CN108764147A - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，用以提高指纹识别的精度。该显示面板的平坦化层具有开口区和非开口区，开口区在衬底基板所在平面的投影为第一投影，非开口区在衬底基板所在平面的投影为第二投影，第一投影与第二投影不交叠；平坦化层包括位于开口区的凹陷部与连接过孔，凹陷部与连接过孔为连通结构；在非开口区的平坦化层具有第一厚度，在开口区的所述平坦化层具有第二厚度，其中，第一厚度大于第二厚度；该显示面板还包括位于开口区的第一电极，以及位于第一电极远离平坦化层的一侧的发光层；发光层在衬底基板所在平面的投影为第三投影，第三投影覆盖第一投影。上述显示面板用于实现画面显示。

Description

一种显示面板及显示装置

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

【背景技术】

近年来，随着显示技术的不断发展，采用指纹识别以实现用户隐私保护的显示装置也越来越多。用户在操作带有指纹识别功能的显示装置时，只需用手指触摸显示屏，即可实现权限验证，操作简单。

现有的具有指纹识别功能的显示面板在进行指纹识别时，光源发出的光线经由手指反射进入指纹识别单元，指纹识别单元根据指纹的谷脊反射光线的不同以对识别不同的指纹。但是，基于现有的显示面板的结构，经指纹反射的光线穿透显示模组到达指纹识别单元的光线数量较少，影响指纹识别的精度。

【发明内容】

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板，用以解决现有技术中指纹识别精度低的问题。

一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

衬底基板；

驱动电路，位于所述衬底基板的一侧；

平坦化层，位于所述驱动电路远离所述衬底基板的一侧；所述平坦化层具有开口区和非开口区，所述开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第一投影，所述非开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第二投影，所述第一投影与所述第二投影不交叠；其中所述平坦化层还包括位于所述开口区的凹陷部与连接过孔，所述凹陷部与所述连接过孔为连通结构；在所述非开口区的所述平坦化层具有第一厚度，在所述开口区的所述平坦化层具有第二厚度，其中，所述第一厚度大于所述第二厚度；

第一电极，位于所述开口区；所述第一电极与所述驱动电路通过所述连接过孔电连接；

发光层，位于所述第一电极远离所述平坦化层的一侧；

第二电极，位于所述发光层远离所述第一电极的一侧。

另一方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板的一侧形成驱动电路；

在所述驱动电路远离所述衬底基板的一侧形成平坦化层；

对所述平坦化层进行图案化处理，使所述平坦化层形成开口区和非开口区，位于所述非开口区的所述平坦化层具有第一厚度，位于所述开口区的所述平坦化层具有第二厚度，其中，所述第一厚度大于第二厚度；所述开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第一投影，所述非开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第二投影，所述第一投影与所述第二投影不交叠；在所述平坦化层的开口区形成凹陷部和连接过孔，其中所述凹陷部与所述连接过孔为连通结构；

在所述开口区形成第一电极；

在所述第一电极远离所述平坦化层的一侧形成发光层；所述发光层在所述衬底基板所在平面的投影为第三投影，所述第三投影覆盖所述第一投影；

在所述发光层远离所述第一电极的一侧形成第二电极。

再一方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述显示面板。

本实施例通过在平坦化层上设置开口区和非开口区，并在开口区中设置第一电极和连接过孔，使第一电极与驱动电路通过连接过孔电连接。并且，本实施例还在第一电极远离平坦化层的一侧设置发光层，使发光层在衬底基板所在平面的投影覆盖开口区在衬底基板所在表面的投影，即，使发光层的一部分位于平坦化层所包括的开口区中，这样，就相当于使平坦化层复用为像素定义层，利用平坦化层上的开口区限定出发光层的位置，从而就避免了在该显示面板中同时设置像素定义层和平坦化层，进而在进行指纹识别时，经由触摸主体反射的光线在向指纹识别单元的传播过程中就能够穿过较少的膜层，从而提高指纹识别单元接收到的光线强度，进而提高指纹识别的精度。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1是现有技术中一种显示面板的截面示意图；

图2是本发明实施例所提供的所提供的一种显示面板的截面示意图；

图3是本发明实施例中光感指纹识别模组的示意图；

图4为本发明实施例中光感指纹识别模组的等效电路图；

图5是本发明实施例中光感指纹识别模组的膜层示意图

图6为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视示意图；

图7是本发明实施例所提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；

图8为与图7对应的显示面板的制备方法的结构流程示意图

图9为本发明实施例所提供的在平坦化层形成凹陷部和连接过孔的一种制备方法示意图；

图10为本发明实施例所提供的在平坦化层形成凹陷部和连接过孔的另一种制备方法示意图；

图11是本发明实施例所提供的所提供的一种显示装置的示意图。

【具体实施方式】

为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

应当理解，尽管在本发明实施例中可能采用术语第一、第二等来描述电极，但这些电极不应限于这些术语。这些术语仅用来将各个电极彼此区分开。例如，在不脱离本发明实施例范围的情况下，第一电极也可以被称为第二电极，类似地，第二电极也可以被称为第一电极。

如图1所示，图1为现有技术中一种显示面板的截面示意图。该显示面板包括平坦化层1’和像素定义层2’，这样，光源3’发出的光线经指纹5’反射后，需要依次经过显示面板内部包括像素定义层2’和平坦化层1’在内的多层膜层才能到达指纹识别单元4’，光线在传播过程中损失较大，导致进入指纹识别单元4’的光强较低，影响指纹识别的精度。

基于此，本实施例提供一种显示面板，如图2所示，图2为本实施例提供的一种显示面板的截面示意图；该显示面板包括：衬底基板1，驱动电路2，平坦化层3，第一电极41，发光层42，第二电极43。

其中，如图2所示，驱动电路2位于衬底基板1的一侧，平坦化层3位于驱动电路2远离衬底基板1的一侧，并且，该平坦化层3具有开口区31和非开口区32，开口区31在衬底基板1所在平面的投影为第一投影，非开口区32在衬底基板1所在平面的投影为第二投影，第一投影与第二投影不交叠。具体的，平坦化层3还包括位于开口区31的凹陷部311与连接过孔312，凹陷部311与连接过孔312为连通结构。沿垂直于衬底基板1的方向，在非开口区32的平坦化层3具有第一厚度d1，在凹陷部311的平坦化层3具有第二厚度d2，其中，第一厚度d1大于第二厚度d2。连接过孔312贯穿平坦化层3。

需要说明的是，对于凹陷部311来说，其横截面形状可以为梯形，矩形，三角形等多种形状，本实施例对此不做限定。相应的，当凹陷部311的横截面形状为梯形或三角形等形状时，对应于凹陷部311的不同位置处的平坦化层3其厚度也可能存在不同，但均小于第一厚度d1。示例性的，在图2中以凹陷部311的横截面形状为梯形，以位置m和位置n为例，在位置m处，平坦化层3具有第三厚度d3，在位置n处，平坦化层3具有第二厚度d2，其中，第一厚度d1大于第三厚度d3，第三厚度d3大于第二厚度d2。

上述第一电极41位于开口区31，第一电极41与驱动电路2通过连接过孔312电连接。发光层42位于第一电极41远离平坦化层3的一侧，且发光层42在衬底基板1所在平面的投影为第三投影，第三投影覆盖第一投影。第二电极43位于发光层42远离第一电极41的一侧。

本实施例通过在平坦化层3上设置开口区31和非开口区32，其中，开口区31在衬底基板1所在平面的投影为第一投影，并在开口区31中设置第一电极41和连接过孔312，使第一电极41与驱动电路2通过连接过孔312电连接。并且，本实施例还在第一电极41远离平坦化层3的一侧设置发光层42，使发光层42在衬底基板1所在平面的投影覆盖第一投影，即，使发光层42的一部分位于平坦化层3所包括的开口区31中，这样，就相当于使平坦化层3复用为像素定义层，利用平坦化层3上的开口区31限定出发光层42的位置，从而就避免了在该显示面板中同时设置像素定义层和平坦化层，进而在进行指纹识别时，如图2所示，经由触摸主体8反射的光线在向指纹识别单元的传播过程中就能够穿过较少的膜层，从而提高指纹识别单元接收到的光线强度，进而提高指纹识别的精度。

需要说明的是，在显示面板的制作过程中，由于发光层42的制备通常采用蒸镀工艺，因此，可能会使发光层42在目标区域(即图2所示的开口区31)之外发生一定的扩散，该扩散区域称之为shadow区域。在保证相邻两个发光层42之间的显示互不干扰的前提下，本实施例对发光层42在开口区31之外的部分不做限定，只需保证发光层42中的大部分位于开口区31即可。

示例性的，如图2所示，上述平坦化层3为单层结构，以使该显示面板中所包括的膜层数量尽量少，这样经由触摸主体8反射的光线在向指纹识别单元的传播过程中就能够穿过较少的膜层，从而提高指纹识别单元接收到的光线强度，进而提高指纹识别的精度提高。

示例性的，该显示面板还包括多个由开口区31定义的子像素4，每个子像素4包括如上所述的第一电极41、发光层42和第二电极43，且每个子像素4与驱动电路2对应设置。其中，驱动电路2包括电容21和多个薄膜晶体管22(图2中以一个薄膜晶体管为例进行说明)，每个薄膜晶体管22包括栅极220、源极221和漏极222，其中，第一电极41与其中一个薄膜晶体管22的源极221或漏极222电连接。

可选的，如图2所示，上述第一电极41包括直接相连的第一主电极411和第一连接电极412，第一连接电极412的一端与第一主电极411电连接，第一连接电极412的另一端与薄膜晶体管22的源极221或漏极222电连接；其中，第一主电极411覆盖凹陷部311，第一连接电极412设置于连接过孔312中。

示例性的，上述第一厚度d1在2μm-3μm之间；第二厚度d2在1.0μm-1.7μm之间，以使平坦化层3对应开口区31的部分形成一凹陷部311，以在后续的制作工艺中在该凹陷部311背离衬底基板的一侧形成第一电极41和发光层42，使平坦化层3起到限定子像素的位置的作用，即，使平坦化层3起到像素定义层的作用，减少该显示面板中的膜层数量，这样经由触摸主体8反射的光线在向指纹识别单元的传播过程中的损失就会较少，从而提高指纹识别单元接收到的光线强度，进而提高指纹识别的精度。

可选的，平坦化层3可以选用有机光阻材料制成。本实施例通过选用有机光阻材料来制作平坦化层3，后续可以通过曝光、显影等工艺在平坦化层3上制备出开口区31。

示例性的，如图2示，显示面板还包括光感指纹识别模组5，该光感指纹识别模组5位于衬底基板1靠近发光层42的一侧。在进行指纹识别时，上述发光层42复用为光感指纹识别模组5的光源。发光层42发出的光线经触摸主体8反射后，经过平坦化层3和显示面板中的其他膜层到达指纹识别模组5，指纹识别模组5对接收到的光线进行分析判断，以进行指纹识别。由此可以看出，本实施例通过将平坦化层3复用为像素定义层，通过减少显示面板中的膜层数量，能够减少由触摸主体8反射的光线射向指纹识别模组5的过程中的损失，从而提高指纹识别的精度。

如图3所示，图3为本实施例中光感指纹识别模组的示意图，其中，该光感指纹识别模组5包括光线感应模块51、识别模块52和反馈模块53。具体的，在进行指纹识别时，光线感应模块51用于感应接收到的光线强度；识别模块52用于根据光线感应模块51接收到的光线强度，识别指纹的谷和脊；反馈模块53用于将识别模块52识别出的指纹结果反馈至驱动芯片(未图示)。

可选的，如图4和图5所示，图4为本实施例中光感指纹识别模组的等效电路图，图5是本实施例中光感指纹识别模组的膜层示意图。其中，光感指纹识别模组5包括光敏二极管D，存储电容C和薄膜晶体管T；光敏二极管D的正极D1与存储电容C的第一电极电连接，负极D2与存储电容C的第二电极以及薄膜晶体管T的源极Ts电连接；薄膜晶体管T的栅极Tg与开关控制线Gate电连接，漏极Td与信号检测线Data电连接。

具体的，该光敏二极管D用于将接收到的光信号转换成电流信号。

可选的，如图5所示，光敏二极管D包括位于正极D1和负极D2之间的PIN结D3，其中，PIN结D3由P型半导体、N型半导体以及在P型半导体和N型半导体之间的本征半导体(I型层)组成。PIN结D3具有光敏特性和单向导电性。当无光照时，PIN结D3具有很小的饱和反向漏电流，即暗电流，此时光敏二极管D截止。当受到光照时，PIN结D3的饱和反向漏电流大大增加，形成光电流，且，该光电流随光强度的变化而变化。

下面结合图4和图5对指纹识别的原理进行详细说明。整个指纹识别阶段包括准备阶段，指纹信号采集阶段和指纹信号检测阶段。在进行指纹识别时，节点H1输入低电压信号(例如大小为-5V的恒定电压信号)，信号检测线Data输入高电压信号(例如大小为1.5V的恒定电压信号)。

在准备阶段，驱动芯片(未图示)通过开关控制线Gate控制光感指纹识别模组5的薄膜晶体管T导通，存储电容C充电，直至存储电容C充电完成。

在指纹信号采集阶段，驱动芯片(未图示)通过开关控制线Gate控制薄膜晶体管T截止，当用户将手指按压在显示面板上时，指纹识别光源发出的光照射到手指上，并在指纹表面反射形成反射光线。经指纹反射的反射光线入射到光感指纹识别模组5中，被光感指纹识别模组5的光敏二极管D接收，形成光电流，该光电流自节点H2流向节点H1，从而使得节点H2的电位发生变化。

在指纹信号检测阶段，通过直接检测节点H2的电位变化量，进而确定光电流的大小。可选地，在指纹信号检测阶段，还可以利用开关控制线Gate控制光感指纹识别模组5的薄膜晶体管T的开启，此时存储电容C两电极之间存在电位差，存储电容C处于充电状态，以通过检测存储电容C充入的电荷量来确定光电流的大小。

继续参见图2，由于按压在显示面板的手指指纹中的脊81与显示面板的出光面接触，谷82不与显示面板的出光面接触，致使光感指纹识别模组5接收到的在脊81和谷82的位置处形成的反射光的强度不同，从而使得在脊81的位置处形成的反射光和在谷82的位置处形成的反射光转换成的光电流的大小不同，从而可以通过对不同位置处光电流的大小的判断以进行指纹识别。

本实施例提供的显示面板，通过将上述平坦化层3复用为像素定义层，利用平坦化层3限定出发光层42的位置后，经过测试，光线感应模块51接收到的光线量能够提高到占光源发出的光线量的70％-80％，而对于现有技术中包括平坦化层和像素定义层两层膜层的显示面板来说，该数值仅为50％-60％，因此可以看出，采用本实施例提供的显示面板，能够提高光线感应模块51接收到的光线的强度，从而提高指纹识别精度。

可选的，如图6所示，图6为本实施例提供的一种显示面板的俯视示意图；该显示面板包括一指纹识别区域9，本实施例可以在指纹识别区域9中，将上述平坦化层复用为像素定义层，也可以在该显示面板的除了指纹识别区域9以外的其他区域中，也将平坦化层复用为像素定义层，本实施例对此不作限定。

本实施例还提供了一种显示面板的制备方法，如图7和图8所示，图7为本实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图，图8为与图7对应的显示面板的制备方法的结构流程示意图。

该制备方法包括：

S1：提供一衬底基板1；示例性的，该衬底基板1可以为柔性基板，柔性基板的材料本发明不做限定，作为示例，该柔性基板可以选用聚酰亚胺(PI)，聚酰胺(PA)、聚碳酸酯(PC)中的任意一种。

S2：在衬底基板1的一侧形成驱动电路2；示例性的，如图7所示，在衬底基板1的一侧形成驱动电路2，包括，在衬底基板1的一侧形成多个存储电容21和多个薄膜晶体管22(在图8中以一个薄膜晶体管22为例进行说明)，每个薄膜晶体管22包括栅极220，源极221、漏极222和有源层223。可以理解的是，在制作过程中，驱动电路2所包括的各个元件所在的膜层之间，例如薄膜晶体管22的栅极220和源极221或漏极222之间，存储电容21的两个极板之间，还包括各种层间绝缘层，层间绝缘层的制作方法与现有技术一样，此处不再赘述。

S3：在驱动电路2远离衬底基板1的一侧形成平坦化层3；示例性的，平坦化层3的材料为有机光阻材料。

S4：对平坦化层3进行图案化处理。具体的，对平坦化层3进行图案化处理包括：使平坦化层3形成为开口区31和非开口区32，开口区31在衬底基板1所在平面的投影为第一投影，非开口区在衬底基板1所在平面的投影为第二投影，第一投影与第二投影不交叠；在平坦化层3的开口区31形成凹陷部311和连接过孔312，其中凹陷部311与连接过孔312为连通结构。位于非开口区32的平坦化层3具有第一厚度d1，位于凹陷部311的平坦化层3具有第二厚度d2，其中，第一厚度d1大于第二厚度d2；连接过孔312贯穿平坦化层3。

S5：在开口区31形成第一电极41。

S6：在第一电极41远离平坦化层3的一侧形成发光层42；其中，发光层42在衬底基板1所在平面的投影为第三投影，第三投影覆盖第一投影。

S7：在发光层42远离第一电极41的一侧形成第二电极43。

本实施例通过在平坦化层3上设置开口区31和非开口区32，其中，开口区31在衬底基板1所在平面的投影为第一投影，并在开口区31中设置第一电极41和连接过孔312，使第一电极41与驱动电路2通过连接过孔312电连接。并且，本实施例还在第一电极41远离平坦化层3的一侧设置发光层42，使发光层42在衬底基板1所在平面的投影覆盖第一投影，即，使发光层42的一部分位于平坦化层3所包括的开口区31中，这样，就相当于使平坦化层3复用为像素定义层，利用平坦化层3上的开口区31限定出发光层42的位置，从而就避免了在该显示面板中同时设置像素定义层和平坦化层，进而在进行指纹识别时，经由触摸主体反射的光线在向指纹识别单元的传播过程中就能够穿过较少的膜层，从而使提高指纹识别单元接收到的光线强度，进而提高指纹识别的精度。

示例性的，上述步骤S4对平坦化层3进行图案化处理，使平坦化层形成开口区31和非开口区32，在平坦化层3的开口区31形成凹陷部311和连接过孔312的方法有多种，以下分别进行说明：

如图9所示，图9为本实施例所提供的在平坦化层形成凹陷部和连接过孔的一种制备方法示意图；采用半灰阶掩膜板6对平坦化层3进行图案化处理，以使平坦化层形成开口区31和非开口区32，并在平坦化层3的开口区31形成凹陷部311和连接过孔312。

具体的，如图9所示，该半灰阶掩膜板6包括第一透光区61、第二透光区62和第三透光区63，第一透光区61的透光率、第二透光区62的透光率和第三透光区63的透光率互不相同。

