CN111785854A - 一种显示面板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置，显示面板，包括：衬底基板，多个第一电极，像素定义层，第二电极，发光层，以及多个光敏检测单元；像素定义层，包括：分别暴露各第一电极的多个第一开口，以及分别与各光敏检测单元对应的多个第二开口；第二电极，包括：分别与各第二开口对应的多个第三开口；第三开口在衬底基板上的正投影与对应的光敏检测单元在衬底基板上的正投影具有交叠区域。通过在像素定义层中设置多个第二开口，在第二电极中设置对个第三开口，从而使手指的反射光直接穿过第三开口和第二开***向光敏检测单元，减少反射光的损失，增大射向光敏检测单元的光线的强度，提高指纹识别精度。

Description

一种显示面板、其制作方法及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。

背景技术

随着显示技术的飞速发展，有机电致发光(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示器除了传统的信息展示等作用外，指纹识别功能逐渐成为显示器的标配，并且，在外形上的要求也在逐步提升，更大屏占比是未来市场的趋势，因而，屏内指纹识别技术备受消费者青睐。

然而，对于屏内指纹识别的显示器，手指的反射光需要经过阴极等膜层，才能射向感光传感器，反射光经过阴极等膜层至少损失一半光线，导致射向感光传感器的光线较少，指纹识别效果较差。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决相关技术中存在的指纹识别效果较差的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的多个第一电极，位于所述第一电极背离所述衬底基板一侧的像素定义层，位于所述像素定义层背离所述衬底基板一侧的第二电极，位于所述第一电极与所述第二电极之间的发光层，以及位于所述发光层背离所述第二电极一侧的多个光敏检测单元；

所述像素定义层，包括：分别暴露各所述第一电极的多个第一开口，以及分别与各所述光敏检测单元对应的多个第二开口；

所述第二电极，包括：分别与各所述第二开口对应的多个第三开口；

所述第三开口在所述衬底基板上的正投影与对应的所述光敏检测单元在所述衬底基板上的正投影具有交叠区域。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，所述第二电极覆盖所述第二开口的侧壁；

在所述衬底基板指向所述发光层的方向上，所述第二开口在平行于所述衬底基板方向上的截面面积逐渐增大。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，还包括：位于所述像素定义层与所述第二电极之间的多个支撑结构；

所述支撑结构包括与所述第二开口对应的第四开口；

所述第二电极覆盖所述第四开口的侧壁；

在所述衬底基板指向所述发光层的方向上，所述第四开口在平行于所述衬底基板方向上的截面面积逐渐增大。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，第一倾斜角大于或等于第二倾斜角；

所述第一倾斜角为所述第二开口的侧壁与所述像素定义层的底面之间的夹角；所述像素定义层的底面为所述像素定义层靠近所述衬底基板一侧的表面；

所述第二倾斜角为所述第四开口的侧壁与所述像素定义层的顶面之间的夹角；所述像素定义层的顶面为所述像素定义层远离所述衬底基板一侧的表面。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，所述第一倾斜角大于或等于45°且小于90°；

所述第二倾斜角大于或等于15°且小于或等于45°。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，所述第二开口的侧壁为平面或弧面；

所述第四开口的侧壁为平面或弧面。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，所述像素定义层包括不透光的材料。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，还包括：位于所述第一电极靠近衬底基板一侧的平坦层；

所述光敏检测单元位于所述衬底基板与所述平坦层之间。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的显示面板中，还包括：位于所述发光层与所述第二电极之间的有机抑制层；

所述有机抑制层，包括：分别与各所述光敏检测单元对应的多个有机抑制单元。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。

第三方面，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法，包括：

在衬底基板之上形成多个光敏检测单元以及多个第一电极；

在所述第一电极所在膜层之上形成像素定义层，并对所述像素定义层进行图形化，得到多个第一开口和多个第二开口；

在所述像素定义层之上形成发光层；

在所述发光层之上形成图案化的第二电极，以得到多个第三开口。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的制作方法中，所述在所述发光层之上形成图案化的第二电极，以得到多个第三开口，包括：

采用掩膜版对除各所述光敏检测单元外的位置进行遮挡，在所述发光层之上蒸镀一层有机抑制层；所述有机抑制层用于抑制所述第二电极成膜；

在所述有机抑制层之上蒸镀所述第二电极，以形成图形化的所述第二电极。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，显示面板，包括：衬底基板，位于衬底基板之上的多个第一电极，位于第一电极背离衬底基板一侧的像素定义层，位于像素定义层背离衬底基板一侧的第二电极，位于第一电极与第二电极之间的发光层，以及位于发光层背离第二电极一侧的多个光敏检测单元；像素定义层，包括：分别暴露各第一电极的多个第一开口，以及分别与各光敏检测单元对应的多个第二开口；第二电极，包括：分别与各第二开口对应的多个第三开口；第三开口在衬底基板上的正投影与对应的光敏检测单元在衬底基板上的正投影具有交叠区域。通过在像素定义层中设置多个第二开口，在第二电极中设置对个第三开口，从而使手指的反射光直接穿过第三开口和第二开***向光敏检测单元，减少反射光的损失，增大射向光敏检测单元的光线的强度，提高指纹识别精度。

附图说明

图1为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图；

图2为图1中线段AA＇处的截面示意之一；

图3为第二电极在第二开口处形成的聚光器的局部示意图；

图4至图6为本发明实施例中第二电极在第二开口和第四开口处形成的聚光器的简化示意图；

图7为图1中线段AA＇处的截面示意之二；

图8为图1中线段AA＇处的截面示意之三；

图9为本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法流程图；

图10至图14为本发明实施例提供的制作方法中各步骤对应的结构示意图。

具体实施方式

针对相关技术中存在的指纹识别效果较差的问题，本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。

下面结合附图，对本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，图1为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图，图2为图1中线段AA＇处的截面示意图，如图1和图2所示，包括：衬底基板10，位于衬底基板10之上的多个第一电极11，位于第一电极11背离衬底基板10一侧的像素定义层12，位于像素定义层12背离衬底基板10一侧的第二电极13，位于第一电极11与第二电极13之间的发光层14，以及位于发光层14背离第二电极13一侧的多个光敏检测单元15；

像素定义层12，包括：分别暴露各第一电极11的多个第一开口U1，以及分别与各光敏检测单元15对应的多个第二开口U2；

第二电极13，包括：分别与各第二开口U2对应的多个第三开口U3；

第三开口U3在衬底基板10上的正投影与对应的光敏检测单元15在衬底基板10上的正投影具有交叠区域。

本发明实施例提供的显示面板中，通过在像素定义层中设置分别与各光敏检测单元对应的多个第二开口，在第二电极中设置分别与各第二开口对应的对个第三开口，且第三开口在衬底基板上的正投影与对应的光敏检测单元在衬底基板上的正投影具有交叠区域，从而使手指的反射光直接穿过第三开口和第二开***向光敏检测单元，减少反射光的损失，增大射向光敏检测单元的光线的强度，提高指纹识别精度。

如图2所示，像素定义层12可以限定各子像素的区域，具体地，像素定义层12包括分别暴露各第一电极11的多个第一开口U1，从而使发光层14可以与第一电极11接触，通过第一电极11和第二电极13分别向发光层14提供载流子，以使发光层14发光。在实际应用中，发光层14可以包括分别与各第一开口U1对应的多个发光单元，或者发光层14也可以为整层设置，此处不做限定，此外，在第一电极11与第二电极13之间还可以设置空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层等功能层，功能层可以设置为分别与各第一开口U1对应的功能单元，或者功能层也可以整层设置，此处不做限定。

在本发明实施例中，上述第一电极11为阳极，第二电极13为阴极，或者，第一电极11为阴极，第二电极13为阳极，在本发明实施例中，均以第一电极11为阳极，第二电极13为阴极为例进行说明。在具体实施时，第一电极11可以采用氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)等透明导电氧化物制作，第二电极13可以采用银、镁等金属材料或合金制作。结合图1，第二电极13除各第三开口U3外的区域为整面设置。

如图1所示，可以将各光敏检测单元15设置在指纹识别区域C中，且光敏检测单元15位于子像素之间的非开口区域中，结合图2，当手指F指纹识别区域C中触摸时，发光层14发出的光线射向手指F，手指F的反射光通过第二电极13中的第三开口U3、像素定义层12中的第二开口U2，射向光敏检测单元15，由于手指F中谷和脊的反射光强度不同，从而可以通过检测各光敏检测单元15接收到的光线强度，得到手指F的指纹图案。本发明实施例中，通过在像素定义层12中设置多个第二开口U2，在第二电极13中设置多个第三开口U3，且第三开口U3在衬底基板10上的正投影与对应的光敏检测单元15在衬底基板10上的正投影具有交叠区域，使手指F的反射光可以通过第三开口U3、第二开口U2射向光敏检测单元15，无需穿过第二电极13和像素定义层12，可以减小手指F的反射光的损失，增大射向光敏检测单元15的光线的强度，提高指纹识别效果。

如图1所示，图中以指纹识别区域C设置在显示面板中靠下的位置处为例进行示意，在具体实施时，指纹识别区域C也可以设置在其他位置，此处不做限定，例如，指纹识别区域C也可以设置在显示面板中靠上的位置处，或者，指纹识别区域C也可以设置为与显示面板的显示区域一致，从而实现全屏指纹识别。

如图2所示，上述光敏检测单元15可以位于显示面板内部，即光敏检测单元15可以位于发光层14与衬底基板10之间，或者，光敏检测单元15也可以位于衬底基板10背离发光层14的一侧，在具体实施时，可以将多个光敏检测单元15制作在硅基衬底上，然后采用透明光学胶将硅基衬底贴附在衬底基板10背离发光层14的一侧。

进一步地，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图2所示，第二电极13覆盖第二开口U2的侧壁；

在衬底基板10指向发光层14的方向(如图中向上的方向)上，第二开口U2在平行于衬底基板10方向上的截面面积逐渐增大。

也就是说，第二开口U2为漏斗状，例如图2所示的截面图中，第二开口U2为倒梯形，由于第二电极13一般采用金属或合金材料制作，因而第二电极13具有较高的反射率，将第二电极13覆盖第二开口U2的侧壁，使第二电极13在第二开口U2处形成漏斗状的聚光器，因而，手指F的反射光通过聚光器反射至光敏检测单元15，从而扩大了光敏检测单元15的光接收范围，提高了光线的利用率，进一步提高了指纹识别精度，增强指纹识别效果。

图3为第二电极13在第二开口U2处形成的聚光器的局部示意图，从图3可以明显看出，手指F的反射光射向聚光器后，在聚光器内来回反射最终射向光敏检测单元，明显扩大了光敏检测单元的光接收范围。

更进一步地，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图2所示，还可以包括：位于像素定义层12与第二电极13之间的多个支撑结构16；

支撑结构16包括与第二开口U2对应的第四开口U4；

第二电极13覆盖第四开口U4的侧壁；

在衬底基板10指向发光层14的方向(如图中向上的方向)上，第四开口U4在平行于衬底基板10方向上的截面面积逐渐增大。

通过在像素定义层12与第二电极13之间设置支撑结构16，支撑结构16包括与第二开口U2对应的第四开口U4，参照图2，可以理解的是支撑结构16可以为环状结构，由于在衬底基板10指向发光层14的方向上，第四开口U4在平行于衬底基板10方向上的截面面积逐渐增大，将第二电极13设置为覆盖第四开口U4的侧壁，可以进一步增大聚光器的体积，也就是说，第二电极13覆盖第二开口U2和第四开口U4，可以形成一个更大的漏斗状的聚光器，因而，射向第四开口U4的侧壁和第二开口U2的侧壁位置处的反射光，都能够经反射最终射向光敏检测单元15，从而进一步提高了光敏检测单元15的光接收范围，进一步增强指纹识别效果。

在具体实施时，第四开口U4在平行于衬底基板10方向上的最小截面面积，可以大于或等于第二开口U2在平行于衬底基板10方向上的最大截面面积，并且，第四开口U4的侧壁的底部可以与第二开口U2的侧壁的顶部相接，以使形成的聚光器的内壁均为斜面，聚光效果更好。

在实际应用中，本发明实施例提供的上述显示面板中，还可以包括：位于像素定义层12与第二电极13之间的隔垫物18，在实际工艺过程中，可以将支撑结构16与隔垫物18采用同一次构图工艺制作，从而，可以节省一步制作工艺，节约制作成本。

具体地，本发明实施例提供的上述显示面板中，参照图2，第一倾斜角α大于或等于第二倾斜角β；

第一倾斜角α为第二开口U2的侧壁与像素定义层12的底面之间的夹角；像素定义层12的底面为像素定义层12靠近衬底基板10一侧的表面；

第二倾斜角β为第四开口U4的侧壁与像素定义层12的顶面之间的夹角；像素定义层12的顶面为像素定义层12远离衬底基板10一侧的表面。

因而，在衬底基板10指向发光层14的方向上，第二电极13在第二开口U2和第四开口U4处形成的聚光器的开口孔径逐渐增大，使聚光器的聚光效果较高。在工艺条件允许的情况下，第一倾斜角α的角度越大，聚光器的聚光效果越好，第二倾斜角β在保证聚光效果的前提下越小越好。

更具体地，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图2所示，第一倾斜角α大于或等于45°且小于90°；第二倾斜角β大于或等于15°且小于或等于45°，这样，可以满足第一倾斜角α大于或等于第二倾斜角β，保证聚光器的聚光效果较好，并且，可以保证工艺制作过程中，比较容易形成第二开口U2和第四开口U4，假如第一倾斜角较小，会导致第二倾斜角过小，而工艺上不容易形成。在具体实施时，可以采用感光材料制作像素定义层12和支撑结构16，并通过光刻工艺得到各第一开口U1、各第二开口U2及各第四开口U4，可以通过调整光刻工艺过程中的参数，来调整第一倾斜角α和第二倾斜角β的大小，例如可以调整曝光工艺中的光线强度或曝光时间等参数。

在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示面板中，参照图2，第二开口U2的侧壁为平面或弧面；

第四开口U4的侧壁为平面或弧面。

图4至图6为本发明实施例中第二电极在第二开口和第四开口处形成的聚光器的简化示意图，图中W1表示与第二开口U2对应的部分，图中W2表示与第四开口U4对应的部分，如图4所示，该聚光器对应的第二开口U2和第四开口U4的侧壁均为平面，如图5所示，该聚光器对应的第二开口U2和第四开口U4的侧壁均为平面，且第一倾斜角与第二倾斜角相等，如图6所示，该聚光器对应的第二开口U2的侧壁为平面，该聚光器对应的第四开口U4的侧壁为凹面，本发明实施例中，以图4至图6所示的聚光器的形状为例进行示意，在具体实施时，第二开口U2和第四开口U4的侧壁也可以为其他形状，此处不做限定。

在具体实施时，参照图2，在第二电极13背离衬底基板10的一侧，还可以设置封装层、彩膜层等膜层，发光层出射的光线中，一部分可以从显示面板的显示面射出，另一部分被膜层反射后会返回显示面板内部，形成干扰光，最终传输至光敏检测单元15，影响指纹识别效果。本发明实施例提供的上述显示面板中，上述像素定义层12可以包括不透光的材料，例如，可以采用黑色的感光高分子材料制作像素定义层12，从而，可以滤除反射回显示面板内部的干扰光，避免干扰光影响指纹识别效果，提高指纹检测的信噪比，并且，在工艺制作过程中，只需改变像素定义层12的制作材料，无需增加工艺步骤，从而不会增加工艺成本。

此外，也可以在像素定义层12与衬底基板10之间设置挡光层，并在挡光层中设置分别与各第二开口U2对应的开口，从而，可以使手指F的反射光射向光敏检测单元15，而被其他膜层反射回显示面板内部的干扰光无法通过挡光层，从而，可以避免干扰光影响指纹识别效果。

在实际应用中，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图7所示，还可以包括：位于第一电极11靠近衬底基板10一侧的平坦层17；

光敏检测单元15位于衬底基板10与平坦层17之间。

这样，可以通过平坦层17隔绝光敏检测单元15与第二电极13，保证光敏检测单元15与第二电极13绝缘，避免第二电极13与光敏检测单元15接触，而导致显示信号和指纹识别信号的异常。

在具体实施时，参照图2，光敏检测单元15位于平坦层17背离衬底基板10的一侧时，需使光敏检测单元15与第二电极13之间保持绝缘，例如，在工艺过程中，可以控制第二电极13的图形，使第二电极13不覆盖第二开口U2的底部。

具体地，上述光敏检测单元15可以为光敏二极管，即光敏检测单元15可以包括N型半导体层151、本征半导体层152、P型半导体层153。此外，上述显示面板，还可以包括：分别与各光敏检测单元15对应的多个透明电极19，分别与各光敏检测单元15对应的多个信号线L，以及控制电路；其中，透明电极19位于光敏检测单元15背离衬底基板10的一侧，且光敏检测单元15中的P型半导体层153通过透明电极19与对应的信号线L电连接；光敏检测单元15中的N型半导体层151与控制电路电连接。上述透明电极19可以采用氧化铟锡等透明导电材料制作，这样不会影响手指F的反射光射向指纹识别单元15。

如图2所示，上述控制电路可以包括第一晶体管TFT1和第二晶体管TFT2，其中，第一晶体管TFT1可以包括第一有源层T1、第一栅极G1、第一源极S1、第一漏极D1，第一电极11与第一漏极D1电连接，从而可以通过第一晶体管TFT1控制发光层14发光。第二晶体管TFT2可以包括第二有源层T2、第二栅极G2、第二源极S2、第二漏极D2，光敏检测单元15中的N型半导体层151与第二源极S2电连接，从而可以通过第二晶体管TFT2控制指纹识别过程。

在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图8所示，还可以包括：位于发光层14与第二电极13之间的有机抑制层；

有机抑制层，包括：分别与各光敏检测单元15对应的多个有机抑制单元201。

在实际工艺过程中，一般采用蒸镀工艺并采用开放式掩膜版(Open Mask)制作第二电极13，然而，由于无法在开放式掩膜版中设置分别与各第三开口U3对应的遮挡部，因而无法直接采用开放式掩膜版形成图案化的第二电极13，本发明实施中，通过采用掩膜版对除各光敏检测单元15外的位置进行遮挡，采用蒸镀工艺形成一层有机抑制层，该有机抑制层包括多个分别与各光敏检测单元15对应的多个有机抑制单元201，然后采用开放式掩膜版在有机抑制层之上蒸镀第二电极，由于有机抑制层可以抑制第二电极成膜，因而，第二电极无法在各有机抑制单元201位置处成膜，从而形成具有多个第三开口U3的第二电极13。由于有机抑制层为透明膜层，因而，有机抑制单元201不会影响手指F的反射光穿过，因而，有机抑制单元201无需去除，另外，有机抑制单元201也可以起到隔绝第二电极13与光敏检测单元15的作用。

第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：上述显示面板，该显示装置可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。由于该显示装置解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。

第三方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法，由于该制作方法解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该制作方法的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法，如图9所示，包括：

S301、参照图10，在衬底基板10之上形成多个光敏检测单元15以及多个第一电极11；

S302、参照图11，在第一电极11所在膜层之上形成像素定义层12，并对像素定义层12进行图形化，得到多个第一开口U1和多个第二开口U2；例如，可以采用感光材料形成像素定义层12，并采用光刻工艺形成多个第一开口U1和多个第二开口U2；

S303、参照图12，在像素定义层12之上形成发光层14；在具体实施时，可以采用蒸镀工艺形成发光层14；

S304、在发光层14之上形成图案化的第二电极13，以得到多个第三开口U3，得到图2所示的结构。

本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中，通过对像素定义层进行图形化，得到分别与各光敏检测单元对应的多个第二开口，并形成图案化的第二电极，得到分别与各第二开口对应的对个第三开口，从而使手指的反射光直接穿过第三开口和第二开***向光敏检测单元，减少反射光的损失，增大射向光敏检测单元的光线的强度，提高指纹识别精度。

在具体实施时，在上述步骤S301之前，还可以包括：在衬底基板10之上形成控制电路，具体地，可以形成第一晶体管TFT1和第二晶体管TFT2中的各膜层，以及形成平坦层17。在上述步骤S301之后，在上述步骤S302之前，还可以包括：形成分别与光敏检测单元15对应的多个透明电极19及多个信号线L。

在上述步骤S302之后，上述步骤S303之前，还可以包括：采用同一次构图工艺形成隔垫物18和支撑结构16。上述步骤S303中，还可以包括：形成空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层等功能层。

具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述步骤S304，可以包括：

如图13所示，采用掩膜版M对除各光敏检测单元15外的位置进行遮挡，在发光层14之上蒸镀一层有机抑制层，图13中向下箭头表示蒸镀工艺；有机抑制层用于抑制第二电极成膜；如图14所示，形成的有机抑制层包括：分别与各光敏检测单元15对应的多个有机抑制单元201；

在有机抑制层之上蒸镀第二电极13，以形成图形化的第二电极13，得到图2所示的结构。

在实际工艺过程中，一般采用蒸镀工艺并采用开放式掩膜版(Open Mask)制作第二电极13，然而，由于无法在开放式掩膜版中设置分别与各第三开口U3对应的遮挡部，因而无法直接采用开放式掩膜版形成图案化的第二电极13，本发明实施中，通过采用掩膜版对除各光敏检测单元15外的位置进行遮挡，采用蒸镀工艺形成一层有机抑制层，该有机抑制层包括多个分别与各光敏检测单元15对应的多个有机抑制单元201，然后采用开放式掩膜版在有机抑制层之上蒸镀第二电极，由于有机抑制层可以抑制第二电极成膜，因而，第二电极无法在各有机抑制单元201位置处成膜，从而形成具有多个第三开口U3的第二电极13。由于有机抑制层为透明膜层，因而，有机抑制单元201不会影响手指F的反射光穿过，因而，有机抑制单元201无需去除。

本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，通过在像素定义层中设置分别与各光敏检测单元对应的多个第二开口，在第二电极中设置分别与各第二开口对应的对个第三开口，且第三开口在衬底基板上的正投影与对应的光敏检测单元在衬底基板上的正投影具有交叠区域，从而使手指的反射光直接穿过第三开口和第二开***向光敏检测单元，减少反射光的损失，增大射向光敏检测单元的光线的强度，提高指纹识别精度。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (12)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的多个第一电极，位于所述第一电极背离所述衬底基板一侧的像素定义层，位于所述像素定义层背离所述衬底基板一侧的第二电极，位于所述第一电极与所述第二电极之间的发光层，以及位于所述发光层背离所述第二电极一侧的多个光敏检测单元；

所述像素定义层，包括：分别暴露各所述第一电极的多个第一开口，以及分别与各所述光敏检测单元对应的多个第二开口；

所述第二电极，包括：分别与各所述第二开口对应的多个第三开口；

所述第三开口在所述衬底基板上的正投影与对应的所述光敏检测单元在所述衬底基板上的正投影具有交叠区域。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二电极覆盖所述第二开口的侧壁；

在所述衬底基板指向所述发光层的方向上，所述第二开口在平行于所述衬底基板方向上的截面面积逐渐增大。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述像素定义层与所述第二电极之间的多个支撑结构；

所述支撑结构包括与所述第二开口对应的第四开口；

所述第二电极覆盖所述第四开口的侧壁；

在所述衬底基板指向所述发光层的方向上，所述第四开口在平行于所述衬底基板方向上的截面面积逐渐增大。

4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，第一倾斜角大于或等于第二倾斜角；

所述第一倾斜角为所述第二开口的侧壁与所述像素定义层的底面之间的夹角；所述像素定义层的底面为所述像素定义层靠近所述衬底基板一侧的表面；

所述第二倾斜角为所述第四开口的侧壁与所述像素定义层的顶面之间的夹角；所述像素定义层的顶面为所述像素定义层远离所述衬底基板一侧的表面。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一倾斜角大于或等于45°且小于90°；

所述第二倾斜角大于或等于15°且小于或等于45°。

6.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二开口的侧壁为平面或弧面；

所述第四开口的侧壁为平面或弧面。

7.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层包括不透光的材料。

8.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述第一电极靠近衬底基板一侧的平坦层；

所述光敏检测单元位于所述衬底基板与所述平坦层之间。

9.如权利要求1～8任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述发光层与所述第二电极之间的有机抑制层；

所述有机抑制层，包括：分别与各所述光敏检测单元对应的多个有机抑制单元。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1～9任一项所述的显示面板。

11.一种如权利要求1～9任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板之上形成多个光敏检测单元以及多个第一电极；

在所述第一电极所在膜层之上形成像素定义层，并对所述像素定义层进行图形化，得到多个第一开口和多个第二开口；

在所述像素定义层之上形成发光层；

在所述发光层之上形成图案化的第二电极，以得到多个第三开口。

12.如权利要求11所述的制作方法，其特征在于，所述在所述发光层之上形成图案化的第二电极，以得到多个第三开口，包括：

采用掩膜版对除各所述光敏检测单元外的位置进行遮挡，在所述发光层之上蒸镀一层有机抑制层；所述有机抑制层用于抑制所述第二电极成膜；

在所述有机抑制层之上蒸镀所述第二电极，以形成图形化的所述第二电极。

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