CN112420950B - 一种显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置。显示面板包括：阵列基板、设置于所述阵列基板上的像素定义层和有机发光层、以及通过所述像素定义层定义的像素开口区，所述有机发光层设置于所述像素开口区内；所述像素定义层包括设置于所述阵列基板上的第一像素定义子层和设置于所述第一像素定义子层上的第二像素定义子层，所述第二像素定义子层的折射率大于所述第一像素定义子层的折射率。本发明实施例中像素定义层的不同折射率的双层结构，利用了光的全反射理论，有机发光层发出的光在像素定义层的不同介质层间传播，大于临界角的部分光线经多次反射向上方射出，有效提高显示面板的出光效率。

Description

一种显示面板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(OLED，Organic Light Emitting Diode)显示因其具有柔性可弯曲、自发光、广视角等优点成为目前市场上的主流显示产品，被誉为继液晶显示(LCD，Liquid Crystal Display)后最有发展潜力的显示技术。OLED发光器件采用三明治结构，当两端通入电流后，电子和空穴被注入到有机发光层中，不同的有机发光材料在激子激发下发出不同颜色的光，从而应用于各种显示产品。
目前，大部分OLED发光均采取顶发光方式。对于显示面板来讲，出光效率是一块显示屏幕的重要评估参数。然而，由于出光的不确定性以及像素定义层透光，导致有机发光层发出的光一部分从像素定义层结构的侧边射出，该部分光在像素定义层中不断反射、折射而损失，从而降低了显示面板的顶发光的出光效率。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以解决现有显示面板中，顶发光的出光效率低的技术问题。
本发明实施例提供一种显示面板，包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的像素定义层和有机发光层、以及通过所述像素定义层定义的像素开口区，所述有机发光层设置于所述像素开口区内；
所述像素定义层包括设置于所述阵列基板上的第一像素定义子层和设置于所述第一像素定义子层上的第二像素定义子层，所述第二像素定义子层的折射率大于所述第一像素定义子层的折射率。
在一些实施例中，所述有机发光层包括设置于所述阵列基板上的阳极层，设置于所述阳极层上的发光功能层，及设置于所述发光功能层上的阴极层；
所述发光功能层的上表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度。
在一些实施例中，所述发光功能层的下表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度。
在一些实施例中，所述第一像素定义子层和所述第二像素定义子层的材质均为有机光阻材料。
在一些实施例中，所述第二像素定义子层的折射率与所述第一像素定义子层的折射率的差值为0.5。
本发明实施例提供一种显示面板的制备方法，所述方法包括：
提供一阵列基板，在所述阵列基板上形成像素定义层，所述像素定义层包括在所述阵列基板上形成第一像素定义子层和在所述第一像素定义子层上形成第二像素定义子层；
在所述像素定义层定义像素开口区，在所述像素开口区内形成设于所述阵列基板上的有机发光层；
所述第二像素定义子层的折射率大于所述第一像素定义子层的折射率。
在一些实施例中，所述在所述像素开口区内形成设于所述阵列基板上的有机发光层的步骤包括：
在所述阵列基板上形成阳极层，在所述阳极层上形成发光功能层，在所述发光功能层上形成阴极层；
所述发光功能层的上表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度。
在一些实施例中，所述发光功能层的下表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度。
在一些实施例中，所述第二像素定义子层的折射率与所述第一像素定义子层的折射率的差值为0.5。
本发明实施例提供一种显示装置，包括如前述任一实施例中所述的显示面板。
本发明的有益效果：本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，本发明的具体实施例中像素定义层的不同折射率的双层结构，利用了光的全反射理论，有机发光层发出的光在像素定义层的不同介质层间传播，其中大于临界角的部分光线会发生全反射现象，并且在像素定义层中经多次反射向上方射出，有效提高显示面板的出光效率。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。
图2A-2B为本发明实施例提供的显示面板的另一结构示意图。
图3A-3E为本发明实施例提供的显示面板制作过程的层级结构流程图。
图4为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意框图。
附图标记：
100-阵列基板；200-有机发光层；201-阳极层；202-发光功能层；203-阴极层；300-像素定义层；301-第一像素定义子层；302-第二像素定义子层；400-像素开口区。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
如图1所示，本发明实施例提供一种显示面板，包括阵列基板100、设置于所述阵列基板100上的像素定义层300和有机发光层200、以及通过所述像素定义层300定义的像素开口区400，所述有机发光层200设置于所述像素开口区400内；