可以理解的是，因为正性光阻材料经曝光的部分在后续的显影过程中会被去除掉，而未曝光的部分则不会被去除掉。负性光阻材料则相反，被曝光的部分在后续的显影过程中不会被去除，而未经曝光的部分则会被去除。因此，若平坦化层3采用正性光阻材料制成，可以使半灰阶掩膜板6的第一透光区61的透光率小于第二透光区62的透光率，第二透光区62的透光率小于第三透光区63的透光率。这样，在经过曝光和显影后，平坦化层3中与第一透光区61对应的部分去除掉的厚度最小，与第三透光区63对应的部分去除掉的厚度最大，与第二透光区62对应的部分去除掉的厚度居于上述二者之间，相应的，就能够使平坦化层3中与第一透光区61对应的部分留下的厚度d1将大于与第二透光区62对应的厚度d2，与第二透光区62对应的厚度d3大于与第三透光区63对应的厚度。并且，由于半灰阶掩膜板的透光区的透光能力可以根据实际需要进行调节，因此，本实施例可以调节半灰阶掩膜板6的第一透光区61、第二透光区62和第三透光区63的透光率，使平坦化层3中对应第三透光区63的部分经曝光和显影后被完全去除，以使平坦化层3中对应第三区域63的部分形成连接过孔312，对应第二透光区62的部分形成凹陷部311，对应第一透光区61的部分形成非开口区32。

类似的，若平坦化层3选用负性光阻材料，可以使半灰阶掩膜板6的第一透光区61的透光率大于第二透光区62的透光率，第二透光区62的透光率大于第三透光区63的透光率。这样，在经过曝光和显影后，平坦化层3中与第一透光区61对应的部分去除掉的厚度较小，与第三透光区63对应的部分去除掉的厚度最大，与第二透光区62对应的部分去除掉的厚度居于上述二者之间，相应的，就能够使平坦化层3中与第一透光区61对应的部分留下的厚度d1将大于与第二透光区62对应的厚度d2，与第二透光区62对应的厚度d3大于与第三透光区63对应的厚度。并且，本实施例同样可以调节半灰阶掩膜板6的不同透光区的透光率，使平坦化层3中对应第三透光区63的部分经曝光和显影后被完全去除，以使平坦化层3中对应第三透光区63的部分形成连接过孔312，对应第二透光区62的部分形成凹陷部311，对应第一透光区61的部分形成非开口区32。

通过上述分析可以看出，本实施例通过选用半灰阶掩膜板6，仅通过一道工艺便可在平坦化层3形成开口区31和非开口区32，并在开口区31形成凹陷部311和连接过孔312，简化了工艺流程。

具体的，上述采用半灰阶掩膜板6对平坦化层3进行图案化处理的过程包括：采用半灰阶掩膜板6依次对平坦化层3进行曝光、显影，以得到连接过孔312、凹陷部311和非开口区32；其中，连接过孔312分别与凹陷部311和驱动电路2相接触。示例性的，上述采用半灰阶掩膜板对平坦化层3进行曝光的时间为2min-3min，显影的时间为40s-50s。

除了上述采用半灰阶掩膜板6对平坦化层3进行图案化处理的方法外，如图10所示，图10为本实施例所提供的在平坦化层形成凹陷部和连接过孔的另一种制备方法示意图；本实施例还可以依次采用第一掩膜板71和第二掩膜板72对平坦化层3进行图案化处理。

具体的，如图10所示，首先，采用第一掩膜板71对平坦化层3的第一区域81进行图案化处理，使平坦化层3中与第一区域81对应的部分被去除掉一定的厚度，示例性的，如图10所示，第一掩膜板71具有开口710，该开口710对应第一区域81，经第一掩膜板71的图案化处理后，第一区域81对应的平坦化层3具有第二厚度d2，平坦化层3中其余位置具有第一厚度d1，第一厚度d1大于第二厚度d2，以在平坦化层3与第一区域81对应的位置形成开口区31，其余位置形成非开口区32。

