CN111954796B - 电磁波检测装置以及信息获取*** - Google Patents
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Abstract
电磁波检测装置(10)具有分离部(16)、第一检测部(17)、行进部(18)、第二检测部(20)、以及遮断部(21)。分离部(16)使沿第一方向(d1)行进的电磁波以沿第二方向(d2)和第三方向(d3)行进的方式分离。第一检测部(17)检测沿第二方向(d2)行进的电磁波。行进部(18)具有沿着基准面(ss)设置的多个像素(px)。行进部(18)针对每个像素(px)使向第三方向(d3)行进而入射至基准面(ss)的电磁波的行进方向切换为第四方向(d4)和第五方向(d5)。第二检测部(20)检测沿第四方向(d4)行进的电磁波。遮断部(21)遮断向第五方向(d5)行进的电磁波中的至少一部分。
Description
相关申请的相互参照
本申请主张2018年4月13日在日本申请的日本特愿2018-77530的优先权,并将该在先申请的公开全部内容引入本申请用于参照。
技术领域
本发明涉及一种电磁波检测装置以及信息获取***。
背景技术
近年来,开发了一种根据检测电磁波的多个检测器的检测结果来获取与周围相关的信息的装置。例如,已知一种使用激光雷达来测定利用红外线照相机拍摄到的图像中的物体的位置的装置(参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-220732号公报
发明内容
第一技术方案的电磁波检测装置,
具有:
分离部,使沿第一方向行进的电磁波分离,并使该电磁波沿第二方向和第三方向行进;
第一检测部,检测沿所述第二方向行进的所述电磁波;
行进部,沿着基准面配置有多个像素,针对每个所述像素使向所述第三方向行进而入射至所述基准面的电磁波的行进方向切换为第四方向和第五方向;
第二检测部,检测沿所述第四方向行进的电磁波;以及
遮断部,遮断向所述第五方向行进的电磁波中的至少一部分。
另外,第二技术方案的信息获取***,
具有:
电磁波检测装置,具有:分离部,使沿第一方向行进的电磁波分离,并使该电磁波沿第二方向和第三方向行进;第一检测部,检测沿所述第二方向行进的所述电磁波;行进部,沿着基准面配置有多个像素,针对每个所述像素使向所述第三方向行进而入射至所述基准面的电磁波的行进方向切换为第四方向和第五方向;第二检测部,检测沿所述第四方向行进的电磁波;以及遮断部,遮断向所述第五方向行进的电磁波中的至少一部分;以及
控制部,基于所述第一检测部和所述第二检测部的电磁波的检测结果,获取与周围相关的信息。
附图说明
图1是表示包括表示第一实施方式的电磁波检测装置的信息获取***的概略结构的结构图。
图2是表示图1的电磁波检测装置的概略结构的结构图。
图3是用于说明图2的行进部中的像素在第一状态和第二状态下的电磁波的行进方向的电磁波检测装置的状态图。
图4是用于说明由图1的放射部、第二检测部、以及控制部14构成的测距传感器的测距原理的电磁波的放射时刻和检测时刻的时序图。
图5是表示第二实施方式的电磁波检测装置的概略结构的结构图。
图6是表示第一实施方式的电磁波检测装置的变形例的概略结构的结构图。
具体实施方式
以下,参照附图对应用了本发明的电磁波检测装置的实施方式进行说明。在利用检测电磁波的多个检测器来检测电磁波的结构中,从向装置的电磁波中,在各检测器中以作为检测对象而被分配的波段的电磁波入射至各个检测器的方式形成光学***。此时,有时被分配的波段以外的电磁波入射至各检测部中的至少任一个检测部,有时会使电磁波的检测精度下降。因此,应用了本发明的电磁波检测装置构成为对各检测部中的至少任一个检测部降低被分配的波段以外的电磁波的入射量,从而能够提高被分配至该检测部的波段的电磁波的检测精度。
如图1所示,包括本发明的第一实施方式的电磁波检测装置10的信息获取***11包括电磁波检测装置10、放射部12、扫描部13、以及控制部14。
在之后的图中,连结各功能块的虚线表示控制信号或者通信的信息的流动。虚线所示的通信可以是有线通信,也可以是无线通信。另外,从各功能块突出的实线表示波束状的电磁波。
如图2所示,电磁波检测装置10具有前段光学***15、分离部16、第一检测部17、行进部18、后段光学***19、第二检测部20、以及遮断部21。
前段光学***15包括例如透镜以及反光镜中的至少一方,并使作为被拍摄体的对象ob的像成像。
分离部16设置在前段光学***15与一次成像位置之间,该一次成像位置是通过前段光学***15对与前段光学***15隔开规定的距离的对象ob的像进行成像的成像位置。
分离部16使沿第一方向d1行进的电磁波分离,以使其沿第二方向d2和第三方向d3行进的方式分离。第一方向d1例如可以与前段光学***15的光轴平行。分离部16可以使沿第一方向d1行进的电磁波的一部分沿第二方向d2行进,使电磁波的另一部分沿第三方向d3行进。沿第二方向d2行进的一部分电磁波可以是沿第一方向d1行进的电磁波中的特定波长的电磁波,沿第三方向d3行进的电磁波可以是其他波长的电磁波。
例如,具体而言,分离部16可以使可见光频带的电磁波沿第二方向d2行进,使红外频带的电磁波沿第三方向d3行进。相反地,分离部16也可以使红外频带的电磁波沿第二方向d2行进,使可见光频带的电磁波沿第三方向d3行进。另外,分离部16可以使长波长的电磁波沿第二方向d2行进,使短波长的电磁波沿第三方向d3行进。相反地,分离部16也可以使短波长的电磁波沿第二方向d2行进,使长波长的电磁波沿第三方向d3行进。
在第一实施方式中,分离部16使沿第一方向d1行进的电磁波的一部分向第二方向d2反射,使电磁波的另一部分向第三方向d3透过。分离部16也可以使沿第一方向d1行进的电磁波的一部分向第二方向d2透过,使电磁波的另一部分向第三方向d3透过。另外,分离部16也可以使沿第一方向d1行进的电磁波的一部分向第二方向d2折射,使电磁波的另一部分向第三方向d3折射。分离部16例如包括蒸镀于棱镜22的可见光反射涂层、半反光镜、分束器、分色镜、冷镜、热镜、超表面、以及偏转元件中的任一种。
第一检测部17设置在从分离部16向第二方向d2行进的电磁波的路径上。而且,第一检测部17设置在从分离部16在第二方向d2上的通过前段光学***15对与前段光学***15隔开规定的距离的对象ob的像进行成像的成像位置或该成像位置附近。第一检测部17检测从分离部16沿第二方向d2行进的电磁波。
在第一实施方式中,第一检测部17是无源传感器。在第一实施方式中,更具体而言,第一检测部17包括元件阵列。例如,第一检测部17包括图像传感器或成像阵列等的拍摄元件,对在检测面成像的电磁波的像进行拍摄,生成相当于拍摄的对象ob的图像信息。
此外,在第一实施方式中,更具体而言,第一检测部17对可见光的像进行拍摄。第一检测部17将所生成的图像信息作为信号向控制部14发送。
此外,第一检测部17也可以对红外线、紫外线、以及电波的像等可见光以外的像进行拍摄。另外,第一检测部17也可以包括测距传感器。在该结构中,电磁波检测装置10能够通过第一检测部17获取图像状的距离信息。另外,第一检测部17也可以包括热传感器等。在该结构中,电磁波检测装置10能够通过第一检测部17获取图像状的温度信息。
行进部18设置在从分离部16向第三方向d3行进的电磁波的路径上。而且,行进部18设置在从分离部16在第三方向d3上通过前段光学***15对与前段光学***15隔开规定的距离的对象ob的像进行一次成像的一次成像位置或该一次成像位置附近。
在第一实施方式中,行进部18设置在该成像位置。行进部18具有供通过了前段光学***15和分离部16的电磁波入射的基准面ss。基准面ss由沿着二维状地配置的多个像素px构成。基准面ss是在后述的第一状态以及第二状态中的至少任一状态下,使电磁波产生例如反射以及透过等作用的面。