所述像素定义层200包括设置于所述阵列基板100上的第一像素定义子层301和设置于所述第一像素定义子层301上的第二像素定义子层302，所述第二像素定义子层302的折射率大于所述第一像素定义子层301的折射率。
可以理解的是，本实施例中的显示面板可以选用OLED显示面板，而现有的顶发光方式的OLED显示面板的顶发射出光效率不高，原因是出光方向的不确定性以及显示面板的像素定义层300具有一定的透光率，导致有机发光层200发出的光一部分从像素定义层300的侧边射出，或是光线在像素定义层300中经过多次反射后射入像素定义层300下方的阵列基板100中，进而降低显示面板的出光效率。
本实施例中的像素定义层300包括设置于所述阵列基板100上的第一像素定义子层301和设置于所述第一像素定义子层301上的第二像素定义子层302，在原像素定义层结构的基础上，增加了第一像素定义子层301结构，同时所述第一像素定义子层301的材料的折射率要低于原像素定义层材料的折射率，即所述第二像素定义子层302的折射率大于所述第一像素定义子层301的折射率。当在像素开口区400内的有机发光层200发出的光束射入像素定义层300中时，由于光的全反射理论，光束从第二像素定义子层302射向第一像素定义子层301时，部分大于临界角的光束会在第二像素定义子层302与第一像素定义子层301的层间界面处发生全反射现象，该部分光束不会透过第一像素定义子层301而射向下方的阵列基板100，并且该部分光束在第二像素定义子层302中经过多次反射后改变方向，最后向像素定义层300的上方射出，有效提高了显示面板的出光效率。
如图2A-2B所示，所述有机发光层200包括设置于所述阵列基板100上的阳极层201，设置于所述阳极层201上的发光功能层202，及设置于所述发光功能层202上的阴极层203；
所述发光功能层202的上表面至所述阵列基板100的厚度大于所述第一像素定义子层301的厚度。
可以理解的是，所述阵列基板100上有金属走线和薄膜晶体管开关(图中未示出)，用于驱动与控制有机发光层200的发光；所述阳极层201设置于所述阵列基板100上，可以作为阳极起导电作用，在所述阳极层201上通过蒸镀或喷墨打印工艺形成发光功能层202。所述有机发光层200通电点亮后，如果发光功能层202的上表面至所述阵列基板100的厚度在水平方向上低于第一像素定义子层301的厚度，发光功能层202发出的光束会从第一像素定义子层301的侧边进入第一像素定义子层301中，由于第一像素定义子层301的材料具有一定的透光性，光束会直接穿过第一像素定义子层301后从侧边射出，并不会在第二像素定义子层302与第一像素定义子层301的层间界面处发生全反射现象，造成光束的损失进而降低了显示面板的出光效率。本实施例中，限定所述发光功能层202的上表面至所述阵列基板100的厚度大于所述第一像素定义子层301的厚度，发光功能层202发出的光束部分会从第二像素定义子层302的侧边进入第二像素定义子层302中，光束从第二像素定义子层302射向第一像素定义子层301时，部分大于临界角的光束会在第二像素定义子层302与第一像素定义子层301的层界面处发生全反射现象，该部分光束不会透过第一像素定义子层301而射向下方的阵列基板100，从而减少了光束的损失，能够有效提高显示面板的出光效率。
所述发光功能层202的下表面至所述阵列基板100的厚度大于所述第一像素定义子层301的厚度。
为了进一步提高显示面板的出光效率，限定发光功能层202的下表面至所述阵列基板100的厚度在水平方向上高于第一像素定义子层301的厚度，发光功能层202的整体在水平方向上都高于第一像素定义子层301，发光功能层202发出的光束全部会从第二像素定义子层302的侧边进入第二像素定义子层302中，进而很大程度上减少了光束直接穿过第一像素定义子层301的损失。
可以理解的是，第一像素定义子层301的厚度应尽可能薄，避免发光功能层202的光束从其侧边射入；优选地，第一像素定义子层的厚度大约为5um。
所述第一像素定义子层301和所述第二像素定义子层302的材质均为有机光阻材料。显示面板领域中常用有机光阻材料蚀刻图案，所述像素定义层300选用有机光阻材料，通过曝光显影技术制备所需的像素定义层300结构；所述像素定义层300使用的光阻材料包括聚酰亚胺、亚克力、酚醛树脂基等材料中的至少一种。
在一些实施例中，所述第二像素定义子层302的折射率与所述第一像素定义子层301的折射率的差值为0.5。基于光的全反射理论，光线以临界角从光密介质射入光疏介质后发生全反射现象；第二像素定义子层302的折射率与所述第一像素定义子层301的折射率的差值范围也可根据实际需求而适应性调整。
本发明实施例提供一种显示面板的制备方法，如图3A-3E、图4所示，所述方法包括：
步骤S10：提供一阵列基板100，在所述阵列基板100上形成像素定义层300，所述像素定义层300包括在所述阵列基板100上形成第一像素定义子层301和在所述第一像素定义子层301上形成第二像素定义子层302；
在所述像素定义层300定义像素开口区400，在所述像素开口区400内形成设于所述阵列基板上的有机发光层200；
所述第二像素定义子层302的折射率大于所述第一像素定义子层301的折射率。
步骤S20：所述在所述像素开口区400内形成设于所述阵列基板100上的有机发光层200的步骤包括：在所述阵列基板100上形成阳极层201，在所述阳极层201上形成发光功能层202，在所述发光功能层202上形成阴极层203；
所述发光功能层202的上表面至所述阵列基板100的厚度大于所述第一像素定义子层301的厚度；所述发光功能层202的下表面至所述阵列基板100的厚度大于所述第一像素定义子层301的厚度。
可以理解的是，像素定义层300包括设置于所述阵列基板100上的第一像素定义子层301和设置于所述第一像素定义子层301上的第二像素定义子层302，在原像素定义层结构的基础上，增加了第一像素定义子层301结构，同时所述第一像素定义子层301的材料的折射率要低于原像素定义层材料的折射率，即所述第二像素定义子层302的折射率大于所述第一像素定义子层301的折射率。所述发光功能层202的上表面至所述阵列基板100的厚度大于所述第一像素定义子层301的厚度，发光功能层202的下表面至所述阵列基板100的厚度在水平方向上高于第一像素定义子层301的厚度，发光功能层202的整体在水平方向上都高于第一像素定义子层301，发光功能层202发出的光束全部会从第二像素定义子层302的侧边进入第二像素定义子层302中。当在像素开口区400内的有机发光层200发出的光束射入第二像素定义子层302时，由于光的全反射理论，光束从第二像素定义子层302射向第一像素定义子层301时，部分大于临界角的光束会在第二像素定义子层302与第一像素定义子层301的层间界面处发生全反射现象，该部分光束不会透过第一像素定义子层301而射向下方的阵列基板100，并且该部分光束在第二像素定义子层302中经过多次反射后改变方向，最后向像素定义层300的上方射出，有效提高了显示面板的出光效率。
步骤S30：所述第二像素定义子层302的折射率与所述第一像素定义子层301的折射率的差值为0.5。基于光的全反射理论，光线以临界角从光密介质射入光疏介质后发生全反射现象；第二像素定义子层302的折射率与所述第一像素定义子层301的折射率的差值范围也可根据实际需求而适应性调整。
本发明实施例提供一种显示装置，包括如前述任一实施例中所述的显示面板。所述显示面板的具体结构请参考如前任一实施例中所述的阵列基板的实施例及图1-2B，在此不再赘述。
本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，本发明的具体实施例中像素定义层的不同折射率的双介质层结构，利用了光的全反射理论，有机发光层发出的光在像素定义层的不同介质层间传播，其中大于临界角的部分光线会发生全反射现象，并且在像素定义层中经多次反射向上射出，有效提高显示面板的出光效率。
本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的像素定义层和有机发光层、以及通过所述像素定义层定义的像素开口区，所述有机发光层设置于所述像素开口区内；
所述像素定义层包括设置于所述阵列基板上的第一像素定义子层和设置于所述第一像素定义子层上的第二像素定义子层，所述第二像素定义子层的折射率大于所述第一像素定义子层的折射率；
所述有机发光层包括设置于所述阵列基板上的阳极层，设置于所述阳极层上的发光功能层，及设置于所述发光功能层上的阴极层；
所述发光功能层的上表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度，发光功能层发出的光束部分会从所述第二像素定义子层的侧边进入所述第二像素定义子层中，光束从所述第二像素定义子层射向所述第一像素定义子层时，部分大于临界角的光束会在所述第二像素定义子层与所述第一像素定义子层的层界面处发生全反射现象。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光功能层的下表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义子层和所述第二像素定义子层的材质均为有机光阻材料。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素定义子层的折射率与所述第一像素定义子层的折射率的差值为0.5。
5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一阵列基板，在所述阵列基板上形成像素定义层，所述像素定义层包括在所述阵列基板上形成第一像素定义子层和在所述第一像素定义子层上形成第二像素定义子层；
在所述像素定义层定义像素开口区，在所述像素开口区内形成设于所述阵列基板上的有机发光层；
所述第二像素定义子层的折射率大于所述第一像素定义子层的折射率；
在所述阵列基板上形成阳极层，在所述阳极层上形成发光功能层，在所述发光功能层上形成阴极层；
所述发光功能层的上表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度，发光功能层发出的光束部分会从所述第二像素定义子层的侧边进入所述第二像素定义子层中，光束从所述第二像素定义子层射向所述第一像素定义子层时，部分大于临界角的光束会在所述第二像素定义子层与所述第一像素定义子层的层界面处发生全反射现象。
6.如权利要求5所述的一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述发光功能层的下表面至所述阵列基板的厚度大于所述第一像素定义子层的厚度。
7.如权利要求6所述的一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二像素定义子层的折射率与所述第一像素定义子层的折射率的差值为0.5。
8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的显示面板。
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