然后，采用第二掩膜板72对平坦化层3的第二区域82进行图案化处理。其中，第二掩膜板72具有开口720，且，第一掩膜板71的开口710大于第二掩膜板72的开口720，第二区域82位于第一区域81内。具体的，如图9所示，经第二掩膜板72的图案化处理后，在平坦化层3的开口区31内与第二区域82对应的位置形成贯穿平坦化层3的连接过孔312，在平坦化层3的开口区31内的其他位置形成凹陷部311。

可选的，上述采用第一掩膜板71对平坦化层3的第一区域81进行图案化处理，包括：

采用第一掩膜板71对平坦化层3的第一区域81进行曝光、显影，得到凹陷部311；

采用第二掩膜板72对平坦化层3的第二区域82进行图案化处理，包括：

采用第二掩膜板72对平坦化层3的第二区域82进行曝光、处理，得到连接过孔312。

可选的，上述采用第一掩膜板对平坦化层3的第一区域进行曝光的时间为2min-3min，显影的时间为40s-50s；采用第二掩膜板对平坦化层的第二区域进行曝光的时间为2min-3min，显影的时间为40s-50s。

在采用以上两种方式形成凹陷部311和连接过孔312后，如图8所示，上述步骤S5在开口区31形成第一电极41，包括：在连接过孔312形成第一连接电极412，在凹陷部311形成第一主电极411；第一连接电极412的一端与第一主电极412接触，第一连接电极412的另一端与驱动电路2接触。

如图11所示，图11为本实施例提供的显示装置的示意图。本实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板100，该显示面板100包括指纹识别区域9。其中，显示面板100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明，此处不再赘述。当然，图11所示的显示装置仅仅为示意说明，该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。

本实施例提供的显示装置，通过在平坦化层上设置开口区和非开口区，其中，开口区在衬底基板所在平面的投影为第一投影，并在开口区中设置第一电极和连接过孔，使第一电极与驱动电路通过连接过孔电连接。并且，本实施例还在第一电极远离平坦化层的一侧设置发光层，使发光层在衬底基板1所在平面的投影覆盖第一投影，即，使发光层的一部分位于平坦化层所包括的开口区中，这样，就相当于使平坦化层复用为像素定义层，利用平坦化层上的开口区限定出发光层的位置，从而就避免了在该显示面板中同时设置像素定义层和平坦化层，进而在进行指纹识别时，经由触摸主体反射的光线在向指纹识别单元的传播过程中就能够穿过较少的膜层，从而提高指纹识别单元接收到的光线强度，进而提高指纹识别的精度。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

Claims (17)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

衬底基板；

驱动电路，位于所述衬底基板的一侧；

平坦化层，位于所述驱动电路远离所述衬底基板的一侧；所述平坦化层具有开口区和非开口区，所述开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第一投影，所述非开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第二投影，所述第一投影与所述第二投影不交叠；其中所述平坦化层还包括位于所述开口区的凹陷部与连接过孔，所述凹陷部与所述连接过孔为连通结构；在所述非开口区的所述平坦化层具有第一厚度，在所述凹陷部的所述平坦化层具有第二厚度，其中，所述第一厚度大于所述第二厚度；

第一电极，位于所述开口区；所述第一电极与所述驱动电路通过所述连接过孔电连接；

发光层，位于所述第一电极远离所述平坦化层的一侧；且，所述发光层在所述衬底基板所在平面的投影为第三投影，所述第三投影覆盖所述第一投影；

第二电极，位于所述发光层远离所述第一电极的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述平坦化层为单层结构。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括多个由所述开口区定义的子像素；所述子像素与所述驱动电路对应设置；其中，

所述驱动电路包括电容和多个薄膜晶体管，每个所述薄膜晶体管包括栅极、源极和漏极，其中，所述第一电极与其中一个所述薄膜晶体管的源极或漏极电连接。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极包括直接相连的第一主电极和第一连接电极，所述第一连接电极的一端与所述第一主电极电连接，所述第一连接电极的另一端与所述薄膜晶体管的源极或漏极电连接；

其中，所述第一主电极覆盖所述凹陷部；所述第一连接电极设置于所述连接过孔中。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一厚度的范围为2μm-3μm；

第二厚度的范围为1.0μm-1.7μm。

6.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述平坦化层为有机光阻材料。

7.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，所述显示面板还包括光感指纹识别模组；所述发光层复用为所述光感指纹识别模组的光源；

所述光感指纹识别模组包括光线感应模块，识别模块和反馈模块；

其中，所述光线感应模块用于感应接收到的光线强度；

所述识别模块用于根据所述光线感应模块接收到的光线强度，识别指纹的谷和脊；

所述反馈模块用于将所述识别模块识别出的指纹结果反馈至驱动芯片。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述光线感应模块接收到的光线量占所述光源发出的光线量的70％-80％。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板的一侧形成驱动电路；

在所述驱动电路远离所述衬底基板的一侧形成平坦化层；

对所述平坦化层进行图案化处理，使所述平坦化层形成开口区和非开口区，所述开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第一投影，所述非开口区在所述衬底基板所在平面的投影为第二投影，所述第一投影与所述第二投影不交叠；在所述平坦化层的开口区形成凹陷部和连接过孔，其中所述凹陷部与所述连接过孔为连通结构；位于所述非开口区的所述平坦化层具有第一厚度，位于所述凹陷部的所述平坦化层具有第二厚度，其中，所述第一厚度大于第二厚度；

在所述开口区形成第一电极；

在所述第一电极远离所述平坦化层的一侧形成发光层；所述发光层在所述衬底基板所在平面的投影为第三投影，所述第三投影覆盖所述第一投影；

在所述发光层远离所述第一电极的一侧形成第二电极。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述对平坦化层进行图案化处理，在所述平坦化层的开口区形成所述凹陷部和所述连接过孔，包括：

采用半灰阶掩膜板对所述平坦化层进行图案化处理；所述半灰阶掩膜板包括第一透光区、第二透光区和第三透光区，所述第一透光区的透光率、所述第二透光区的透光率和所述第三透光区的透光率互不相同。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述采用半灰阶掩膜板对所述平坦化层进行图案化处理，包括：

采用所述半灰阶掩膜板对所述平坦化层的开口区进行曝光、显影，得到所述连接过孔和所述凹陷部；所述连接过孔分别与所述凹陷部和所述驱动电路相接触。

12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，采用所述半灰阶掩膜板对所述平坦化层的开口区进行曝光的时间为2min-3min，显影的时间为40s-50s。

13.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述对平坦化层进行图案化处理，包括：

采用第一掩膜板对所述平坦化层的第一区域进行图案化处理；

采用第二掩膜板对所述平坦化层的第二区域进行图案化处理；

所述第二区域位于所述第一区域内；

所述第一掩膜板的开口大于所述第二掩膜板的开口。

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述采用第一掩膜板对所述平坦化层的第一区域进行图案化处理，包括：

采用所述第一掩膜板对所述平坦化层的第一区域进行曝光、显影，得到所述凹陷部；

所述采用第二掩膜板对所述平坦化层的第二区域进行图案化处理，包括：

采用所述第二掩膜板对所述平坦化层的第二区域进行曝光、处理，得到所述连接过孔。

15.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于，采用所述第一掩膜板对所述平坦化层的第一区域进行曝光的时间为2min-3min，显影的时间为40s-50s；

采用所述第二掩膜板对所述平坦化层的第二区域进行曝光的时间为2min-3min，显影的时间为40s-50s。

16.根据权利要求11或14所述的制备方法，其特征在于，所述第一电极包括第一主电极和第一连接电极；

在所述开口区形成所述第一电极，包括：在所述连接过孔形成所述第一连接电极，在所述凹陷部形成所述第一主电极；所述第一连接电极的一端与所述第一主电极接触，所述第一连接电极的另一端与所述驱动电路接触。

17.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-8任一项所述的显示面板。