行进部18能够使每个像素px在使沿第三方向d3行进并入射至基准面ss的电磁波沿第四方向d4行进的第一状态和沿第五方向d5行进的第二状态之间进行切换。在第一实施方式中,第一状态是使入射至基准面ss的电磁波向第四方向d4反射的第一反射状态。另外,第二状态是使入射至基准面ss的电磁波向第五方向d5反射的第二反射状态。
在第一实施方式中,更具体而言,行进部18的每个像素px包括反射电磁波的反射面。行进部18通过变更每个像素px的反射面的朝向,使每个像素px在第一反射状态和第二反射状态之间切换。
在第一实施方式中,行进部18包括例如DMD(Digital Micro mirror Device:数字微镜器件)。DMD通过驱动构成基准面ss的微小的反射面,从而能够将每个像素px的该反射面切换为相对于基准面ss倾斜+12°以及-12°的任一倾斜状态。此外,基准面ss与DMD中的载置微小的反射面的基板的板面平行。
行进部18基于后述的控制部14的控制,使每个像素px切换第一状态以及第二状态。例如,如图3所示,行进部18能够同时地通过将一部分的像素px1切换为第一状态,使入射至该像素px1的电磁波沿第四方向d4行进,通过将另一部分的像素px2切换为第二状态,使入射至该像素px2的电磁波沿第五方向d5行进。
如图2所示,后段光学***19设置在从行进部18向第四方向d4行进的电磁波的路径上。后段光学***19例如包括透镜以及反光镜中的至少一方。后段光学***19使作为在行进部18中切换了行进方向的电磁波的对象ob的像成像。
第二检测部20配置在通过行进部18沿第四方向d4行进之后经由后段光学***19行进的电磁波的路径上。第二检测部20检测经由后段光学***19的电磁波,即沿第四方向d4行进的电磁波。
在第一实施方式中,第二检测部20是检测从放射部12朝向对象ob放射的电磁波的来自该对象ob的反射波的有源传感器。此外,在第一实施方式中,第二检测部20检测从放射部12放射且被扫描部13反射而朝向对象ob放射的电磁波的来自该对象ob的反射波。如后所述,从放射部12放射的电磁波是红外线、可见光线、紫外线、以及电波中的至少任一种,第二检测部20检测与第一检测部17不同种类或相同种类的电磁波。
在第一实施方式中,第二检测部20可以是与第一检测部17不同种类或相同种类的传感器。在第一实施方式中,更具体而言,第二检测部20包括构成测距传感器的元件。例如,第二检测部20包括APD(Avalanche Photo Diode:雪崩光电二极管)、PD(Photo Diode:光电二极管)、以及测距图像传感器等单一的元件。另外,第二检测部20也可以包括APD阵列、PD阵列、测距成像阵列、以及测距图像传感器等元件阵列。
在第一实施方式中,第二检测部20将表示检测到来自被拍摄体的反射波的检测信息作为信号发送至控制部14。更具体而言,第二检测部20检测红外线的频带的电磁波。
此外,在第二检测部20是构成上述的测距传感器的单一的元件的结构中,只要能够检测电磁波即可,不需要在检测面成像。因此,第二检测部20也可以不设置在通过后段光学***19进行成像的成像位置即二次成像位置。即,在该结构中,只要是来自全部视角的电磁波能够入射到检测面上的位置,则第二检测部20也可以配置在通过行进部18沿第四方向d4行进后经由后段光学***19行进的电磁波的路径上的任意位置。
遮断部21例如可以设置在从行进部18向第五方向d5行进的电磁波的路径上,遮断沿第五方向d5行进的电磁波的至少一部分。遮断部21也可以设置在沿第五方向d5行进的电磁波的从行进部18至第一检测部17的路径上。遮断部21也可以配置在从分离部16向第二方向d2行进的电磁波的路径外。
遮断部21通过吸收、反射、或散射进行遮断从行进部18沿第五方向d5行进的电磁波中的至少一部分向第一检测部17行进。在分离部16使特定波长的电磁波沿第二方向d2行进且使其他波长的电磁波沿第三方向d3行进的结构中,遮断部21可以遮断与沿第二方向d2行进的电磁波不同波长的电磁波。另外,在该结构中,遮断部21可以仅遮断与沿第二方向d2行进的电磁波不同波长的电磁波。另外,在该结构中,遮断部21可以使与沿第二方向d2行进的电磁波相同波长的电磁波透过或折射。另外,在该结构中,遮断部21可以仅使与沿第二方向d2行进的电磁波相同波长的电磁波透过或折射。
在图1中,放射部12放射红外线、可见光线、紫外线、以及电波中的至少任一种。在第一实施方式中,放射部12放射红外线。放射部12将放射的电磁波直接或经由扫描部13间接地向对象ob放射。在第一实施方式中,放射部12将放射的电磁波经由扫描部13间接地向对象ob放射。
在第一实施方式中,放射部12放射宽度细例如0.5°的波束状的电磁波。另外,在第一实施方式中,放射部12能够脉冲状地放射电磁波。例如,放射部12包括LED(LightEmitting Diode:发光二极管)以及LD(Laser Diode:激光二极管)等。放射部12基于后述的控制部14的控制,对电磁波的放射以及停止进行切换。
扫描部13例如具有反射电磁波的反射面,通过一边变更反射面的朝向一边反射从放射部12放射的电磁波,来变更向对象ob照射的电磁波的放射位置。即,扫描部13利用从放射部12放射的电磁波来扫描对象ob。因此,在第一实施方式中,第二检测部20与扫描部13协作构成扫描型的测距传感器。此外,扫描部13沿一维方向或二维方向扫描对象ob。在第一实施方式中,扫描部13沿二维方向扫描对象ob。
扫描部13构成为,使从放射部12放射并反射的电磁波的照射区域的至少一部分包含于电磁波检测装置10中的电磁波的检测范围。因此,能够在电磁波检测装置10中检测经由扫描部13照射于对象ob的电磁波中的至少一部分。
此外,在第一实施方式中,扫描部13构成为,使从放射部12放射并被扫描部13反射的电磁波的放射区域中的至少一部分包含于第二检测部20中的检测范围。因此,在第一实施方式中,能够通过第二检测部20检测经由扫描部13照射于对象ob的电磁波中的至少一部分。
扫描部13例如包括MEMS(Micro Electro Mechanical Systems:微机电***)反光镜、多面镜、以及电流镜等。在第一实施方式中,扫描部13包括MEMS镜。
扫描部13基于后述的控制部14的控制,来改变反射电磁波的朝向。另外,扫描部13可以具有例如编码器等的角度传感器,也可以将角度传感器所检测的角度作为反射电磁波的方向信息,向控制部14通知。在这样的结构中,控制部14基于从扫描部13获取的方向信息,能够计算放射位置。另外,控制部14基于为了改变反射电磁波的朝向而向扫描部13输入的驱动信号,能够计算放射位置。
控制部14包括一个以上的处理器以及存储器。处理器可以包括读取特定的程序并执行特定的功能的通用的处理器以及专用进行特定的处理的专用的处理器中的至少一个。专用的处理器可以包括面向特定用途IC(ASIC:Application Specific IntegratedCircuit)。处理器可以包括可编程逻辑设备(PLD:Programmable Logic Device)。PLD也可以包括FPGA(Field-Programmable Gate Array:现场可编程门阵列)。控制部14可以包括一个或者多个处理器协同动作的SoC(System-on-a-Chip:片上***)以及SiP(System In aPackage:***级封装)中的至少一个。
控制部14基于第一检测部17以及第二检测部20分别检测出的电磁波,来获取与电磁波检测装置10的周围相关的信息。与周围相关的信息例如是图像信息、距离信息、以及温度信息等。在第一实施方式中,如上所述,控制部14获取第一检测部17作为图像检测出的电磁波作为图像信息。另外,在第一实施方式中,控制部14基于第二检测部20所检测的检测信息,如下所述,通过ToF(Time-of-Flight)方式,来获取放射部12所照射的照射位置的距离信息。
如图4所示,控制部14通过将电磁波放射信号向放射部12输入,使放射部12放射脉冲状的电磁波(参照“电磁波放射信号”栏)。放射部12基于输入的该电磁波放射信号来放射电磁波(参照“放射部放射量”栏)。放射部12放射且由扫描部13反射而放射于任意的放射区域的电磁波在该放射区域反射。控制部14将该放射区域的反射波的基于前段光学***15在行进部18中的成像区域中的至少一部分的像素px切换为第一状态,将其他像素px切换为第二状态。然后,如上所述,第二检测部20在该放射区域检测到反射的电磁波时(参照“电磁波检测量”栏),将检测信息向控制部14通知。
控制部14具有例如时间测量LSI(Large Scale Integrated circuit:大规模集成电路),测量从使放射部12放射电磁波的时刻T1开始到获取到检测信息(参照“检测信息获取”栏)的时刻T2为止的时间ΔT。控制部14通过将光速乘以该时间ΔT并除以2,来计算到放射位置为止的距离。此外,如上所述,控制部14基于从扫描部13获取的方向信息或者自身向扫描部13输出的驱动信号,来计算放射位置。控制部14通过一边改变放射位置一边计算到各放射位置的距离,生成图像状的距离信息。
此外,在第一实施方式中,如上所述,信息获取***11是通过放射激光而直接测量到返回为止的时间的Direct ToF方式来生成距离信息的结构。但是,信息获取***11并不限于这样的结构。例如,信息获取***11也可以通过以恒定的周期放射电磁波,并根据放射的电磁波与返回的电磁波之间的相位差,间接地测量到返回为止的时间的Flash ToF方式,生成距离信息。另外,信息获取***11也可以通过其他的ToF方式,例如Phased ToF方式,来生成距离信息。
以上那样的结构的第一实施方式的电磁波检测装置10具有遮断部21,该遮断部21用于遮断由分离部16沿第三方向d3行进并由行进部18沿第五方向d5行进的电磁波中的至少一部分。通过这样的结构,电磁波检测装置10能够减少作为检测对象分配给第一检测部17的波段以外的电磁波向第一检测部17的入射量。因此,电磁波检测装置10能够提高分配给第一检测部17的波段的电磁波的检测精度。此外,这样的结构和效果在后述的第二实施方式的电磁波检测装置中也相同。
另外,第一实施方式的电磁波检测装置10能够将沿第一方向d1行进的电磁波以向第二方向d2和第三方向d3行进的方式分离,并且能够使沿第三方向d3行进的电磁波的行进方向切换为第四方向d4。通过这样的结构,电磁波检测装置10能够使前段光学***15的光轴与沿第二方向d2行进的电磁波的中心轴一致,并且能够使前段光学***15的光轴与沿第四方向d4行进的电磁波的中心轴一致。因此,电磁波检测装置10能够降低第一检测部17以及第二检测部20的光轴的偏移。由此,电磁波检测装置10能够降低通过第一检测部17以及第二检测部20各自的检测面的中心且与该检测面垂直的轴的偏移。因此,电磁波检测装置10能够降低第一检测部17以及第二检测部20的检测结果中的坐标系的偏移。此外,这样的结构和效果在后述的第二实施方式的电磁波检测装置中也相同。
另外,第一实施方式的电磁波检测装置10能够将行进部18中的一部分的像素px切换为第一状态,并且将另一部分的像素px切换为第二状态。通过这样的结构,电磁波检测装置10能够用第二检测部20检测基于射出向各像素px入射的电磁波的对象ob的每个部分的电磁波的信息。此外,这样的结构和效果在后述的第二实施方式的电磁波检测装置中也相同。
接着,对本发明的第二实施方式的电磁波检测装置进行说明。在第二实施方式中,遮断部的配置与第一实施方式不同。以下,以与第一实施方式不同的点为中心对第二实施方式进行说明。此外,对具有与第一实施方式相同的结构的部位标注相同的附图标记。
如图5所示,第二实施方式的电磁波检测装置100具有前段光学***15、分离部16、第一检测部17、行进部18、后段光学***19、第二检测部20、以及遮断部210。此外,第二实施方式的信息获取***11中的电磁波检测装置100以外的结构与第一实施方式相同。第二实施方式中的前段光学***15、分离部16、第一检测部17、行进部18、后段光学***19、以及第二检测部20的结构以及功能与第一实施方式相同。此外,在第二实施方式中,分离部16使特定波长的电磁波沿第二方向d2行进,使其他波长的电磁波沿第三方向d3行进。
在第二实施方式中,遮断部210例如以覆盖第一检测部17的检测面的方式,配置在从分离部16向第二方向d2行进的电磁波的路径上且从行进部18向第五方向d5行进的电磁波的路径上。遮断部210遮断从行进部18向第五方向d5行进的电磁波中的至少一部分。
遮断部210与第一实施方式类似,通过吸收、反射、或散射遮断从行进部18向第五方向d5行进的电磁波中的至少一部分朝向第一检测部17的行进。遮断部210仅遮断与沿第二方向d2行进的电磁波不同波长的电磁波。另外,遮断部210仅使与向第二方向d2行进的电磁波相同波长的电磁波透过或折射。
如上所述,在第二实施方式的电磁波检测装置100中,以覆盖第一检测部17的检测面的方式配置有遮断部210。通过这样的结构,电磁波检测装置100能够进一步降低作为检测对象分配给第一检测部17的波段以外的电磁波向第一检测部17的入射量。因此,电磁波检测装置100能够进一步提高分配给第一检测部17的波段的电磁波的检测精度。
虽然基于各附图以及实施例对本发明进行了说明,但是应该注意的是,本领域技术人员基于本发明能够容易地进行各种的变形以及修改。因此,需要注意的是,此类的变形以及修改均包含于本发明的范围。
例如,在第一实施方式和第二实施方式中,放射部12、扫描部13、以及控制部14与电磁波检测装置10、100一起构成信息获取***11,但电磁波检测装置10、100也可以包括这些中的至少一个。
另外,第一实施方式和第二实施方式中,行进部18能够将入射至基准面ss的电磁波的行进方向在两个方向上进行切换,但也可以不切换为两个方向中的任一个方向,而在三个以上的方向上进行切换。
另外,在第一实施方式的行进部18中,第一状态以及第二状态分别是使入射至基准面ss的电磁波向第四方向d4反射的第一反射状态以及向第五方向d5反射的第二反射状态,但也可以是其他方式。
例如,如图6所示,第一状态也可以是使入射至基准面ss的电磁波透过而向第四方向d4行进的透过状态。更具体而言,行进部181在每个像素px上也可以具有快门,该快门具有使电磁波向第五方向d5反射的反射面。在这样的结构的行进部181中,通过开闭每个像素px的快门,能够使每个像素px在作为第一状态的透过状态以及作为第二状态的反射状态之间进行切换。
作为这种结构的行进部181,例如可举例包括能够开闭的多个快门阵列状地排列的MEMS快门的行进部。另外,作为行进部181可举例包括液晶快门的行进部,该液晶快门能够根据液晶取向在反射电磁波的反射状态与使电磁波透过的透过状态之间进行切换。在这样的结构的行进部181中,通过切换每个像素px的液晶取向,能够使每个像素px在作为第一状态的透过状态以及作为第二状态的反射状态之间进行切换。
另外,在第一实施方式和第二实施方式中,信息获取***11具有如下结构:通过使扫描部13扫描从放射部12放射的波束状的电磁波,使第二检测部20与扫描部13协作而作为扫描型的有源传感器发挥功能。但是,信息获取***11并不限定于这样的结构。例如,在具有能够放射放射状的电磁波的多个放射源的放射部12中,通过一边错开放射时刻一边使电磁波从各放射源放射的相位扫描方式(phased scanning),即使在不具有扫描部13而作为扫描型的有源传感器发挥功能的结构中,也能够获取与第一实施方式和第二实施方式类似的效果。另外,例如,即使信息获取***11是不具有扫描部13,而从放射部12使放射状的电磁波放射,并且无扫描地获取信息的结构,也能够获取与第一实施方式类似的效果。
另外,在第一实施方式和第二实施方式中,信息获取***11具有如下结构:第一检测部17是无源传感器,第二检测部20是有源传感器。但是,信息获取***11并不限定于这样的结构。例如,在信息获取***11中,即使是第一检测部17和第二检测部20均为有源传感器的结构,或者是均为无源传感器的结构,也能够获取与第一实施方式类似的效果。在第一检测部17和第二检测部20均为有源传感器的结构中,向对象ob放射电磁波的放射部12可以不同,也可以相同。而且,不同的放射部12可以分别放射不同种类或者相同种类的电磁波。
此外,这里应当注意的是,公开了一种具有执行特定的功能的各种模块和/或单元的***,示意性地示出了这些模块以及单元以用于简略地说明其功能性,并不一定示出特定的硬件和/或软件。在该意义上,这些模块、单元、其他结构构件只要是以实质地执行这里所描述的特定的功能的方式安装的硬件和/或软件即可。不同的结构构件的各种功能可以是硬件和/或软件任何的组合或分离的而成的,并且能够分别单独使用或者通过任意的组合来使用。另外,包括但不限于键盘、显示器、触屏、定点设备等输入/输出或者I/O设备或者用户接口能够直接或者经由中间的I/O控制器与***连接。这样,本发明内容的各个方面能够以多个不同的方式实施,这些方式均包含于本发明的内容的范围。
附图标记的说明:
10、100 电磁波检测装置
11 信息获取***
12 放射部
13 扫描部
14 控制部
15 前段光学***
16 分离部
17 第一检测部
18、181 行进部
19 后段光学***
20 第二检测部
21、210 遮断部
22 棱镜
d1、d2、d3、d4、d5 第一方向、第二方向、第三方向、第四方向、第五方向
ob 对象
px 像素
ss 基准面
Claims (8)
1.一种电磁波检测装置,其中,
具有:
放射部,放射红外线,
分离部,使包含所述放射部放射的红外线被对象反射的反射波的电磁波分离,并使该电磁波沿第二方向和第三方向行进;
第一检测部,检测沿所述第二方向行进的所述电磁波;
行进部,沿着基准面配置有多个像素,针对每个所述像素使向所述第三方向行进而入射至所述基准面的电磁波的行进方向切换为第四方向和第五方向;
第二检测部,检测沿所述第四方向行进的电磁波;以及
遮断部,遮断向所述第五方向行进的电磁波中的至少一部分,
所述第一检测部相对于所述行进部配置在所述第五方向上,
所述分离部使可见光向所述第二方向行进,使所述红外线向所述第三方向行进,
所述行进部使入射的电磁波中的所述反射波向所述第四方向行进,
所述遮断部相对于所述行进部配置在所述第五方向上且配置在所述行进部与所述第一检测部之间,
所述第一检测部是检测可见光的图像传感器,
所述第二检测部检测红外线,构成测距传感器。
2.如权利要求1所述的电磁波检测装置,其中,
所述遮断部吸收、反射向所述第五方向行进的电磁波中的至少一部分,或者使向所述第五方向行进的电磁波中的至少一部分散射。
3.如权利要求1所述的电磁波检测装置,其中,
所述遮断部遮断与向所述第二方向行进的电磁波的波长不同的波长的电磁波。
4.如权利要求1所述的电磁波检测装置,其中,
所述遮断部遮断与向所述第二方向行进的电磁波的波长不同的波长的电磁波。
5.如权利要求1所述的电磁波检测装置,其中,
所述第一检测部相对于所述分离部配置在第二方向上,
所述遮断部相对于所述分离部配置在第二方向上且配置在所述第一检测部与所述分离部之间,所述遮断部使向所述第二方向行进的电磁波向所述第一检测部行进,并且遮断向所述第五方向行进的电磁波向所述第一检测部的行进。
6.如权利要求1所述的电磁波检测装置,其中,
所述遮断部覆盖所述第一检测部的检测面。
7.如权利要求6所述的电磁波检测装置,其中,
所述电磁波检测装置具有光学***,所述光学***使向第一方向行进的电磁波在所述行进部以及所述第一检测部上成像。
8.一种信息获取***,其中,
具有:
权利要求1至7中任一项所述的电磁波检测装置;以及
控制部,基于所述第一检测部和所述第二检测部的电磁波的检测结果,获取与周围相关的信息。
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