |
| CN102200689A (zh) * | 2010-03-23 | 2011-09-28 | 上海微电子装备有限公司 | 一种混合磁浮式的重力补偿装置 |
| CN102720707A (zh) * | 2012-06-21 | 2012-10-10 | 江苏超力电器有限公司 | 一种汽车空调鼓风机总成 |
| JP2014149027A (ja) * | 2013-01-31 | 2014-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | ばね装置および振動絶縁装置 |
| CN104076612A (zh) * | 2013-03-27 | 2014-10-01 | 上海微电子装备有限公司 | 重载荷柔性支撑装置 |
| CN108144831A (zh) * | 2016-12-05 | 2018-06-12 | 南京圣威惠众机电技术有限公司 | 一种集成动态力实时测量与共振频率可调的旋转激振器 |
| CN207427466U (zh) * | 2017-09-21 | 2018-05-29 | 深圳倍声声学技术有限公司 | 一种簧片及动铁单元 |
| CN110154716A (zh) * | 2018-02-12 | 2019-08-23 | 比亚迪股份有限公司 | 电机控制器的盖板、电机控制器和动力总成 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN112445075A (zh) | 2021-03-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1987661B (zh) | 平面载物台装置 | |
| KR100852876B1 (ko) | 스테이지장치 | |
| WO2020108156A1 (zh) | 一种多维磁负刚度机构及其构成的多维磁负刚度减振*** | |
| CN104614137A (zh) | 基于静压气浮解耦装置的三分量标准振动台 | |
| CN112445075B (zh) | 平板簧片、微动装置及光刻机 | |
| JP4195497B2 (ja) | ステージ装置 | |
| CN110549201B (zh) | 机床 | |
| WO2014094688A2 (en) | Vibration isolator with zero stiffness whose angle degree of freedom is decoupled with a spherical air bearing | |
| EP2666566A1 (en) | Turning spindle unit for composite machine tools | |
| WO2014094687A2 (en) | Magnetically suspended and plane-drove vibration isolator with zero stiffness whose angle degree of freedom is decoupled with a spherical air bearing | |
| CN204607329U (zh) | 电梯轿厢 | |
| CN100536065C (zh) | 高精度快速调平装置 | |
| TW201525321A (zh) | 具有分爲多個區段之支撐體的振動隔離系統及用以控制該系統之方法 | |
| JP2004165582A (ja) | 基板ホルダ、基板トレイ、ステージ装置、及び基板ホルダの製造方法 | |
| CN103732941A (zh) | 多插片保持装置 | |
| TWI766443B (zh) | 機床 | |
| CN214302317U (zh) | 一种可模块化组装的调频质量阻尼器 | |
| CN212363602U (zh) | 电动振动台的导向装置及电动振动台 | |
| CN204556208U (zh) | 基于静压气浮解耦装置的三分量标准振动台 | |
| JP4120486B2 (ja) | 研削盤のベッドの構造 | |
| KR101582367B1 (ko) | 가공기 시스템 및 가공기를 배치하는 방법 | |
| CN201881874U (zh) | 发动机悬置座 | |
| CN111551334A (zh) | 一种电动振动台的导向装置及电动振动台 | |
| JP2006283951A (ja) | ダイナミックダンパ | |
| JP4559655B2 (ja) | 制振装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |